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公开(公告)号：CN104849791A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201510285816.8
申请日：2015-05-29
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/3058 , G02B5/1876
Abstract: 本发明提供了一种亚波长反射式一维金属波片及其制备方法，其能够在不同度的波段实现二分之一和四分之一波片的功能，所述波片包括介质光栅和设置在其上的金属层；纳米介质光栅结构设置上一层类光栅金属层，介质光栅的周期为80～350nm, 占空比为0.3～0.8，厚度为50～200nm，金属层的厚度比介质光栅厚度30nm以上（层间距大于30nm）。介质层的材料可为SiO2、MgF2、PMMA，金属层为金、银、铝、镉等反射率高的材料。本发明具有结构简单，易于制作等优点，在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中，具有很大的应用价值。
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公开(公告)号：CN104880754B
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201510199322.8
申请日：2015-04-24
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/20
Abstract: 本发明公开了一种亚波长三维螺旋圆偏振滤光片及其制作方法，该圆偏振滤光片的制作方法包括如下步骤：（1）在二氧化硅基片上旋涂光刻胶；（2）采用激光直写系统直接在光刻胶上写出三维螺旋纳米柱结构并进行显影；（3）通入氧气，采用反应离子束进行刻蚀，去除残余光刻胶；（4）在转移好的二氧化硅基片及三维螺旋纳米柱结构上采用磁控溅射方法镀上金属薄膜层。本发明能够实现对左右旋圆偏振光的区分，并具有结构简单，易于制作的特点。
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公开(公告)号：CN104880754A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201510199322.8
申请日：2015-04-24
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/20
CPC classification number: G02B5/20
Abstract: 本发明公开了一种亚波长三维螺旋圆偏振滤光片及其制作方法，该圆偏振滤光片的制作方法包括如下步骤：（1）在二氧化硅基片上旋涂光刻胶；（2）采用激光直写系统直接在光刻胶上写出三维螺旋纳米柱结构并进行显影；（3）通入氧气，采用反应离子束进行刻蚀，去除残余光刻胶；（4）在转移好的二氧化硅基片及三维螺旋纳米柱结构上采用磁控溅射方法镀上金属薄膜层。本发明能够实现对左右旋圆偏振光的区分，并具有结构简单，易于制作的特点。
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公开(公告)号：CN104849791B
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201510285816.8
申请日：2015-05-29
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明提供了一种亚波长反射式一维金属波片及其制备方法，其能够在不同度的波段实现二分之一和四分之一波片的功能，所述波片包括介质光栅和设置在其上的金属层；纳米介质光栅结构设置上一层类光栅金属层，介质光栅的周期为80～350nm,占空比为0.3～0.8，厚度为50～200nm，金属层的厚度比介质光栅厚度30nm以上（层间距大于30nm）。介质层的材料可为SiO2、MgF2、PMMA，金属层为金、银、铝、镉等反射率高的材料。本发明具有结构简单，易于制作等优点，在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中，具有很大的应用价值。
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公开(公告)号：CN103389537B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201310343575.9
申请日：2013-08-08
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明公开了一种宽带反射型亚波长矩形环阵列四分之一波片及其制作方法，该波片包括由下至上依次设置的玻璃基片、第一金属层、玻璃层和第二金属层，第二金属层由若干周期性的二维环形孔径阵列构成，二维环形孔径中相邻的两个孔径长度L1、L2相等、宽度W1、W2不等，当入射的线偏振光以偏振方位角θ从第二金属层上方入射时，第二金属层上的反射场沿两正交方向分量的位相Фx，Фy满足相位差为π/2，π或3π/2;并且当θ=45°时，振幅分量Ex、Ey相等。本发明通过优化设计，在1.55um波长处实现了1/4波片的功能，且在130nm的超宽波长范围内，两正交分量的相位差变化低于π/2的2%，整个波带范围内反射率都达到90%。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107203018B
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201710572342.4
申请日：2015-05-29
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明提供了一种亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其能够在不同度的波段实现二分之一和四分之一波片的功能，所述波片包括介质光栅和设置在其上的金属层；纳米介质光栅结构设置上一层类光栅金属层，介质光栅的周期为80～350nm，占空比为0.3～0.8，厚度为50～200nm，金属层的厚度比介质光栅厚度30nm以上（层间距大于30nm）。介质层的材料可为SiO2、MgF2、PMMA，金属层为金、银、铝、镉等反射率高的材料。本发明具有结构简单，易于制作等优点，在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中，具有很大的应用价值。
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公开(公告)号：CN107203018A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201710572342.4
申请日：2015-05-29
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 本发明提供了一种亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其能够在不同度的波段实现二分之一和四分之一波片的功能，所述波片包括介质光栅和设置在其上的金属层；纳米介质光栅结构设置上一层类光栅金属层，介质光栅的周期为80～350nm，占空比为0.3～0.8，厚度为50～200nm，金属层的厚度比介质光栅厚度30nm以上（层间距大于30nm）。介质层的材料可为SiO2、MgF2、PMMA，金属层为金、银、铝、镉等反射率高的材料。本发明具有结构简单，易于制作等优点，在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中，具有很大的应用价值。
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公开(公告)号：CN103543600A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310499889.8
申请日：2013-10-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种超透镜结构及其成像方法，所述超透镜结构从上而下依次包括透明的第一基底层、掩膜层、PMMA间隔层、共振腔结构及第二基底层，其特征在于，所述掩膜层上设置有成像物体，所述共振腔结构为表面等离子体激元的共振腔结构，共振腔结构从上而下包括第一金属层、光刻胶层和第二金属层。本发明可以通过调节光刻胶层的厚度来提高成像分辨率，并借助共振效应拓展成像深度，从而提高成像质量。可以突破传统超透镜成像技术在分辨率改善、成像深度提高等方面的局限性，可为大区域及任意形状的二维成像光刻开辟了新的道路。
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公开(公告)号：CN102636967B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201210116763.3
申请日：2012-04-19
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种表面等离子体纳米光刻结构，包括上基底层、下基底层、共振腔和金属光栅层，所述共振腔和金属光栅层设于所述上基底层和下基底层之间，所述共振腔包括第一金属层、第二金属层和光刻胶层，所述光刻胶层设于所述第一金属层和第二金属层之间，所述金属光栅层包括第一光栅层和第二光栅层，所述第一光栅层位于所述上基底层和第一金属层之间，所述第二光栅层位于所述下基底层和第二金属层之间。本发明还公开了一种表面等离子体纳米光刻方法。利用第一光栅层和第二光栅层来激发第一金属层与光刻胶层以及第二金属层与光刻胶层界面的表面等离子波，从而可以大大提高光刻技术的分辨率；另外，本发明采用双光束曝光，可以实现良好的曝光深度和可见度。
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公开(公告)号：CN103389537A
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201310343575.9
申请日：2013-08-08
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明公开了一种宽带反射型亚波长矩形环阵列四分之一波片及其制作方法，该波片包括由下至上依次设置的玻璃基片、第一金属层、玻璃层和第二金属层，第二金属层由若干周期性的二维环形孔径阵列构成，二维环形孔径中相邻的两个孔径长度L1、L2相等、宽度W1、W2不等，当入射的线偏振光以偏振方位角θ从第二金属层上方入射时，第二金属层上的反射场沿两正交方向分量的位相Фx，Фy满足相位差为π/2，π或3π/2;并且当θ=45°时，振幅分量Ex、Ey相等。本发明通过优化设计，在1.55um波长处实现了1/4波片的功能，且在130nm的超宽波长范围内，两正交分量的相位差变化低于π/2的2%，整个波带范围内反射率都达到90%。
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