公开(公告)号：CN101128916A

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：CN200680005696.0

申请日：2006-01-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 古川泰一 ,  稗田克彦 ,  宫松隆 ,  王勇 ,  山田欣司

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/038

Abstract: 一种液浸式曝光系统(1)，通过在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间配备的液体(301)来执行曝光过程。液浸式曝光系统(1)包括供给液体(301)的液体供给部分(80)、将来自液体供给部分(80)的液体(301(301b))连续地沿特定方向导入并且在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间的空间充满了液体(301)的状态下执行曝光过程的曝光部分、其对在关于衬底(111)对称的位置上流过曝光部分(110)的液体(301(301a))进行恢复的液体恢复部分(90)、以及回收被液体恢复部分90恢复的液体(301(301c))的液体回收部分(20)。当采用液浸法时液浸式曝光液的特性可以保持稳定，由此能够有利地并连续地实行曝光，并能降低运行成本。

公开(公告)号：CN102597874B

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：CN201080037134.0

申请日：2010-07-23

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： 古川泰一 ,  S·A·斯万索恩 ,  F·A·豪尔

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/027

CPC classification number: G03F7/027 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 本发明公开了适用于紫外压印光刻应用的涂料组合物，其包含：至少一种乙烯基醚交联剂，其具有至少两个乙烯基醚基团；至少一种稀释剂，其包括单官能乙烯基醚化合物；至少一种光酸产生剂，其可溶于选定的该至少一种单官能乙烯基醚化合物及该至少一种具有至少两个乙烯基醚基团的乙烯基醚交联剂之一或两者中；以及至少一种稳定剂，其包括在酯基位或α位及酯基位上被取代基选择性取代的酯化合物。本发明还公开了压印方法。

公开(公告)号：CN102597874A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080037134.0

申请日：2010-07-23

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： 古川泰一 ,  S·A·斯万索恩 ,  F·A·豪尔

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/027

CPC classification number: G03F7/027 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 本发明公开了适用于紫外压印光刻应用的涂料组合物，其包含：至少一种乙烯基醚交联剂，其具有至少两个乙烯基醚基团；至少一种稀释剂，其包括单官能乙烯基醚化合物；至少一种光酸产生剂，其可溶于选定的该至少一种单官能乙烯基醚化合物及该至少一种具有至少两个乙烯基醚基团的乙烯基醚交联剂之一或两者中；以及至少一种稳定剂，其包括在酯基位或α位及酯基位上被取代基选择性取代的酯化合物。本发明还公开了压印方法。