发明授权
- 专利标题： 使用叠层差异的设计和校正
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申请号： CN201780069903.7申请日： 2017-11-09
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公开(公告)号： CN110140087B公开(公告)日： 2021-08-13
- 发明人: 蒋爱琴 , A·J·登鲍埃夫 , K·巴塔查里亚 , H·范德拉恩 , B·菲瑟 , M·J·J·杰克
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张启程
- 优先权： 62/420,375 20161110 US
- 国际申请： PCT/EP2017/078716 2017.11.09
- 国际公布： WO2018/087207 EN 2018.05.17
- 进入国家日期： 2019-05-10
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G01N21/956 ; H01L21/66
摘要：
一种方法包括：获得是用于图案化过程的、是量测目标的叠层差异参数的函数的所述量测目标的重叠的数据的拟合；以及通过硬件计算机使用所述拟合的斜率以：(i)区分一个量测目标测量选配方案与另一个量测目标测量选配方案；或者(ii)计算重叠的校正值；或者(iii)指示利用所述量测目标获得的重叠测量值应该被使用或者不应该被使用，以配置或修改所述图案化过程的方面；或者(iv)选自(i)至(iii)中的任意组合。
公开/授权文献
- CN110140087A 使用叠层差异的设计和校正 公开/授权日：2019-08-16
IPC分类:
