基于空间电荷的SiC晶界特性计算方法

    公开(公告)号:CN116861682A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202310862611.6

    申请日:2023-07-14

    摘要: 本发明公开了基于空间电荷的SiC晶界特性计算方法,通过SiC晶界分区对泊松方程、对流方程和传导方程进行分析计算,得到适用于SiC晶界的载流子运输模型,在载流子运输模型中,添加初始参数条件并进行仿真计算,得到空间电荷分布图,根据空间电荷分布图,计算晶体中的晶界势垒高度与晶界泄漏电流曲线,分析SiC的晶界特性,本发明对SiC晶界内部载流子迁移规律进行仿真模拟,从计算材料学的角度深入探究SiC非线性起源,结合晶界微观特性与宏观参数,揭示SiC晶界势垒与晶界空间电荷的关系。

    基于分子动力学模拟的含表面点缺陷4H-SiC热导率计算方法

    公开(公告)号:CN118841110A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410800066.2

    申请日:2024-06-20

    IPC分类号: G16C60/00 G16C20/70 G16C20/80

    摘要: 本发明公开了基于分子动力学模拟的含表面点缺陷4H‑SiC热导率计算方法,采用分子模拟软件建立第一4H‑SiC晶体模型,并对第一4H‑SiC晶体模型进行缺陷构建,得到含表面点缺陷的第一4H‑SiC晶体模型;采用分子模拟软件对含表面点缺陷的第一4H‑SiC晶体模型进行能量最小化运算,得到稳定表面点缺陷模型;利用分子模拟软件计算稳定表面点缺陷模型电子的波函数和电子能级,根据波函数和电子能级绘制稳定表面点缺陷模型电子态密度图;利用LAMMP软件计算稳定表面点缺陷模型热导率;本发明基于分子动力学模拟表面点缺陷的4H‑SiC热导率计算方法,解决了现有技术使用LAMMPS软件计算热导率时,参数选择不完善,热导率计算结果准确率低的问题。