成膜装置或蚀刻装置用的部件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116249795A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202180067306.7

    申请日:2021-10-08

    Abstract: 本发明的部件是用于半导体制造的成膜装置或蚀刻装置用的部件,该部件包含外径为300mm以上且厚度为3mm以上的圆板或环状的SiC膜,该部件在上述SiC膜的露出的侧面不包含与上述SiC膜的厚度方向垂直地延伸的界面。

    半导体制造装置用的部件和制造这样的部件的方法

    公开(公告)号:CN117693607A

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202280051650.1

    申请日:2022-07-26

    Abstract: 一种半导体制造装置用的部件,具有CVD制的多晶SiC部分,上述部分包含相对于该部分的整体以10原子浓度ppm~10原子浓度%的范围掺杂的第1掺杂剂,上述第1掺杂剂具有选自Al(铝)、Y(钇)、Mg(镁)、Sn(锡)、Ca(钙)、Zn(锌)、Co(钴)、Fe(铁)、Ni(镍)、Ag(银)和Cr(铬)中的至少一种元素。

    玻璃板和其制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117164229A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202310947883.6

    申请日:2020-04-07

    Abstract: 本发明提供一种新的玻璃板,其可利用于高频器件的基板或窗材料,且高频带下的传播损耗或传输损耗小。所述玻璃板是10GHz的介电损耗角正切为tanδA、玻璃化转变温度为Tg℃的玻璃板,在将使上述玻璃板升温至(Tg+50)℃、接着以100℃/分钟降温至(Tg-150)℃时的介电损耗角正切设为tanδ100时,满足(tanδ100-tanδA)≥0.0004。

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