三维造型装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106457685B

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN201580018151.2

    申请日:2015-03-19

    Abstract: 本发明提供一种能够减少造型工序中的喷墨头的等待时间而缩短造型时间的三维造型装置,利用复涂机(2)在造型台(30)上散布并层叠砂,根据造型数据,从头(1)向散布的砂上喷出·涂敷粘结剂,利用粘结剂使砂(S)结合而制作三维造型物,其中,将复涂机(2)设为能够散布与造型台(30)的1边的长度相对应的砂(S)的长度,以能够在与1边正交的方向上移动的方式形成,将头(1)形成为能够喷出对应于与1边相邻的边的长度的粘结剂的线型头,以能够在正交于与1边相邻的边的方向上移动的方式形成,使复涂机(2)和头(1)交替地动作而在造型台(30)上形成三维造型物。

    采用隧道场效应晶体管的集成电路及其制造方法

    公开(公告)号:CN106104789B

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201580012440.1

    申请日:2015-02-20

    Inventor: 森贵洋

    Abstract: 本发明提供一种采用隧道场效应晶体管的集成电路及其制造方法,减少形成将两个隧道场效应晶体管电连接的电路所需要的面积及成本,并且还减少寄生电容、寄生电阻。作为解决方案,采用隧道场效应晶体管的集成电路的特征在于,在一个活性区域以同一极性形成有第一隧道场效应晶体管和第二隧道场效应晶体管,所述第一隧道场效应晶体管的第一P型区域及第一N型区域中的一者作为源极区域、另一者作为漏极区域工作,所述第二隧道场效应晶体管的第二P型区域及第二N型区域中的一者作为源极区域、另一者作为漏极区域工作,并且所述第一P型区域与所述第二N型区域相邻,相邻的所述第一P型区域与所述第二N型区域利用金属半导体合金膜电连接。

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