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公开(公告)号：CN106104382B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201580012769.8
申请日：2015-03-02
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B11/272 , G03F7/7075 , G03F9/7011 , H01L21/681 , H01L21/682 , H01L21/68707 , H01L22/12
摘要： 本发明涉及一种被配置用于确定具有边缘(WE)的衬底(W)的位置的传感器系统(PSS)。所述传感器系统包括：被布置用于发射辐射束(LB)的辐射源(LS)，反射元件(RE)，检测器装置(DD)和具有用于支撑衬底的支撑表面的衬底台(PWT)。所述支撑表面至少部分地沿着一个平面。辐射源和检测器装置布置于平面的第一侧上。反射元件布置于平面的除第一侧以外的第二侧上。所述反射元件被布置用于通过反射辐射束来形成反射束。所述反射元件被布置用于用所述反射束来照射所述边缘。所述检测器装置被布置用于接收所述反射束。
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公开(公告)号：CN111356956A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201880074219.2
申请日：2018-10-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H02K41/035
摘要： 一种相对于参考物体定位由主平台(5)支撑的子平台(9)的方法，所述子平台能够沿着方向(7)相对于所述主平台在第一位置和第二位置之间移动。所述方法包括通过使用无源力系统来定位第一平台，所述无源力系统通过定位所述主平台被激活。所述无源力系统包括两个磁体系统(119，121)，每个磁体系统配置成以非接触的方式沿着所述方向相对于第二平台向第一平台施加力，所述力导致由所述无源力系统沿着所述方向施加到所述第一平台的合力。所述合力的量值和/或方向取决于所述第一平台相对于所述第二平台的位置，所述第一平台具有在所述第一位置和第二位置之间的零力位置，所述合力在所述零力位置为零。
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公开(公告)号：CN106104382A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201580012769.8
申请日：2015-03-02
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B11/272 , G03F7/7075 , G03F9/7011 , H01L21/681 , H01L21/682 , H01L21/68707 , H01L22/12
摘要： 本发明涉及一种被配置用于确定具有边缘(WE)的衬底(W)的位置的传感器系统(PSS)。所述传感器系统包括：被布置用于发射辐射束(LB)的辐射源(LS)，反射元件(RE)，检测器装置(DD)和具有用于支撑衬底的支撑表面的衬底台(PWT)。所述支撑表面至少部分地沿着一个平面。辐射源和检测器装置布置于平面的第一侧上。反射元件布置于平面的除第一侧以外的第二侧上。所述反射元件被布置用于通过反射辐射束来形成反射束。所述反射元件被布置用于用所述反射束来照射所述边缘。所述检测器装置被布置用于接收所述反射束。
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