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公开(公告)号：CN103168228B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180050514.2
申请日：2011-10-17
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： E·勒斯尔
CPC classification number: A61B6/484 , A61B6/032 , A61B6/06 , A61B6/4035 , A61B6/4291 , G01N23/046 , G01N23/20075 , G21K1/06 , G21K1/067
Abstract: 本发明涉及微分相位对比成像，尤其是用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅，例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了提供增强的基于相位梯度的图像数据，为用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅（14，15）提供第一子区域（23），其包括第一光栅结构（26）的至少一个部分（24）和第二光栅结构（30）的至少一个部分（28）。所述第一光栅结构包括周期性布置的具有第一光栅取向GO1（37）的多个条（34）和间隙（36）；其中布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度，且其中所述间隙能透过X射线。第二光栅结构包括周期性布置的具有第二光栅取向GO2（44）的多个条（40）和间隙（42），其中布置条，使得它们改变X射线的相位和/或幅度，且其中间隙能透过X射线。所述第一光栅取向GO1与所述第二光栅取向GO2不同。于是，可以针对不同方向采集基于相位梯度的图像信息，无需在例如采集步骤之间旋转或绕枢轴转动任何相应的光栅。
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公开(公告)号：CN103339656A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201280006600.8
申请日：2012-01-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: G06T11/00
CPC classification number: G06T7/0012 , A61B6/481 , A61B6/482 , G06T11/005 , G06T2211/408
Abstract: 一种方法，包括：分析受检者的一部分的谱投影图像；生成量化谱投影图像的感兴趣区域中的目标特异性造影材料的量的值；以及响应于所述值满足预定阈值水平，生成指示存在所述目标的信号。
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公开(公告)号：CN103189739A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201180050117.5
申请日：2011-10-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： E·勒斯尔
CPC classification number: A61B6/484 , A61B6/4092 , A61B6/4291 , A61B6/4441 , G01N23/04 , G01N2223/064 , G01N2223/1016 , G01N2223/612 , G01T7/00 , G21K1/06 , G21K1/067
Abstract: 本发明涉及微分相位对比成像，尤其涉及一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅、例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了更好地利用通过对象的X射线辐射，提供一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅（14），其具有第一子区域（26）的至少一个部分（24）和第二子区域（30）的至少一个部分（28）。所述第一子区域包括具有多个以第一光栅间距PG（38）周期性布置的条（34）和间隙（36）的光栅结构（54），其中，所述条被布置成使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度，并且其中，所述间隙是能透过X射线的。所述第二子区域是能透过X射线的，并且其中，所述第二子区域的至少一个部分在光栅中提供能透过X射线的孔径（40）。沿至少一个方向（42）以交替方式布置第一子区域和第二子区域的各部分。
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公开(公告)号：CN103168228A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201180050514.2
申请日：2011-10-17
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： E·勒斯尔
CPC classification number: A61B6/484 , A61B6/032 , A61B6/06 , A61B6/4035 , A61B6/4291 , G01N23/046 , G01N23/20075 , G21K1/06 , G21K1/067
Abstract: 本发明涉及微分相位对比成像，尤其是用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅，例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了提供增强的基于相位梯度的图像数据，为用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅（14，15）提供第一子区域（23），其包括第一光栅结构（26）的至少一个部分（24）和第二光栅结构（30）的至少一个部分（28）。所述第一光栅结构包括周期性布置的具有第一光栅取向GO1（37）的多个条（34）和间隙（36）；其中布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度，且其中所述间隙能透过X射线。第二光栅结构包括周期性布置的具有第二光栅取向GO2（44）的多个条（40）和间隙（42），其中布置条，使得它们改变X射线的相位和/或幅度，且其中间隙能透过X射线。所述第一光栅取向GO1与所述第二光栅取向GO2不同。于是，可以针对不同方向采集基于相位梯度的图像信息，无需在例如采集步骤之间旋转或绕枢轴转动任何相应的光栅。
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公开(公告)号：CN101542315B8
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN200780042651.5
申请日：2007-11-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: G01T1/29
Abstract: 本发明涉及一种辐射探测器(200)，具体而言是一种X射线探测器，其包括至少一个用于将入射光子(X)转换成电信号的敏感层(212)。电极(213)的二维阵列位于该敏感层(212)的正面，而其背面携带对电极(211)。电极(213)的尺寸可在辐射方向(y)上变化以适应电极的计数工作量。此外，电极(213)相对于辐射方向(y)的位置提供关于所探测到的光子(X)的能量的信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101542315B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200780042651.5
申请日：2007-11-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: G01T1/29
CPC classification number: G01T1/2928
Abstract: 本发明涉及一种辐射探测器(200)，具体而言是一种X射线探测器，其包括至少一个用于将入射光子(X)转换成电信号的敏感层(212)。电极(213)的二维阵列位于该敏感层(212)的正面，而其背面携带对电极(211)。电极(213)的尺寸可在辐射方向(y)上变化以适应电极的计数工作量。此外，电极(213)相对于辐射方向(y)的位置提供关于所探测到的光子(X)的能量的信息。
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公开(公告)号：CN102651994A
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN201080055691.5
申请日：2010-12-08
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: A61B1/00
CPC classification number: A61B6/4291 , A61B6/4092 , A61B6/484 , A61B6/583 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及X射线成像系统和用于对对象进行微分相位对比成像的方法。为了改进微分相位对比成像系统的校准和光栅的对准，提供一种X射线成像系统，包括提供至少部分相干的X射线辐射的X射线发射装置和包括全部沿着光轴设置的相位偏移衍射光栅、相位分析器光栅和X射线图像检测器的X射线检测装置。为了步进，光栅和/或X射线发射装置提供有相对于光轴彼此相对设置的至少两个致动器。为了校准，在无对象的情况下获取校准投射，其中所发射的X射线辐射或一个光栅以校准移位值逐步移位。为了检查，在有对象的情况下获得测量投射，其中所发射的X射线辐射或一个光栅以测量逐步移位，通过将测量投射与校准投射配准，将校准投射关联到每个测量投射。
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公开(公告)号：CN101309643A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200680042630.9
申请日：2006-11-14
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: A61B6/03
CPC classification number: A61B6/4241 , A61B6/032 , A61B6/482
Abstract: 提供计算机断层摄影(CT)系统，其与CT数据的生成和/或解释结合地利用X射线管光谱。所公开的系统和方法使用与CT系统相关的X射线管光谱来增强对比度和/或图像质量，例如通过使用能量选择探测技术。X射线谱可以以各种方式来确定，例如，将光谱X射线管模型并入CT系统，使用Monte－Carlo模拟的输出，和/或处理用于CT系统的实验测量的光谱管数据。通常由与CT系统相关的计算机系统生成X射线管光谱和/或将X射线管光谱存储在其中，并且X射线管光谱可用于支持能量选择探测方法和/或光谱CT图像的生成。
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公开(公告)号：CN103261878B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201180059828.9
申请日：2011-12-05
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G06T7/0012 , G01N23/046 , G01N2223/419
Abstract: 一种用于分析对象中的受关注的区域的方法和设备。该方法包括：（a）通过微分相衬X射线成像系统提供测量数据，以及（b）分析受关注的区域中的对象的特性。其中，测量数据包括像素的2维或3维集合，其中针对每个像素，测量数据包括在空间上彼此对齐的三种类型的图像数据，包括（i）吸收表示图像数据A，（ii）微分相衬表示图像数据D，（iii）相干性表示图像数据C。针对每个像素，分析步骤是基于包括在吸收表示图像数据A中的信息和包括在微分相衬表示图像数据D中的信息以及包括在相干性表示图像数据C中的信息中的至少两种信息的组合。
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公开(公告)号：CN102365687B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201080014910.5
申请日：2010-03-19
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G21K1/06 , G02B27/52 , G21K2207/005
Abstract: 提供用于检查感兴趣对象的消色差的相衬成像装置，该装置包括具有不同间距的两个不同的相位光栅。因而，成像装置产生关于两个不同的能量的相衬信息。因而，能够使用遍及更宽的能带的相位信息。
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