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公开(公告)号：CN202839892U
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201190000393.6
申请日：2011-03-24
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: H01G9/155 , H01G9/0003 , H01M2/1077 , H01M10/0525 , H01M10/613 , H01M10/6555 , Y02E60/122 , Y02E60/13
Abstract: 本实用新型涉及一种蓄电设备，该蓄电设备600包括：蓄电池10、设置于蓄电池10的包装体外表面的散热板30、容纳蓄电池10以及散热板30的壳体602，在该蓄电池10中，具有正极、负极以及电解质的蓄电单元容纳于包装体内，散热板30接触于壳体602的内表面603。
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公开(公告)号：CN220584520U
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202122103282.6
申请日：2021-09-02
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本实用新型涉及一种光学滤波器、摄像装置、照相机模块及光学传感器。本实用新型提供一种即使在以将光学滤波器的外周密闭的状态配备于固体摄像装置时，在固体摄像装置制造工艺的加热时变形也少的光学滤波器及使用所述光学滤波器的装置。所述光学滤波器，包含基材，且具有从其中一个面贯通到相反的一面的细孔。所述细孔的长径优选为在从光学滤波器的正上方观察时未满36μm。
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公开(公告)号：CN119998448A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202380069481.9
申请日：2023-09-29
Abstract: 用于分析功能性分子的功能的载体或载体组，包含：编码功能性分子的候补分子的表达系统的多核苷酸、编码由既定的细胞内的响应而激活的转录调控序列或翻译调控序列的多核苷酸、以及编码可操作地与该转录调控序列或翻译调控序列连接的报告基因系统的多核苷酸。一种引起细胞内的响应的功能性分子的探索方法，包括如下步骤：将该载体或载体组导入至细胞内、以及测定该细胞中的该载体或载体组所含有的报告基因系统的表达。
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公开(公告)号：CN119836453A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202380064478.8
申请日：2023-09-08
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/02 , C08G65/34 , G03F7/023 , G03F7/032 , G09F9/30
Abstract: 本发明的一实施方式涉及一种聚合物、组合物、硬化物或显示元件，所述组合物包含具有下述式(1)所表示的结构单元的聚合物。[式(1)中，A为具有芳香族杂环的二价基，B为具有芳香环或芳香族杂环、且具有碱可溶性基的二价基，X独立地为‑O‑、‑NH‑或‑S‑。]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119768740A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202380061793.5
申请日：2023-09-25
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂，其中，能够形成即便在形成高纵横比的抗蚀剂图案时也可以充分的水平发挥感度或LWR性能、DOF性能、图案矩形性、CDU性能、图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性树脂组合物，包括：鎓盐化合物，由下述式(1)表示；树脂，包含下述式(2)所表示的结构单元(I)；以及溶剂。(式(1)中，R1、R2及R3分别独立地为碳数1～10的一价有机基，或者表示包含R1、R2及R3中的两个或三个相互结合并与这些所键结的碳原子一起构成的碳数3～20的环状结构的一价或二价的基。在R1、R2及R3中的两个构成所述环状结构的情况下，剩余的一个为碳数1～10的一价有机基。R4及R5分别独立地为氢原子、氟原子、一价烃基或一价氟化烃基。在R4及R5存在多个的情况下，多个R4及R5分别相同或不同。R6、R7及R8分别独立地为氟原子或一价氟化烃基。m1为0～8的整数。Z+为一价感放射线性鎓阳离子。)(式(2)中，R9为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基。R10为包含选自由内酯结构、环状碳酸酯结构及磺内酯结构所组成的群组中的至少一种结构的一价基。)#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119768739A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202380061791.6
申请日：2023-09-25
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂，其中，即便在形成高纵横比的抗蚀剂图案时，也能够形成可以充分的水平发挥感度或LWR性能、DOF性能、图案矩形性、CDU性能、图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性树脂组合物，包括：鎓盐化合物，由下述式(1)表示；树脂，包含具有酸解离性基的结构单元；以及溶剂。(式(1)中，R1、R2及R3分别独立地为碳数1～10的一价链状有机基。R4、R5及R6分别独立地为氢原子、氟原子、一价烃基或一价氟化烃基。在R4、R5及R6存在多个的情况下，多个R4、R5及R6分别相同或不同。Rf1为氟原子或一价氟化烃基。在Rf1存在多个的情况下，多个Rf1分别相同或不同。m1为0～8的整数。m2为1～4的整数。Z+为一价感放射线性鎓阳离子。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN115197719B
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202210290572.2
申请日：2022-03-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种液晶取向剂、液晶取向膜、以及液晶元件及其制造方法，可获得即使在因涂布不良等而液晶取向膜的膜厚变薄的情况下预倾角也稳定、且长期耐热性优异的液晶元件。本发明使液晶取向剂中含有聚合体[P]，聚合体[P]是在聚合体侧链具有能够显现通过光照射而产生自由基的自由基产生功能及通过光照射而显示出增感作用的光增感功能中的至少任一种功能的部分结构，且具有式(1)～式(4)所表示的结构单元的至少一种。X1～X4具有能够显现通过光照射而产生自由基的自由基产生功能及通过光照射而显示出增感作用的光增感功能中的至少任一种功能的部分结构。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119678105A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202380058763.9
申请日：2023-07-11
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种能够形成耐蚀刻性及埋入性优异的膜的半导体基板的制造方法及膜形成用组合物。一种半导体基板的制造方法，包括在基板上涂敷膜形成用组合物的工序，所述膜形成用组合物含有金属化合物、具有芳香族烃环结构及下述式(1)所表示的部分结构的芳香族化合物、以及溶媒，所述芳香族烃环结构的碳数为6以上。[化1](式(1)中，X为下述式(i)、式(ii)、式(iii)或式(iv)所表示的基；*分别为与构成所述芳香族烃环结构的邻接的两个碳原子的键结部位。)[化2](式(i)中，R1为氢原子或碳数1～20的一价有机基；R2为碳数1～20的一价有机基；式(ii)中，R3为氢原子或碳数1～20的一价有机基；R4为碳数1～20的一价有机基；式(iii)中，R5为碳数1～20的一价有机基；式(iv)中，R6为碳数1～20的一价有机基。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN114258573B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202080058612.X
申请日：2020-08-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的化学结构产生装置具备产生部和控制部。产生部基于化学反应列表和由一个以上的化合物构成的反应物列表，生成由一个以上的化合物构成的生成物列表。控制部将生成物列表作为新的反应物列表给予至产生部，并且进行具有反应物列表和生成物列表中的至少一种列表的数据库的更新，并使产生部基于新的反应物列表以及化学反应列表生成新的生成物列表。
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公开(公告)号：CN112534353B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN201980051934.9
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/60
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可形成分辨性优异、且能够应对铜镀敷及镍镀敷的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用所述抗蚀剂图案的镀敷造形物的制造方法、具有镀敷造形物的半导体装置，本组合物含有聚合物(A)及光酸产生剂(B)，所述聚合物(A)具有下述式(a1)所表示的结构单元(a1)、下述式(a2)所表示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所表示的结构单元(a3)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。#imgabs0#
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