表面钝化的光生伏打器件

    公开(公告)号:CN1862840B

    公开(公告)日:2010-11-10

    申请号:CN200610082694.3

    申请日:2006-05-12

    Abstract: 提供了一种包括光生伏打单元(12)的光生伏打器件(10)。光生伏打单元(12)包括包含结晶半导体材料的发射层(16)和邻接发射层(16)设置的轻掺杂结晶衬底(22)。轻掺杂结晶衬底(22)和发射层(16)相反地掺杂。而且,光生伏打器件(10)包括耦接至光生伏打单元(12)的背面钝化结构(14)。该结构包括邻接轻掺杂结晶衬底(22)设置的重掺杂背面场层(24)。重掺杂背面场层(24)包括非晶或微晶半导体材料,其中重掺杂背面场层(24)和轻掺杂结晶衬底(22)相同地掺杂,以及其中重掺杂背面场层(24)的掺杂水平比轻掺杂结晶衬底(22)的掺杂水平高。另外,该结构还可包括邻接轻掺杂结晶衬底(22)设置的本征背面钝化层(26),其中本征背面钝化层(26)包括非晶或微晶半导体材料。

    用于形成了至少一个通孔的半导体结构的方法和设备

    公开(公告)号:CN101232030A

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200810003798.X

    申请日:2008-01-23

    CPC classification number: H01L31/022425 H01L31/022433 Y02E10/50

    Abstract: 本发明涉及一种半导体结构,作为一个示范性实施例的半导体结构可以包括:具有一种导电类型的半导体衬底,其具有前表面和后表面,并包括至少一个穿过所述半导体衬底的通孔,其中,采用导电材料填充所述至少一个通孔;以及设置在所述半导体衬底的所述前表面或后表面的至少部分上的半导体层,其中,就一种或多种所选的掺杂剂而言,所述半导体层在其深度范围内是成分递变的,并且将所述导电材料配置为将所述半导体层电连接至设置在所述衬底的表面上或者上方的至少一个正面接触。

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