-
公开(公告)号:CN119768738A
公开(公告)日:2025-04-04
申请号:CN202380061790.1
申请日:2023-09-25
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂,能够形成一种即便在形成高纵横比的抗蚀剂图案时也可以充分的水平发挥感度或LWR性能、DOF性能、图案矩形性、CDU性能、图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性树脂组合物,包含:鎓盐化合物(1),由下述式(1)表示;鎓盐化合物(2),与所述鎓盐化合物(1)不同;树脂,包含具有酸解离性基的结构单元;以及溶剂。(式(1)中,W为碳数1~40的一价链状有机基、碳数5以下的一价环状有机基或将碳数1~40的一价链状有机基与碳数5以下的环状结构组合而成的一价基。R1及R2分别独立地为氢原子、氟原子、一价烃基或一价氟化烃基。在R1及R2存在多个的情况下,多个R1及R2分别相同或不同。R3、R4及R5分别独立地为氟原子或一价氟化烃基。m1为1~8的整数。Z+为一价感放射线性鎓阳离子。)#imgabs0#
-
公开(公告)号:CN1891750A
公开(公告)日:2007-01-10
申请号:CN200610095697.0
申请日:2006-06-29
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种固化性树脂组合物,其特征在于其中含有下记成分:(A)含锡氧化铟粒子,(B)含有乙烯性不饱和基团的含氟聚合物,(C)对(B)含有乙烯性不饱和基团的含氟聚合物的溶解性高的溶剂,(D)对(A)含锡氧化铟粒子的分散稳定性强而且与(C)溶剂具有相容性的溶剂,(C)溶剂的相对蒸发速度比(D)溶剂的相对蒸发速度快。
-
公开(公告)号:CN119768740A
公开(公告)日:2025-04-04
申请号:CN202380061793.5
申请日:2023-09-25
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂,其中,能够形成即便在形成高纵横比的抗蚀剂图案时也可以充分的水平发挥感度或LWR性能、DOF性能、图案矩形性、CDU性能、图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性树脂组合物,包括:鎓盐化合物,由下述式(1)表示;树脂,包含下述式(2)所表示的结构单元(I);以及溶剂。(式(1)中,R1、R2及R3分别独立地为碳数1~10的一价有机基,或者表示包含R1、R2及R3中的两个或三个相互结合并与这些所键结的碳原子一起构成的碳数3~20的环状结构的一价或二价的基。在R1、R2及R3中的两个构成所述环状结构的情况下,剩余的一个为碳数1~10的一价有机基。R4及R5分别独立地为氢原子、氟原子、一价烃基或一价氟化烃基。在R4及R5存在多个的情况下,多个R4及R5分别相同或不同。R6、R7及R8分别独立地为氟原子或一价氟化烃基。m1为0~8的整数。Z+为一价感放射线性鎓阳离子。)(式(2)中,R9为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基。R10为包含选自由内酯结构、环状碳酸酯结构及磺内酯结构所组成的群组中的至少一种结构的一价基。)#imgabs0#
-
公开(公告)号:CN119768739A
公开(公告)日:2025-04-04
申请号:CN202380061791.6
申请日:2023-09-25
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂,其中,即便在形成高纵横比的抗蚀剂图案时,也能够形成可以充分的水平发挥感度或LWR性能、DOF性能、图案矩形性、CDU性能、图案圆形性的抗蚀剂膜。一种感放射线性树脂组合物,包括:鎓盐化合物,由下述式(1)表示;树脂,包含具有酸解离性基的结构单元;以及溶剂。(式(1)中,R1、R2及R3分别独立地为碳数1~10的一价链状有机基。R4、R5及R6分别独立地为氢原子、氟原子、一价烃基或一价氟化烃基。在R4、R5及R6存在多个的情况下,多个R4、R5及R6分别相同或不同。Rf1为氟原子或一价氟化烃基。在Rf1存在多个的情况下,多个Rf1分别相同或不同。m1为0~8的整数。m2为1~4的整数。Z+为一价感放射线性鎓阳离子。)#imgabs0#
-
公开(公告)号:CN119173815A
公开(公告)日:2024-12-20
申请号:CN202380039412.3
申请日:2023-07-25
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种感放射线性组合物,含有:具有酸解离性基的聚合物、以及式(1)所表示的化合物。L1为具有(硫)缩醛环的基等。W1为单键或碳数1~40的(b+1)价的有机基。R1、R2及R3相互独立地为氢原子、碳数1~10的烃基、氟原子或氟烷基。Rf为氟原子或氟烷基。a为0~8的整数。b为1~4的整数。d为1或2。于a为2以上的情况下,多个R1相同或不同,多个R2相同或不同。于d为2的情况下,多个W1相同或不同,多个b相同或不同。M+为一价阳离子。#imgabs0#
-
-
-
-