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公开(公告)号：CN110140087B
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201780069903.7
申请日：2017-11-09
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/956 , H01L21/66
摘要： 一种方法包括：获得是用于图案化过程的、是量测目标的叠层差异参数的函数的所述量测目标的重叠的数据的拟合；以及通过硬件计算机使用所述拟合的斜率以：(i)区分一个量测目标测量选配方案与另一个量测目标测量选配方案；或者(ii)计算重叠的校正值；或者(iii)指示利用所述量测目标获得的重叠测量值应该被使用或者不应该被使用，以配置或修改所述图案化过程的方面；或者(iv)选自(i)至(iii)中的任意组合。
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公开(公告)号：CN103246175B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201310049438.4
申请日：2013-02-07
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F7/70125 , G03F7/70433 , G03F7/705 , G03F7/70891
摘要： 本发明公开一种用于先进光刻术的透镜加热感知的源掩模优化，具体地公开了一种用于改善通过使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上的光刻过程的计算机执行的方法，光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括步骤：计算作为光刻过程的特性的多个设计变量的多变量价值函数，所述设计变量中的至少一些设计变量是照射源和所述设计布局的特性，多变量价值函数的计算考虑使用照射源通过投影光学装置成像所述设计布局的所述部分而引入的对投影光学装置的光学特性的影响；和通过调节所述设计变量直到预定终止条件被满足来重构所述光刻过程的特性。
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公开(公告)号：CN110140087A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201780069903.7
申请日：2017-11-09
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/956 , H01L21/66
摘要： 一种方法包括：获得是用于图案化过程的、是量测目标的叠层差异参数的函数的所述量测目标的重叠的数据的拟合；以及通过硬件计算机使用所述拟合的斜率以：(i)区分一个量测目标测量选配方案与另一个量测目标测量选配方案；或者(ii)计算重叠的校正值；或者(iii)指示利用所述量测目标获得的重叠测量值应该被使用或者不应该被使用，以配置或修改所述图案化过程的方面；或者(iv)选自(i)至(iii)中的任意组合。
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公开(公告)号：CN115104068A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202180014721.6
申请日：2021-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： K·范因根史奇劳 , A·史拉奇特 , 瓦迪姆·尤里耶维奇·季莫什科夫 , M·库伊曼 , 玛丽亚-克莱尔·范拉尔 , H·A·迪伦 , 斯蒂芬·亨斯克 , 路易斯·阿尔贝托·科利纳·圣玛丽亚·科琳娜 , 蒋爱琴 , 王富明 , 苏达沙南·拉格纳坦
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本文中描述关于改善与芯片的制造相关联的模拟过程和解决方案(例如，重定目标图案)的方法。方法包括获得多个剂量‑焦距设置、和基于与所述多个剂量‑焦距设置中的每个设置相关联的被印制的图案的特性的测量值的参考分布。所述方法还包括基于调整模型和所述多个剂量‑焦距设置来确定所述特性的概率密度函数(PDF)，使得减小所述PDF与所述参考分布之间的误差。所述PDF可以是所述调整模型和与剂量相关联的方差的函数，所述调整模型被配置成改变对所述PDF的非线性剂量敏感度贡献的比例。可以基于所述特性的所确定的PDF来调整过程窗口。
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公开(公告)号：CN103246175A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201310049438.4
申请日：2013-02-07
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F7/70125 , G03F7/70433 , G03F7/705 , G03F7/70891
摘要： 本发明公开一种用于先进光刻术的透镜加热感知的源掩模优化，具体地公开了一种用于改善通过使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上的光刻过程的计算机执行的方法，光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括步骤：计算作为光刻过程的特性的多个设计变量的多变量价值函数，所述设计变量中的至少一些设计变量是照射源和所述设计布局的特性，多变量价值函数的计算考虑使用照射源通过投影光学装置成像所述设计布局的所述部分而引入的对投影光学装置的光学特性的影响；和通过调节所述设计变量直到预定终止条件被满足来重构所述光刻过程的特性。
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