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公开(公告)号：CN101515113B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200910007638.7
申请日：2009-02-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感射线性树脂组合物，其具有高的射线敏感度，并具有在显影工序中即使超出最佳显影时间也能形成良好图案形状的显影余量，能够容易地形成密合性优良的图案状薄膜，适用于形成层间绝缘膜或微透镜。该感射线性树脂组合物包含具有聚合性不饱和键的聚硅氧烷和1，2-醌二叠氮化合物。
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公开(公告)号：CN104022072A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201410064784.4
申请日：2014-02-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/768 , H05K1/02 , C09D11/30 , C09D11/00 , C23C18/40
CPC classification number: H01L23/481 , C09D11/52 , C23C18/40 , H01L21/486 , H01L21/76898 , H01L23/49827 , H01L28/60 , H05K1/115
Abstract: 本发明提供一种金属膜形成方法、导电性墨水、多层配线基板、半导体基板及电容器单元。本发明的课题在于提供对于包含孔的基板的与上述孔相接的表面，可利用简便的方法而容易地形成金属膜的在上述表面形成金属膜的方法。一种金属膜形成方法，其包括：在使包含孔的基板的与上述孔相接的表面、与含有金属盐及还原剂的导电性墨水接触的状态下，对上述基板进行加热的步骤。
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公开(公告)号：CN103897494A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201310722656.X
申请日：2013-12-24
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够简便地形成低电阻的铜膜的铜膜形成用组合物，提供使用所述铜膜形成用组合物的铜膜形成方法，且提供铜膜、配线基板以及触摸屏。含有(A)选自由有机酸铜、氢氧化铜以及氧化铜所组成的组群中的至少1种铜化合物、(B)卤素化合物、以及(C)还原剂，来制备用于形成铜膜的铜膜形成用组合物。使用所述铜膜形成用组合物，于基板上形成涂膜，于200℃以下进行加热，于基板上形成铜膜而制造配线基板。另外，使用铜膜形成用组合物，于设置有第1检测电极(23)及第2检测电极(24)等的透明基板(22)上形成涂膜，对所述涂膜进行加热而形成引出配线(31)，来制造触摸屏(21)。
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公开(公告)号：CN103897494B
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201310722656.X
申请日：2013-12-24
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够简便地形成低电阻的铜膜的铜膜形成用组合物，提供使用所述铜膜形成用组合物的铜膜形成方法，且提供铜膜、配线基板以及触摸屏。含有(A)选自由有机酸铜、氢氧化铜以及氧化铜所组成的组群中的至少1种铜化合物、(B)卤素化合物、以及(C)还原剂，来制备用于形成铜膜的铜膜形成用组合物。使用所述铜膜形成用组合物，于基板上形成涂膜，于200℃以下进行加热，于基板上形成铜膜而制造配线基板。另外，使用铜膜形成用组合物，于设置有第1检测电极(23)及第2检测电极(24)等的透明基板(22)上形成涂膜，对所述涂膜进行加热而形成引出配线(31)，来制造触摸屏(21)。
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公开(公告)号：CN101515113A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910007638.7
申请日：2009-02-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感射线性树脂组合物，其具有高的射线敏感度，并具有在显影工序中即使超出最佳显影时间也能形成良好图案形状的显影余量，能够容易地形成密合性优良的图案状薄膜，适用于形成层间绝缘膜或微透镜。该感射线性树脂组合物包含具有聚合性不饱和键的聚硅氧烷和1，2－醌二叠氮化合物。
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