半导体器件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101540324B

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN200910128556.8

    申请日:2009-03-18

    Abstract: 本发明提供一种半导体器件,在半导体衬底(1)上形成MIM型电容元件,该MIM型电容元件在布线(M1~M5)的梳状金属图案形成电极。电容元件的下方配置有为了防止CMP工序中的小凹坑的虚拟栅极图案的导体图案(8b)和作为虚拟有源区域的有源区域(1b),所述导体图案(8b)和有源区域(1b)通过与由布线(M1~M5)构成的屏蔽用的金属图案的连接来连接到固定电位。并且,导体图案(8b)及有源区域(1b)不与布线(M1~M5)的梳状金属图案平面重合。由此能提高具有电容元件的半导体器件的性能。

    半导体器件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102420225A

    公开(公告)日:2012-04-18

    申请号:CN201110242752.5

    申请日:2011-08-19

    Abstract: 提供了一种具有电阻值的温度依赖性小的电阻元件的半导体器件。半导体器件具有金属电阻元件层。金属电阻元件层包括电阻膜层。另一金属电阻元件层包括另一金属电阻膜层。金属电阻膜层为氮化钛电阻与氮化钽电阻中的一个。另一金属电阻膜层为氮化钛电阻与氮化钽电阻中的另一个。氮化钛电阻的电阻值具有正温度系数。而氮化钽电阻的电阻值具有负温度系数。接触插塞将金属电阻膜层与另一金属电阻膜层电耦合。因此,氮化钛电阻的温度系数与氮化钽电阻的温度系数可以彼此抵消。这可以减小温度系数。

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