-
公开(公告)号：CN104937494A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201380065901.2
申请日：2013-11-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开了一种用于将EUV辐射束投影到衬底(400)的目标部分上的所述类型的设备的衬底支撑件。该衬底支撑件包括：构造成保持衬底的衬底台；用于支撑衬底台的支撑块(420)；以及设置成围绕衬底台的盖板(450’)。盖板的顶表面和安装在衬底台上的衬底的顶表面都大致处于同一高度水平。至少一个传感器单元(430)定位在衬底支撑件上，并且其顶表面也处于与盖板和衬底的顶表面相同的高度水平上。另外，公开了一种包括这样的衬底支撑件的EUV光刻设备。
-
公开(公告)号：CN105103052B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201480018352.8
申请日：2014-02-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70708
Abstract: 一种制造用在光刻设备中的物体保持装置(100)的方法，所述物体保持装置包括一个或多个电功能部件，所述方法包括：使用包括承载板(20)和分层结构的复合结构，所述承载板与物体保持装置的主体(100a)不同，所述分层结构包括一个或多个层(22)并且形成在承载板上；将复合结构连接到主体的表面上，使得分层结构位于承载板和主体的所述表面之间；以及从复合结构上移除承载板，留下与主体连接的分层结构。
-
公开(公告)号：CN104937494B
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201380065901.2
申请日：2013-11-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开了一种用于将EUV辐射束投影到衬底(400)的目标部分上的所述类型的设备的衬底支撑件。该衬底支撑件包括：构造成保持衬底的衬底台；用于支撑衬底台的支撑块(420)；以及设置成围绕衬底台的盖板(450’)。盖板的顶表面和安装在衬底台上的衬底的顶表面都大致处于同一高度水平。至少一个传感器单元(430)定位在衬底支撑件上，并且其顶表面也处于与盖板和衬底的顶表面相同的高度水平上。另外，公开了一种包括这样的衬底支撑件的EUV光刻设备。
-
公开(公告)号：CN105103052A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480018352.8
申请日：2014-02-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70708
Abstract: 一种制造用在光刻设备中的物体保持装置(100)的方法，所述物体保持装置包括一个或多个电功能部件，所述方法包括：使用包括承载板(20)和分层结构的复合结构，所述承载板与物体保持装置的主体(100a)不同，所述分层结构包括一个或多个层(22)并且形成在承载板上；将复合结构连接到主体的表面上，使得分层结构位于承载板和主体的所述表面之间；以及从复合结构上移除承载板，留下与主体连接的分层结构。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.022 seconds)
