液浸式曝光系统、以及用于液浸式曝光的液体的回收方法和供给方法

    公开(公告)号:CN101128916A

    公开(公告)日:2008-02-20

    申请号:CN200680005696.0

    申请日:2006-01-20

    Abstract: 一种液浸式曝光系统(1),通过在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间配备的液体(301)来执行曝光过程。液浸式曝光系统(1)包括供给液体(301)的液体供给部分(80)、将来自液体供给部分(80)的液体(301(301b))连续地沿特定方向导入并且在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间的空间充满了液体(301)的状态下执行曝光过程的曝光部分、其对在关于衬底(111)对称的位置上流过曝光部分(110)的液体(301(301a))进行恢复的液体恢复部分(90)、以及回收被液体恢复部分90恢复的液体(301(301c))的液体回收部分(20)。当采用液浸法时液浸式曝光液的特性可以保持稳定,由此能够有利地并连续地实行曝光,并能降低运行成本。

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