公开(公告)号：CN115574739A

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN202210472562.0

申请日：2022-04-29

申请人： 通快光电器件有限公司 ,  罗伯特·博世有限公司

发明人： H·斯普鲁伊特 ,  J·黑尔米格 ,  S·格罗嫩博恩 ,  J·迈尔 ,  A·彼得森 ,  T·施勒布施

IPC分类号： G01B11/26 ,  G01J3/45 ,  G02B27/00

摘要： 一种激光传感器，其包括发射激光束(22)的激光源(12)和将所述激光束(22)作为一维或二维图案化激光束(26)投射到待检查的对象(24)上的光学器件(20)，使得所述图案化激光束(26)距激光源(12)的距离沿着投射在对象(24)上的图案化激光束(26)变化。检测器(14)确定由从对象(24)反射回激光源(12)的图案化激光束(26)的激光产生的自混合干涉信号。电路(18)对自混合干涉信号进行光谱分析，并从自混合干涉信号的光谱中提取指示沿着所述图案化激光束(26)距激光源(12)的多个距离和/或沿着所述图案化激光束(26)相对于激光源(12)的多个速度的多个频率。还公开了具有这种激光传感器的系统以及相关的方法和计算机程序产品。

公开(公告)号：CN113950638A

公开(公告)日：2022-01-18

申请号：CN202080041783.1

申请日：2020-06-05

申请人： 通快光电器件有限公司

发明人： S·格罗嫩博恩 ,  H·J·门希

IPC分类号： G02B27/09 ,  G01B11/25

摘要： 提出了一种被适配成生成结构化光图案(70)的光电装置(1)和系统。该光电装置包括第一垂直腔表面发射激光器(11)VCSEL阵列(10)；第一均匀化光学器件组件(20)，该第一均匀化光学器件组件与该第一垂直腔表面发射激光器阵列相关联；第二垂直腔表面发射激光器(11)VCSEL阵列(10)；第二均匀化光学器件组件(20)，该第二均匀化光学器件组件与该第二垂直腔表面发射激光器阵列相关联；其中，各自与不同的VCSEL阵列相关联的这些均匀化光学器件组件被布置成使得它们的强度分布(63)合并为中间平面(60)中的共同均匀平顶强度分布(61)；以及图案光学器件组件(30)，该图案光学器件组件被适配成基于该中间平面(60)中的共同均匀强度分布(61)生成结构化光图案(70)。本披露进一步涉及一种对应的方法。

公开(公告)号：CN111868559A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201980020245.1

申请日：2019-01-09

申请人： 通快光电器件有限公司

发明人： S·格罗嫩博恩 ,  J·J·范登贝尔赫 ,  M·J·劳伦松 ,  N·沃克

IPC分类号： G01S17/10 ,  G01S17/87 ,  G01S17/875 ,  G01S17/89 ,  G01S17/931 ,  G01S17/933

摘要： 提供一种用于引导自主可运动对象的引导系统(180)，其中，所述引导系统(180)包括成像系统(100)，成像系统(100)包括第一光源(125)，其中，第一光源(125)被布置为能够照射第一检测场(151)，其中，成像系统(100)包括至少一个光传感器(130)，其中，光传感器(130)被布置为能够检测反射光(155)，其中，检测的反射光包括第一反射光和第二反射光，其中，第一反射光包括通过光源(125)发射的在第一检测场(151)处反射的光，其中，第二反射光源自通过第二光源照射的第二检测场(152)，其中，第二光源独立于第一光源(125)，其中，成像系统(100)被布置为能够在第一反射光和第二反射光之间进行区分，其中，成像系统(100)被布置为能够基于检测的第一反射光来确定第一检测场(151)的深度图，其中，成像系统(100)被布置为能够基于检测的第二反射光产生用于触发反馈动作的反馈信号，其中，引导系统还包括运动控制模块(185)，其中，运动控制模块(185)被布置为能够接收反馈信号，其中，运动控制模块(185)被布置为能够基于反馈信号修改自主可运动对象的运动。此外，提供相应的系统以及引导自主可运动对象的方法。

公开(公告)号：CN111742455B

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN201980014280.2

申请日：2019-01-03

申请人： 通快光电器件有限公司

发明人： S·格罗嫩博恩 ,  H·J·门希

IPC分类号： H01S5/02 ,  H01S5/183 ,  H01S5/42

摘要： 本发明描述一种激光器布置结构(100)，所述激光器布置结构(100)包括激光器阵列(110)和用于在限定视场中提供限定照射图案的光学结构(140)，其中，光学结构(140)包括扩散器(144)，扩散器(144)被布置为能够改变通过被激光器阵列(110)所包括的激光器(130)发射的激光(10)的分布，其中，每个激光器(130)的特征在于具有发射锥体，其中，光学结构(140)被布置为能够将激光(10)变换为变换后激光(150)，使得与被布置为能够将完全准直激光扩散为视场中的平顶强度轮廓的扩散器相比，被激光器(130)中的至少一组激光器(130)的发射锥体所包括的激光(10)的重叠在视场中增大；其中，光学结构(140)被布置为能够将在发射锥体的大角度处发射的激光(10)重新定向到视场。本发明还描述一种包括这样的激光器布置结构(100)的发光装置、一种包括这样的发光装置的飞行时间相机(200)以及一种制造激光器布置结构(100)的方法。

公开(公告)号：CN114787709A

公开(公告)日：2022-07-22

申请号：CN202080085919.9

申请日：2020-12-02

申请人： 通快光电器件有限公司

发明人： S·格罗嫩博恩

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/20

摘要： 一种在半导体衬底(102)中光刻形成光学结构(120)的方法，其中，要形成的所述光学结构(120)沿着所述衬底(102)的区域的一个或多个第一子区域(A1)延伸，所述方法包括：提供半导体衬底(102)；在所述半导体衬底(102)的初始表面(151)上施加光刻胶(150)层；用曝光用光使所述光刻胶(150)曝光并且随后使所述光刻胶(150)显影，其中，所述曝光用光的剂量沿着所述衬底(102)的区域变化，以使得在显影之后，剩余光刻胶层具有光刻胶浮雕轮廓，所述光刻胶浮雕轮廓在所述一个或多个第一子区域(A1)中类似于要形成的所述光学结构(120)，并且在所述一个或多个第一子区域(A1)之外的一个或多个第二子区域(A2)中具有在所述半导体衬底(102)的初始表面(151)上方的高度，所述高度超过所述一个或多个第一子区域(A1)中的剩余光刻胶(150)层的最大高度；蚀刻所述光刻胶(150)和所述半导体衬底(102)以将所述光刻胶浮雕轮廓转移到所述半导体衬底(102)中，以便在所述一个或多个第一子区域(A1)中在所述半导体衬底中获得所述光学结构(120)并且在所述半导体衬底(102)的所述一个或多个第二子区域(A2)中获得支撑结构(122)。

公开(公告)号：CN111742238A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201880089783.1

申请日：2018-12-31

申请人： 通快光电器件有限公司

发明人： S·格罗嫩博恩

IPC分类号： G01S17/10 ,  G01S17/894 ,  G01S7/481 ,  G01S7/4865

摘要： 本发明描述一种用于飞行时间测量的激光器布置结构(100)，所述激光器布置结构(100)包括至少一个激光器和与所述至少一个激光器相邻布置的至少一个滤光器，其中，所述至少一个激光器和所述至少一个滤光器均包括基体(101)、第一反射镜(105)、第二反射镜(109)以及布置在第一反射镜(105)与第二反射镜(109)之间的有源层(107)，其中，所述至少一个激光器被布置为能够在第一方向上发射激光(121)，其中，滤光器被布置为能够接收接收光(123)，其中，接收光(123)包括从物体(300)反射的激光(121)，所述至少一个滤光器具有在接收光传播的方向上的第一反射镜(105)、有源层(107)与第二反射镜(109)，其中，所述至少一个滤光器的第二反射镜(109)具有与所述至少一个滤光器的第一反射镜(105)的反射率相等的反射率或者比所述至少一个滤光器的第一反射镜(105)的反射率低的反射率，其中，滤光器还被布置为能够对接收光(123)滤光，使得从物体(300)反射并从第一方向接收的激光(121)穿过滤光器。本发明还描述一种用于飞行时间测量的检测器布置结构(10)、一种飞行时间相机(200)、一种确定深度图像的方法以及一种相应的计算机程序载体。

公开(公告)号：CN108141011B

公开(公告)日：2020-09-01

申请号：CN201680057997.1

申请日：2016-09-22

申请人： 通快光电器件有限公司

发明人： S·格罗嫩博恩 ,  M·米勒 ,  P·丹贝里 ,  M·舒尔曼 ,  H·门希

IPC分类号： H01S5/183 ,  H01S5/00 ,  H01S5/02 ,  H01S5/028

摘要： 本发明描述了一种发光设备(100)。所述发光设备(100)包括至少一个发光结构(110)、至少一个处理层(120)以及至少一个光学结构(130)。所述光学结构(130)包括借助于处理光(150)而被处理的至少一种材料。所述至少一个处理层(120)被布置为在借助于所述处理光(150)对所述材料进行处理期间将所述处理光(150)沿所述光学结构(130)的方向的反射减少至少50％、优选地至少80％、更优选地至少95％并且最优选地至少99％。本发明的基本想法是在发光结构(110)(如VCSEL阵列)的上方并入不反射的或低反射的处理层(120)，以便实现对如微透镜阵列的发光结构(130)的晶片处理。本发明还描述了制造这样的发光设备(100)的方法。

公开(公告)号：CN118872167A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202380027892.1

申请日：2023-03-03

申请人： 通快光电器件有限公司

发明人： S·格罗嫩博恩

IPC分类号： H01S5/183 ,  H01S5/042 ,  H01S5/42

摘要： 本发明涉及用于发射光的半导体部件(10)，其包括基体(14)，该基体具有用于光的发射区域(18)，给该发射区域分配第一镜部分、第二镜部分(24)以及布置在两个镜部分之间的用于生成光的有源部分，其中光阑的截面小于发射区域的截面。

公开(公告)号：CN118556352A

公开(公告)日：2024-08-27

申请号：CN202280089205.4

申请日：2022-12-15

申请人： 通快光电器件有限公司 ,  IFM电子股份有限公司 ,  湃安德科技股份公司

发明人： H·J·门希 ,  S·格罗嫩博恩 ,  S·弗赖瓦尔德 ,  T·迪茨

IPC分类号： H01S5/42 ,  H01S5/00 ,  G02B19/00 ,  G02B27/09

摘要： 本发明涉及一种激光器设备(10)，所述激光器设备具有半导体激光器构件(12)、具有光学器件装置(19)，所述半导体激光器构件具有激光器阵列(14)，所述激光器阵列具有多个半导体激光器(13)，所述半导体激光器垂直地发射激光(16)，所述光学器件装置具有至少一个第二光学器件元件和布置在所述第二光学器件元件(22)与所述激光器阵列(22)之间的第一光学器件元件(21)，所述第二光学器件元件和所述第一光学器件元件沿着光学器件轴线(24)布置，其中，所述光学器件装置(19)设置为用于扩宽从所述半导体激光器(18)中发射的激光(16)、用于准直被所述第一光学器件元件(21)扩宽的激光(16)并且用于成形经准直的激光(16)的射束轮廓。

公开(公告)号：CN111771311B

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN201980015007.1

申请日：2019-01-24

申请人： 通快光电器件有限公司

发明人： S·格罗嫩博恩 ,  H·J·门希 ,  R·E·T·古德

IPC分类号： H01S5/02 ,  H01S5/026 ,  H01S5/0239

摘要： 本发明描述一种激光器布置结构(100)，所述激光器布置结构(100)包括激光器阵列(110)和用于在限定视场中提供限定照射图案的光学装置(140)。光学装置(140)包括多个局部光学结构(145)。每个局部光学结构(145)与至少一个激光器(130)相关联。每个局部光学结构(145)被布置为能够重新定向通过被激光器阵列(110)所包括的至少一个激光器(130)发射的激光(10)，使得通过每个激光器(130)发射的激光(10)看起来是从激光器阵列(110)的至少一个视在位置(130‑1a、130‑1b)发射的。局部光学结构(145)被布置为使得通过激光器中的至少一个激光器发射的激光(10)看起来是从激光器阵列的至少两个视在位置发射的。光学装置(140)被布置为使得视在位置(130‑1a、130‑1b)以不规则图案分布。本发明还描述一种包括这样的激光器布置结构(100)的照明装置、一种相机(200)和一种包括这样的发光装置的光学密钥以及一种制造激光器布置结构(100)的方法。