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公开(公告)号：CN105100682B
公开(公告)日：2018-12-25
申请号：CN201410180922.5
申请日：2014-04-30
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本发明涉及一种管道镜，具体为具有导航功能的管道镜，其包括设有探测头及传感器的探测管和至少一个传感器、第一图像处理器、模型存储单元、位姿计算器、第二图像处理器、导航图像计算器和显示器。传感器用于接收探测管的信号并生成对应的感应信号。第一图像处理器用于根据探测头捕获的第一图像信号计算得到第一图像。模型存储单元用于存储被检测机械装置的预设模型。位姿计算器用于根据感应信号计算得到探测头的初始位姿。第二图像处理器用于调整初始位姿至导航位姿，以满足第一图像和第二图像之间的偏差落入允许范围。导航图像计算器用于根据导航位姿和预设模型计算得到导航图像。显示器用于显示导航图像。本发明还揭示一种用于导航管道镜的探测头的方法。
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公开(公告)号：CN105741005A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201410769172.5
申请日：2014-12-12
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: Y02P90/30
Abstract: 本发明涉及零件维护计划的优化方法及其系统，其中的一种零件维护计划的优化方法包括如下步骤：通过一检测器在一段时间内收集所述零件的缺陷数据，以形成一历史记录；建立一仿真模型，所述仿真模型包括所述零件的位置类型数据；基于所述仿真模型，预测所述零件的失效机制；将所述历史记录映射到所述仿真模型上，以建立一零件历史缺陷模型，所述零件历史缺陷模型包括每个缺陷的位置类型；至少基于所述缺陷的位置类型，判定所述缺陷的影响程度；基于所述零件的失效机制、所述零件历史缺陷模型和所述缺陷的影响程度，预测所述零件的失效可能性；及基于所述失效可能性，优化所述零件的维护计划。
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公开(公告)号：CN105100682A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201410180922.5
申请日：2014-04-30
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: H04N7/183 , A61B1/00009 , A61B1/00052 , A61B1/0051 , G01N21/954 , G02B23/2476 , G02B23/2484 , H04N5/23293 , H04N2005/2255
Abstract: 本发明涉及一种管道镜，具体为具有导航功能的管道镜，其包括设有探测头及传感器的探测管和至少一个传感器、第一图像处理器、模型存储单元、位姿计算器、第二图像处理器、导航图像计算器和显示器。传感器用于接收探测管的信号并生成对应的感应信号。第一图像处理器用于根据探测头捕获的第一图像信号计算得到第一图像。模型存储单元用于存储被检测机械装置的预设模型。位姿计算器用于根据感应信号计算得到探测头的初始位姿。第二图像处理器用于调整初始位姿至导航位姿，以满足第一图像和第二图像之间的偏差落入允许范围。导航图像计算器用于根据导航位姿和预设模型计算得到导航图像。显示器用于显示导航图像。本发明还揭示一种用于导航管道镜的探测头的方法。
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公开(公告)号：CN109464153B
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN201710805529.4
申请日：2017-09-08
Applicant: 通用电气公司
IPC: A61B6/00
Abstract: 一种辐射成像系统包括辐射源，其位于所述检测目标的第一侧且用于发射多个射线；和探测器，其位于所述检测目标的第二侧且用于检测来自所述辐射源的多个射线。所述辐射成像系统还包括第一传感器，其位于所述检测目标的第一侧且用于获取所述检测目标的相关信息；和第二传感器，其位于所述探测器上且用于获取探测器位置的相关信息。所述辐射成像系统还包括控制器，其用于基于所述第一传感器获取的所述检测目标的相关信息和所述第二传感器获取的所述探测器位置的相关信息重建三维场景，且基于所述重建的三维场景去控制所述辐射源和所述探测器至少一个的操作。同时还公开了一种控制所述辐射成像系统的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107726053B
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201610666159.6
申请日：2016-08-12
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本发明公开了一种探头系统。该探头系统包括：发光单元，用来发射光；图案生成单元，用来投射至少一个参照结构光图案至物体表面以获得至少一个参照投影图案，所述图案生成单元包括振镜扫描单元，用来将发光单元发射的光反射至多个方向；及光强调制器，用来根据所述参照投影图案调制发光单元发射的光的强度，且提供调制光至所述振镜扫描单元来将调制光反射至多个方向，来投射至少一个调制结构光图案至物体表面，以获得至少一个调制投影图案。本发明还公开一种检测方法。
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公开(公告)号：CN103017677B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201110304920.9
申请日：2011-09-23
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B21/20 , B23Q17/0933 , B23Q17/0938 , G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种用包括点式位移传感器的测量系统测量刀具刀刃轮廓的方法，该方法包括以下步骤：(a)将刀具沿其轴线旋转，用点式位移传感器扫描刀具的刃点，其中包括位于目标刃上的目标刃点，获得包含所述目标刃点的位置及方位信息的第一个点云；(b)根据目标刃点的位置及方位信息调整所述刀具与点式位移传感器之间的相对位置，使得所述点式传感器聚焦于包含所述目标刃点的感兴趣区域上；以及(c)用点式位移传感器扫描所述感兴趣区域，以获得第二个点云，该第二个点云包括分析所述刀具刀刃的轮廓所需的几何信息。
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公开(公告)号：CN103017677A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201110304920.9
申请日：2011-09-23
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B21/20 , B23Q17/0933 , B23Q17/0938 , G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种用包括点式位移传感器的测量系统测量刀具刀刃轮廓的方法，该方法包括以下步骤：(a)将刀具沿其轴线旋转，用点式位移传感器扫描刀具的刃点，其中包括位于目标刃上的目标刃点，获得包含所述目标刃点的位置及方位信息的第一个点云；(b)根据目标刃点的位置及方位信息调整所述刀具与点式位移传感器之间的相对位置，使得所述点式传感器聚焦于包含所述目标刃点的感兴趣区域上；以及(c)用点式位移传感器扫描所述感兴趣区域，以获得第二个点云，该第二个点云包括分析所述刀具刀刃的轮廓所需的几何信息。
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公开(公告)号：CN109464153A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201710805529.4
申请日：2017-09-08
Applicant: 通用电气公司
IPC: A61B6/00
Abstract: 一种辐射成像系统包括辐射源，其位于所述检测目标的第一侧且用于发射多个射线；和探测器，其位于所述检测目标的第二侧且用于检测来自所述辐射源的多个射线。所述辐射成像系统还包括第一传感器，其位于所述检测目标的第一侧且用于获取所述检测目标的相关信息；和第二传感器，其位于所述探测器上且用于获取探测器位置的相关信息。所述辐射成像系统还包括控制器，其用于基于所述第一传感器获取的所述检测目标的相关信息和所述第二传感器获取的所述探测器位置的相关信息重建三维场景，且基于所述重建的三维场景去控制所述辐射源和所述探测器至少一个的操作。同时还公开了一种控制所述辐射成像系统的方法。
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