用于相衬成像的X射线干涉仪

    公开(公告)号:CN101495853A

    公开(公告)日:2009-07-29

    申请号:CN200780026455.9

    申请日:2007-06-28

    Abstract: 本发明涉及一种用于从目标获得定量的x射线影像的x射线干涉仪,尤其是硬x射线干涉仪,包含:a)x射线源,优选的是标准多色x射线源,b)非布喇格晶体的衍射分束光栅,最好采用透射几何,c)拥有多个单独像素的空间调制探测灵敏度的位置灵敏探测器;d)用于记录相位步进法中探测器影像的装置;e)用于在一系列的影像中评估每个像素强度的装置,以把每个单独的像素的目标特性鉴别为吸收主导的像素和/或差分相衬主导的像素和/或x射线散射主导的像素。

    微分相位对比成像
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103189739A

    公开(公告)日:2013-07-03

    申请号:CN201180050117.5

    申请日:2011-10-12

    Inventor: E·勒斯尔

    Abstract: 本发明涉及微分相位对比成像,尤其涉及一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅、例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了更好地利用通过对象的X射线辐射,提供一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅(14),其具有第一子区域(26)的至少一个部分(24)和第二子区域(30)的至少一个部分(28)。所述第一子区域包括具有多个以第一光栅间距PG(38)周期性布置的条(34)和间隙(36)的光栅结构(54),其中,所述条被布置成使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,并且其中,所述间隙是能透过X射线的。所述第二子区域是能透过X射线的,并且其中,所述第二子区域的至少一个部分在光栅中提供能透过X射线的孔径(40)。沿至少一个方向(42)以交替方式布置第一子区域和第二子区域的各部分。

    微分相位对比成像
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103189739B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201180050117.5

    申请日:2011-10-12

    Inventor: E·勒斯尔

    Abstract: 本发明涉及微分相位对比成像,尤其涉及一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅、例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了更好地利用通过对象的X射线辐射,提供一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅(14),其具有第一子区域(26)的至少一个部分(24)和第二子区域(30)的至少一个部分(28)。所述第一子区域包括具有多个以第一光栅间距PG(38)周期性布置的条(34)和间隙(36)的光栅结构(54),其中,所述条被布置成使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,并且其中,所述间隙是能透过X射线的。所述第二子区域是能透过X射线的,并且其中,所述第二子区域的至少一个部分在光栅中提供能透过X射线的孔径(40)。沿至少一个方向(42)以交替方式布置第一子区域和第二子区域的各部分。

    用于相衬成像的x射线干涉仪

    公开(公告)号:CN101495853B

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN200780026455.9

    申请日:2007-06-28

    Abstract: 本发明涉及一种用于从目标获得定量的x射线影像的x射线干涉仪,尤其是硬x射线干涉仪,包含:a)x射线源,优选的是标准多色x射线源,b)非布喇格晶体的衍射分束光栅,最好采用透射几何,c)拥有多个单独像素的空间调制探测灵敏度的位置灵敏探测器;d)用于记录相位步进法中探测器影像的装置;e)用于在一系列的影像中评估每个像素强度以把每个单独的像素的目标特性鉴别为吸收主导的像素和/或差分相衬主导的像素和/或x射线散射主导的像素的装置。

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