-
公开(公告)号：CN117529691A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202280044013.1
申请日：2022-06-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·哈特格斯 , M·M·L·斯特格斯 , G·H·P·M·斯温克尔斯 , G·艾姆波内特 , N·W·M·普兰茨 , W·J·恩格伦 , M·A·范德凯克霍夫
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于成像系统以确定成像系统的照射光束的两个光学特性的板，成像系统被配置为用照射光束照射照射区域，板包括多个标记，其中多个标记的第一子集包括用于确定照射光束的第一光学特性的第一类型标记，多个标记的第二子集包括用于确定照射光束的第二光学特性的第二类型标记，多个标记位于板的标记区域内，并且标记区域大体上对应于照射区域。
-
公开(公告)号：CN113412452B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202080013231.X
申请日：2020-01-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·范德凯克霍夫
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 一种保护光刻装置的部件的方法，该方法包括以下步骤：提供保护盖，该保护盖被成形为保护所述部件的至少一部分，该保护盖具有接触表面，该接触表面被布置为粘附到所述光刻装置或所述部件的至少一部分的第一表面；以及使保护盖接近部件，以便使得接触表面粘附到光刻装置或所述部件并且在不施加外力的情况下保持粘附。还提供了一种用于光刻装置中的图案形成装置以及光刻装置。
-
公开(公告)号：CN111051990B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN201880057212.X
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·J·J·简森 , M·A·范德凯克霍夫
Abstract: 一种用于加热光刻装置的光学部件的系统，该系统包括加热辐射源，该加热辐射源被配置为发射用于光学部件的加热的加热辐射，其中该系统被配置为将由光刻装置发射的加热辐射引导到光学部件上，加热辐射的一部分被光学部件吸收，并且加热辐射的另一部分被光学部件反射，并且其中系统配置为变化或改变由加热辐射源发射的加热辐射的性质，使得由光学部件反射的加热辐射的其他部分在光刻装置的操作期间是恒定的。
-
公开(公告)号：CN115136276A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202180015158.4
申请日：2021-02-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·范德凯克霍夫 , 张景 , M·P·C·范赫尤门 , P·A·A·M·布鲁斯 , 王二恒 , V·沙玛 , M·塞法 , 傅邵维 , S·M·斯科拉里 , J·A·H·M·雅各布斯
Abstract: 公开了用于将流体传送至带电粒子束系统中的台的装置、系统和方法。在一些实施例中，台可以被配置为固定晶片；腔可以被配置为容纳台；并且管可以被设置在腔中，以在台和腔外部之间传送流体。管可以包括第一材料的第一管状层，其中，第一材料是柔性聚合物；以及第二材料的第二管状层，其中，第二材料被配置为减少流体或气体穿过管的渗透。在一些实施例中，一种系统可以包括位于腔的外部的脱气系统，其中，脱气系统可以被配置为在传送流体进入管之前，从传送流体中去除气体。
-
公开(公告)号：CN111954852A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201980025021.X
申请日：2019-03-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·范德凯克霍夫 , C·G·N·H·M·克洛因 , A·M·亚库宁 , A·尼基佩洛维 , J·范杜文博德
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 一种装置包括用于夹持组件的静电夹具和用于邻近静电夹具生成自由电荷的机构。用于生成自由电荷的机构被配置为在从静电夹具的第一激发状态到静电夹具的第二激发状态的转变期间邻近静电夹具生成自由电荷。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114174928A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080049943.7
申请日：2020-06-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·范德凯克霍夫 , M·兰简
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括用于在隔间中支撑结构的衬底台，所述隔间具有隔间表面，所述隔间表面在至少一个操作配置中面向所述衬底的顶表面；以及在所述隔间表面上用于捕获颗粒的软涂层。还公开了一种用于光刻设备的热屏蔽件或其部件以及包括这种热屏蔽件的光刻设备，所述热屏蔽件或其部件在至少一个表面上包括用于捕获颗粒的软涂层。
-
公开(公告)号：CN114080566A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202080049944.1
申请日：2020-06-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F1/82 , G03F7/16 , G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 一种光刻设备包括：用于支撑衬底的夹持表面，其中夹持表面的属性由至少一个夹持表面参数限定，并且其中夹持表面的属性已被选择为表现出低磨损；夹持设备，用于致动夹持表面与衬底之间的夹持操作，其中夹持操作至少部分地由夹持表面与衬底之间的至少一个界面特性限定；以及处理站，能够操作以根据夹持表面参数和限定衬底的第二属性的至少一个衬底表面参数，对衬底的第一属性施加调整，来优化特定夹持操作的至少一个界面特性。
-
公开(公告)号：CN111954851A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201980024769.8
申请日：2019-03-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·范德凯克霍夫 , J·H·J·穆尔斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻装置的部件，该部件具有污染物捕获表面，该污染物捕获表面设置有凹部，该凹部被配置用于捕获污染物颗粒和减少DUV辐射的镜面反射。凹部可以具有小于或等于约2μm、理想地小于1μm的至少一个尺寸。
-
公开(公告)号：CN113841071B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202080037201.2
申请日：2020-05-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·H·J·穆尔斯 , V·Y·巴宁 , A·尼基佩洛维 , M·A·范德凯克霍夫 , P·雅格霍比
Abstract: 一种反射镜，包括本体和由本体限定的表面。本体包括多个层。当具有第一波长的辐射入射到该表面上时，该多个层被布置成充当具有所述第一波长的辐射的多层布拉格反射器。表面的局部切面相对于多个层的局部切面以非零角度倾斜。
-
公开(公告)号：CN113841071A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202080037201.2
申请日：2020-05-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·H·J·穆尔斯 , V·Y·巴宁 , A·尼基佩洛维 , M·A·范德凯克霍夫 , P·雅格霍比
Abstract: 一种反射镜，包括本体和由本体限定的表面。本体包括多个层。当具有第一波长的辐射入射到该表面上时，该多个层被布置成充当具有所述第一波长的辐射的多层布拉格反射器。表面的局部切面相对于多个层的局部切面以非零角度倾斜。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.039 seconds)
