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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111354784B
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN201911258253.8
申请日：2019-12-10
Applicant: 瑞萨电子株式会社
Abstract: 本公开实施例涉及半导体器件及其制造方法。具有包括Au‑Sb合金的背电极的半导体器件的特性被改进。该半导体器件具有半导体衬底和该包括Au‑Sb合金层的背电极。背电极被形成在半导体衬底上。Au‑Sb合金层中的Sb浓度等于或大于15wt％，并且等于或小于37wt％。Au‑Sb合金层的厚度等于或大于20nm，并且等于或小于45nm。
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公开(公告)号：CN107546213A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710502805.X
申请日：2017-06-27
Applicant: 瑞萨电子株式会社
IPC: H01L23/535 , H01L23/538 , H01L21/60 , H01L23/31
CPC classification number: H01L24/13 , H01L21/311 , H01L21/321 , H01L21/56 , H01L23/293 , H01L23/3157 , H01L23/3192 , H01L23/525 , H01L23/53295 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/06 , H01L24/11 , H01L24/16 , H01L24/81 , H01L2224/02311 , H01L2224/02331 , H01L2224/02333 , H01L2224/02377 , H01L2224/0239 , H01L2224/03462 , H01L2224/0347 , H01L2224/03914 , H01L2224/0401 , H01L2224/05082 , H01L2224/05083 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05166 , H01L2224/05186 , H01L2224/05548 , H01L2224/05567 , H01L2224/061 , H01L2224/06135 , H01L2224/10145 , H01L2224/11334 , H01L2224/11462 , H01L2224/1147 , H01L2224/1182 , H01L2224/11849 , H01L2224/1191 , H01L2224/13021 , H01L2224/13024 , H01L2224/13083 , H01L2224/13111 , H01L2224/13139 , H01L2224/13144 , H01L2224/13147 , H01L2224/13163 , H01L2224/13164 , H01L2224/13565 , H01L2224/1357 , H01L2224/13686 , H01L2224/1369 , H01L2224/16112 , H01L2224/16237 , H01L2224/32225 , H01L2224/73104 , H01L2224/73204 , H01L2224/81191 , H01L2224/81411 , H01L2224/81815 , H01L2924/3512 , H01L2924/01029 , H01L2924/013 , H01L2924/01014 , H01L2924/00014 , H01L2924/04941 , H01L2924/01047 , H01L2924/014 , H01L2924/053 , H01L2224/16225 , H01L2924/00012
Abstract: 本发明涉及半导体器件及其制造方法，能够提高半导体器件的可靠性。半导体器件具有：半导体衬底(1)；导体层(RM)，形成在半导体衬底(1)上、且具有上表面及下表面；导体柱(CP)，在导体层(RM)的上表面上形成，且具有上表面、下表面及侧壁；保护膜(16)，覆盖导体层(RM)的上表面，且具有露出导体柱(CP)上表面及侧壁的开口(16a)；及覆盖导体柱(CP)的侧壁的保护膜(SW)。而且，在俯视中，保护膜(16)的开口(16a)大于导体柱(CP)的上表面，并露出导体柱(CP)的上表面的整个区域。
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公开(公告)号：CN111354784A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201911258253.8
申请日：2019-12-10
Applicant: 瑞萨电子株式会社
Abstract: 本公开实施例涉及半导体器件及其制造方法。具有包括Au-Sb合金的背电极的半导体器件的特性被改进。该半导体器件具有半导体衬底和该包括Au-Sb合金层的背电极。背电极被形成在半导体衬底上。Au-Sb合金层中的Sb浓度等于或大于15wt％，并且等于或小于37wt％。Au-Sb合金层的厚度等于或大于20nm，并且等于或小于45nm。
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公开(公告)号：CN108831867A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201810372729.X
申请日：2018-04-24
Applicant: 瑞萨电子株式会社
IPC: H01L23/488 , H01L21/60 , H01L21/66
Abstract: 本发明提供一种半导体装置及其制造方法。在本发明的半导体装置中，以与焊盘电极ALP接触的方式形成有阻挡层BAL。作为阻挡层BAL，形成有包含钛膜与氮化钛膜的钛合金层。以与阻挡层BAL接触的方式形成有种晶层SED。作为种晶层SED，形成有铜膜。以与种晶层SED接触的方式形成有银凸块AGBP。银凸块AGBP由利用电镀法形成的银膜AGPL构成。在该银凸块AGBP上接合有锡合金球SNB。
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公开(公告)号：CN207068843U
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201720758267.6
申请日：2017-06-27
Applicant: 瑞萨电子株式会社
IPC: H01L23/535 , H01L23/538 , H01L21/60 , H01L23/31
CPC classification number: H01L24/13 , H01L21/311 , H01L21/321 , H01L21/56 , H01L23/293 , H01L23/3157 , H01L23/3192 , H01L23/525 , H01L23/53295 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/06 , H01L24/11 , H01L24/16 , H01L24/81 , H01L2224/02311 , H01L2224/02331 , H01L2224/02333 , H01L2224/02377 , H01L2224/0239 , H01L2224/03462 , H01L2224/0347 , H01L2224/03914 , H01L2224/0401 , H01L2224/05082 , H01L2224/05083 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05166 , H01L2224/05186 , H01L2224/05548 , H01L2224/05567 , H01L2224/06135 , H01L2224/10145 , H01L2224/11334 , H01L2224/11462 , H01L2224/1147 , H01L2224/1182 , H01L2224/11849 , H01L2224/1191 , H01L2224/13021 , H01L2224/13024 , H01L2224/13083 , H01L2224/13111 , H01L2224/13139 , H01L2224/13144 , H01L2224/13147 , H01L2224/13163 , H01L2224/13164 , H01L2224/13565 , H01L2224/1357 , H01L2224/13686 , H01L2224/1369 , H01L2224/16112 , H01L2224/16237 , H01L2224/73104 , H01L2224/73204 , H01L2224/81191 , H01L2224/81411 , H01L2224/81815 , H01L2924/3512 , H01L2924/01029 , H01L2924/013 , H01L2924/01014 , H01L2924/00014 , H01L2924/04941 , H01L2924/01047 , H01L2924/014 , H01L2924/053
Abstract: 本实用新型涉及半导体器件，能够提高半导体器件的可靠性。半导体器件具有：半导体衬底(1)；导体层(RM)，形成在半导体衬底(1)上、且具有上表面及下表面；导体柱(CP)，在导体层(RM)的上表面上形成，且具有上表面、下表面及侧壁；保护膜(16)，覆盖导体层(RM)的上表面，且具有露出导体柱(CP)上表面及侧壁的开口(16a)；及覆盖导体柱(CP)的侧壁的保护膜(SW)。而且，在俯视中，保护膜(16)的开口(16a)大于导体柱(CP)的上表面，并露出导体柱(CP)的上表面的整个区域。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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