公开(公告)号：CN107032829A

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201611015782.1

申请日：2016-11-18

申请人： 通用电气公司

发明人： J.H.韦弗 ,  G.S.科曼 ,  A.克贝德 ,  D.G.邓 ,  J.G.马南特

IPC分类号： C04B41/85 ,  C04B41/87

CPC分类号： C23C16/045 ,  C04B41/009 ,  C04B41/52 ,  C04B41/85 ,  F01D5/005 ,  F01D5/282 ,  F01D5/284 ,  F05D2300/6033 ,  C04B35/80 ,  C04B41/4592 ,  C04B41/5027 ,  C04B41/5062 ,  C04B41/522 ,  C04B41/4523 ,  C04B41/4572 ,  C04B41/4531 ,  C04B41/50 ,  C04B41/5059 ,  C04B41/87 ,  C04B35/71 ,  C04B41/4529 ,  C04B41/0072

摘要： 本发明涉及在修复周期期间保护特征的方法。具体而言，一种方法可包括将掩模应用至CMC结构，以及使具有应用的掩模的结构经历修复过程。在一个实施例中，将掩模应用至CMC结构可包括将掩模应用至CMC结构的特征。