无定形二氧化硅质粉末、其制造方法以及用途

    公开(公告)号:CN102015531A

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN200980115553.9

    申请日:2009-05-13

    Abstract: 本发明提供即使高填充无机质填充材料、封装时的粘度也低、成形性进一步提高的树脂组合物、特别是半导体封装材料。另外,提供适于调制这种树脂组合物的无定形二氧化硅质粉末和无定形二氧化硅质粉末的制造方法。一种无定形二氧化硅质粉末,使无定形二氧化硅质粉末吸附吡啶后,在大于或等于450℃但小于550℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量L与在大于或等于150℃但小于250℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量B之比L/B为0.8以下。进而,在大于或等于150℃但小于550℃的温度下进行加热时的吡啶的总脱附量A中,在大于或等于150℃但小于250℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量B所占的比例(B/A)×100%优选为20%以上。另外,前述无定形二氧化硅质粉末优选的是,比表面积为0.5~45m2/g,平均粒径为0.1~60μm,平均球形度为0.80以上。

    无定形二氧化硅质粉末、其制造方法以及用途

    公开(公告)号:CN102015531B

    公开(公告)日:2013-10-16

    申请号:CN200980115553.9

    申请日:2009-05-13

    Abstract: 本发明提供即使高填充无机质填充材料、封装时的粘度也低、成形性进一步提高的树脂组合物、特别是半导体封装材料。另外,提供适于调制这种树脂组合物的无定形二氧化硅质粉末和无定形二氧化硅质粉末的制造方法。一种无定形二氧化硅质粉末,使无定形二氧化硅质粉末吸附吡啶后,在大于或等于450℃但小于550℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量L与在大于或等于150℃但小于250℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量B之比L/B为0.8以下。进而,在大于或等于150℃但小于550℃的温度下进行加热时的吡啶的总脱附量A中,在大于或等于150℃但小于250℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量B所占的比例(B/A)×100%优选为20%以上。另外,前述无定形二氧化硅质粉末优选的是,比表面积为0.5~45m2/g,平均粒径为0.1~60μm,平均球形度为0.80以上。

Patent Agency Ranking