公开(公告)号：CN104274198B

公开(公告)日：2018-12-14

申请号：CN201410320900.4

申请日：2014-07-04

Applicant: 西门子公司

Inventor： M.霍黑塞尔 ,  K.克林根贝克

IPC: A61B6/03 ,  G01N23/04

CPC classification number: G01N23/20075 ,  A61B6/4035 ,  A61B6/4233 ,  A61B6/4241 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/4441 ,  A61B6/484 ,  A61B6/587

Abstract: 本发明涉及一种用于对检查对象进行微分相衬成像的X射线拍摄系统，具有：至少一个产生准相干X射线的X射线发射器；带有对辐射敏感的、对X射线成像有效的输入面的和布置成阵列的像素的X射线成像探测器；布置在检查对象与射线成像探测器之间的衍射或相位光栅；为衍射或相位光栅对应配设的检偏器光栅；和用于控制X射线成像探测器与接收以及处理X射线成像探测器的图像信号的图像系统。相位光栅和检偏器光栅的尺寸为，使得它们遮盖X射线成像探测器的输入面的仅一部分，图像系统构造为使读出并处理X射线成像探测器的输入面的由光栅遮盖的部分作为用于相衬成像的部分区域，并且读出并且处理X射线成像探测器的其余区域以便基于X射线的吸收成像。

公开(公告)号：CN107820488A

公开(公告)日：2018-03-20

申请号：CN201680038516.2

申请日：2016-05-31

Applicant: 科莱恩塑料和涂料有限公司

Inventor： M·扎尔 ,  E·泽赛博格 ,  M·查希 ,  O·沙克尔 ,  P·斯特凡尼特

IPC: C07D211/58 ,  C08K5/3435 ,  C08L77/00 ,  C08L67/00 ,  C08L23/08

CPC classification number: C07D211/58 ,  C07C233/79 ,  C08K5/005 ,  C08K5/3435 ,  C08L23/0846 ,  C08L29/04 ,  C08L67/00 ,  C08L77/00 ,  C08L2201/08 ,  G01N23/20075 ,  C08L23/0861 ,  C08L2201/14

Abstract: 本发明涉及式(I)的化合物，其特征在于在用Cu Kα射线(0.154nm)测得的X射线粉末图中在15.0和22.7的2θ角处具有高强度的特征信号和在5.0、11.3、18.9、20.8、21.6和23.6的2θ角处具有中强度的特征信号；以及制备式(I)的化合物的方法，其包括使至少一种式(II)的间苯二甲酸二酯与2当量4-氨基-2,2,6,6-四甲基哌啶，在选自金属醇盐的至少一种催化剂存在下和在50至150℃的反应温度下反应，其中R1和R2相同或不同并且是脂族基团。

公开(公告)号：CN105669679A

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201610156820.9

申请日：2016-03-18

Applicant: 苏州晶云药物科技有限公司

Inventor： 陈敏华 ,  张炎锋 ,  张良 ,  纪书林

IPC: C07D487/04

CPC classification number: C07D471/04 ,  C07D211/32 ,  C07D487/04 ,  G01N23/20075 ,  G01N25/4866 ,  C07B2200/13

Abstract: 本发明提供一种PCI-32765晶型A的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：1)将PCI-32765的游离碱固体溶解于正溶剂中；2)将步骤1)中的溶液滴加到反溶剂中，滴加完毕后搅拌，并加入PCI-32765晶型A的晶种，或将步骤1)中的溶液滴加到含PCI-32765晶型A晶种的悬浊液中；3)控制步骤2)所得的溶液体系持续搅拌，熟化，获得晶浆；4)晶浆经过滤，洗涤，干燥后得到PCI-32765晶型A的粉末。本发明提供的晶型A的制备方法具有工艺操作简单、过程稳定可控、收率高、环境友好、除杂能力好、适合工业化生产的特点，且制备得到的晶型A能稳定储存，引湿性，溶解度符合药用要求。

公开(公告)号：CN102590913A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201110443383.6

申请日：2011-12-27

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 金子泰久

IPC: G02B5/18 ,  G01N23/04 ,  G01N23/20 ,  A61B6/06

CPC classification number: A61B6/484 ,  A61B6/4291 ,  G01N23/20075

Abstract: 本发明提供用于射线摄影的栅格、射线图像检测器、射线成像系统以及用于制备栅格的方法。多线图案中的周期性电极形成于非线性单晶基板的第一表面上。将非线性单晶基板放在真空室中，并且用加热器加热。之后，将高电压施加至非线性单晶基板。从而，非线性单晶基板的自发极化方向在面向周期性电极的部分中反转，所述部分称作反转部分。在将非线性单晶基板结合至支持基板之后，仅将非线性单晶基板的未反转部分通过湿蚀刻移除，并且将带有高纵横比的沟留在保留下的反转部分之间。将该沟用X射线吸收材料如金填充。填充有金的沟组成栅格的X射线吸收部分，同时反转部分构成X射线透过部分。

公开(公告)号：CN102395877A

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：CN201080016959.4

申请日：2010-04-13

Applicant: 西门子公司

Inventor： 蒂洛·米歇尔 ,  彼得·巴特尔 ,  吉塞拉·安东

IPC: G01N23/04

CPC classification number: G01N23/20075 ,  A61B6/484

Abstract: 本发明涉及一种用于进行相衬测量的检测装置(1)，其包括至少两个前后布置的转换层(2，3)，其中，至少沿射线方向(8)的第一转换层(2)具有复数个交替布置的灵敏区域(9)和灵敏度较低区域(10)，所述灵敏区域的吸收度较高，以便将入射射线量子转换成信号，所述灵敏度较低区域的吸收度相对较低。与基于光栅的干涉图测量相比，通过这种方式可以在保持图像质量不变的情况下，用更少的X射线剂量以更短的摄制时间产生相衬图像。此外通过快速检测信号序列，可以校正重建图像中的运动伪影和/或识别及校正扫描几何结构的变化。本发明还涉及一种相应的X射线断层摄影仪(15)和一种进行相衬测量的方法。

公开(公告)号：CN101495853A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780026455.9

申请日：2007-06-28

Applicant: 保罗·谢勒学院

Inventor： C·戴维 ,  F·普费弗

IPC: G01N23/00

CPC classification number: G01N23/04 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/484 ,  G01N23/20075 ,  G01N2223/064 ,  G01N2223/1016 ,  G01N2223/6123 ,  G21K2207/005

Abstract: 本发明涉及一种用于从目标获得定量的x射线影像的x射线干涉仪，尤其是硬x射线干涉仪，包含：a)x射线源，优选的是标准多色x射线源，b)非布喇格晶体的衍射分束光栅，最好采用透射几何，c)拥有多个单独像素的空间调制探测灵敏度的位置灵敏探测器；d)用于记录相位步进法中探测器影像的装置；e)用于在一系列的影像中评估每个像素强度的装置，以把每个单独的像素的目标特性鉴别为吸收主导的像素和/或差分相衬主导的像素和/或x射线散射主导的像素。

公开(公告)号：CN105637351B

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201480056220.4

申请日：2014-10-30

Applicant: 国立大学法人 ,  东北大学

Inventor： 百生敦

IPC: G01N23/20

CPC classification number: G01N23/20075 ,  A61B6/4035 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/484 ,  G21K1/06 ,  G21K2207/005

Abstract: 本发明提供能够对移动的被检体进行精密的非破坏检查的技术。放射线源1向栅格G0～G2放射放射线。各栅格G0～G2具备多个栅格构件。放射线检测器3对通过多个栅格构件而衍射的放射线进行检测。多个栅格构件具有预定的相位差而配置，以使由通过了第一～第三部分区域71～73的放射线分别形成的莫尔花纹图像具有莫尔花纹图像相互之间的相位差。

公开(公告)号：CN104582575B8

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201380044199.1

申请日：2013-08-09

Applicant: 皇家飞利浦有限公司

Inventor： G·福格特米尔 ,  U·范斯特文达勒

IPC: A61B6/00 ,  G01N23/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G01N23/20075 ,  A61B6/025 ,  A61B6/4441 ,  A61B6/484 ,  A61B6/502 ,  A61B6/582 ,  A61B6/587 ,  G01N23/04 ,  G01N2223/323 ,  G21K1/067

Abstract: 本发明涉及处置差分相衬成像中的未对准。为了提供对用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的经改进的处置，提供了一种用于差分相衬成像的X射线成像系统(10)，所述X射线成像系统(10)包括差分相衬设置(12)，所述差分相衬设置(12)具有：X射线源(14)、X射线探测器(16)和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅(18)、相位光栅(20)和分析器光栅(22)。所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，所述系统包括处理单元(24)和测量系统(26)，所述测量系统(26)用于确定所述光栅中的至少一个的未对准。所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元(28)。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元(30)。所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定包括所述X射线源单元的所述差分相衬设置与所述X射线探测单元之间的未对准。另外，所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号(34)。

公开(公告)号：CN105338901A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201480036955.0

申请日：2014-06-27

Applicant: 皇家飞利浦有限公司

Inventor： E·勒斯尔 ,  G·马滕斯

IPC: A61B6/00 ,  G01N23/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/18

CPC classification number: A61B6/582 ,  A61B6/484 ,  A61B6/5258 ,  A61B6/583 ,  G01N23/20075 ,  G01N2223/303 ,  G02B5/1838 ,  G21K1/06 ,  G21K1/10 ,  G21K2207/005

Abstract: 本发明涉及X射线相位衬度成像中的校准。为了移除由于个别增益因子引起的干扰，提供一种用于狭缝扫描X射线相位衬度成像装置的校准滤波器光栅(10)，其包括：第一多个滤波器段(11)，所述第一多个滤波器段包括滤波器材料(12)；以及，第二多个开口段(13)。所述滤波器段和所述开口段被交替布置为滤波器样式(15)。所述滤波器材料由具有结构元件(14)的材料制成，所述结构元件(14)包括微米范围的结构参数。所述滤波器光栅被可移动地布置在相位衬度成像装置的狭缝扫描系统中的干涉仪单元的X射线源光栅(54)与分析器光栅(60)之间。所述狭缝扫描系统被提供具有预准直器(55)，所述预准直器包括多个条棒(57)和狭缝(59)。所述滤波器样式与预准直器样式(61)对齐。

公开(公告)号：CN104287755A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201410337362.X

申请日：2014-07-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 佐藤玄太

IPC: A61B6/00 ,  G01N23/04

CPC classification number: G21K1/06 ,  G01N23/20075 ,  G21K1/02 ,  G21K2207/005

Abstract: 公开了源光栅、干涉计和被检体信息获取系统。源光栅包括：第一副源光栅，其中透过X射线的第一透过部和屏蔽X射线的第一屏蔽部在第一方向上交替排列；以及第二副源光栅，其中透过X射线的第二透过部和屏蔽X射线的第二屏蔽部在与第一方向正交的第二方向上交替排列。第一副源光栅是弯曲的，使得该弯曲上的两个位置在第一方向上对齐。第二副源光栅是弯曲的，使得该弯曲上的两个位置在第二方向上对齐。