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公开(公告)号：CN103562337A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280025872.2
申请日：2012-03-28
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/321
CPC classification number: C23F3/06 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/3212
Abstract: 本发明公开了一种含有在水溶液中与氧化剂的共存下使pH降低的物质和pH缓冲剂的研磨用组合物。相对于100g该研磨用组合物刚添加31重量%的过氧化氢水溶液5.16g后的研磨用组合物的pH与添加过氧化氢后静置8天后的研磨用组合物的pH之差以绝对值计为0.5以下。本发明还公开了另一种含有在水溶液中与氧化剂的共存下使pH降低的物质和pH控制剂的研磨用组合物。与相对于100ml该研磨用组合物刚添加31重量%的过氧化氢水溶液5.16g后的研磨用组合物中的碱性物质的量相比，添加过氧化氢后静置8天后的研磨用组合物中的碱性物质的量增加0.1mM以上。
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公开(公告)号：CN103154168A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180038885.9
申请日：2011-08-02
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/30625 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/3212
Abstract: 本发明的研磨用组合物含有水溶性聚合物、研磨促进剂及氧化剂。水溶性聚合物为具有150mgKOH/1g·固体以上的胺值的聚酰胺多胺聚合物。
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公开(公告)号：CN105593331A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201480054190.3
申请日：2014-09-02
Applicant: 福吉米株式会社
Inventor： 玉田修一
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/30625
Abstract: 本发明提供一种保管稳定性优异的研磨用组合物。本发明为一种研磨用组合物，其包含磨粒和含有卤原子的氧化剂，研磨用组合物中的前述磨粒所具有的硅烷醇基数量的总和(A)(单位：个)除以研磨用组合物中的前述氧化剂的浓度(B)(单位：质量％)得到的值(A/B)为8×1023以下。
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公开(公告)号：CN102212315A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN201110041743.X
申请日：2011-02-18
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02 , H01L21/321
CPC classification number: B24C1/08 , C08G73/00 , C09G1/02 , C09G1/16 , C09G1/18 , C23F3/06 , H01L21/02074 , H01L21/3212
Abstract: 本发明提供可以在用于形成半导体装置的布线的研磨中合适地使用的研磨用组合物以及使用该研磨用组合物的研磨方法。本发明的研磨用组合物含有研磨促进剂、含有来自双氰胺等具有胍结构的聚合性化合物的结构单元的水溶性聚合物、和氧化剂。水溶性聚合物可以含有来自双氰胺的结构单元，和来自甲醛、二胺或多胺的结构单元。
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公开(公告)号：CN110317573A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910212893.9
申请日：2019-03-20
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: [课题]提供：不仅适用于硬质材料制的研磨对象物的研磨、而且适用于软质金属材料制的研磨对象物的研磨、且不易产生划痕等表面缺陷的研磨用组合物和磁研磨方法。[解决方案]研磨用组合物(1)含有：饱和磁化强度为20emu/g以上且150emu/g以下的磁性颗粒、和水。对该研磨用组合物(1)施加磁场，形成含有磁性颗粒的磁簇(3)，使磁簇(3)与研磨对象物(5)接触，对研磨对象物(5)进行研磨。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106994627B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201710214337.6
申请日：2017-04-01
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明涉及研磨用组合物及其制造方法以及磁研磨方法。本发明提供磁性颗粒不易发生氧化的研磨用组合物及磁研磨方法。研磨用组合物(1)含有磁性颗粒、用于抑制磁性颗粒的氧化的抗氧化剂、和水。对该研磨用组合物(1)施加磁场而形成含有磁性颗粒的磁粒簇(3)，使磁粒簇(3)接触研磨对象物(5)而对研磨对象物(5)进行研磨。
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公开(公告)号：CN102212315B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201110041743.X
申请日：2011-02-18
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B24C1/08 , C08G73/00 , C09G1/02 , C09G1/16 , C09G1/18 , C23F3/06 , H01L21/02074 , H01L21/3212
Abstract: 本发明提供可以在用于形成半导体装置的布线的研磨中合适地使用的研磨用组合物以及使用该研磨用组合物的研磨方法。本发明的研磨用组合物含有研磨促进剂、含有来自双氰胺等具有胍结构的聚合性化合物的结构单元的水溶性聚合物、和氧化剂。水溶性聚合物可以含有来自双氰胺的结构单元，和来自甲醛、二胺或多胺的结构单元。
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公开(公告)号：CN110317573B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN201910212893.9
申请日：2019-03-20
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: [课题]提供：不仅适用于硬质材料制的研磨对象物的研磨、而且适用于软质金属材料制的研磨对象物的研磨、且不易产生划痕等表面缺陷的研磨用组合物和磁研磨方法。[解决方案]研磨用组合物(1)含有：饱和磁化强度为20emu/g以上且150emu/g以下的磁性颗粒、和水。对该研磨用组合物(1)施加磁场，形成含有磁性颗粒的磁簇(3)，使磁簇(3)与研磨对象物(5)接触，对研磨对象物(5)进行研磨。
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公开(公告)号：CN105593331B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201480054190.3
申请日：2014-09-02
Applicant: 福吉米株式会社
Inventor： 玉田修一
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种保管稳定性优异的研磨用组合物。本发明为一种研磨用组合物，其包含磨粒和含有卤原子的氧化剂，研磨用组合物中的前述磨粒所具有的硅烷醇基数量的总和(A)(单位：个)除以研磨用组合物中的前述氧化剂的浓度(B)(单位：质量％)得到的值(A/B)为8×1023以下。
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公开(公告)号：CN106994627A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201710214337.6
申请日：2017-04-01
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: B24B37/00 , C09K3/14 , B24B1/005 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及研磨用组合物及其制造方法以及磁研磨方法。本发明提供磁性颗粒不易发生氧化的研磨用组合物及磁研磨方法。研磨用组合物(1)含有磁性颗粒、用于抑制磁性颗粒的氧化的抗氧化剂、和水。对该研磨用组合物(1)施加磁场而形成含有磁性颗粒的磁粒簇(3)，使磁粒簇(3)接触研磨对象物(5)而对研磨对象物(5)进行研磨。
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