光刻设备
    2.
    发明公开
    光刻设备 审中-实审

    公开(公告)号:CN114080566A

    公开(公告)日:2022-02-22

    申请号:CN202080049944.1

    申请日:2020-06-05

    Abstract: 一种光刻设备包括:用于支撑衬底的夹持表面,其中夹持表面的属性由至少一个夹持表面参数限定,并且其中夹持表面的属性已被选择为表现出低磨损;夹持设备,用于致动夹持表面与衬底之间的夹持操作,其中夹持操作至少部分地由夹持表面与衬底之间的至少一个界面特性限定;以及处理站,能够操作以根据夹持表面参数和限定衬底的第二属性的至少一个衬底表面参数,对衬底的第一属性施加调整,来优化特定夹持操作的至少一个界面特性。

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