半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN119725284B

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202510238827.4

    申请日:2025-02-28

    Abstract: 本公开实施例公开了一种半导体器件及其制造方法。该半导体器件包括:第一键合结构、第二键合结构、填充层和连接层;第一键合结构设于第一晶圆的表面且包括第一键合部和第二键合部,其中,第一键合部的截面尺寸小于第二键合部的截面尺寸;第二键合结构设于第二晶圆朝向第一晶圆的表面,其中,第二键合结构背离第二晶圆的表面具有第一凹槽,第一凹槽的截面尺寸大于第二键合部的截面尺寸,第二键合部嵌入第一凹槽内;填充层设于第二键合结构和第一晶圆之间;连接层包括第一连接部和第二连接部,其中,第一连接部设于第一凹槽和第二键合部之间,第二连接部设于填充层和第二键合部之间。

    多孔膜层的制造方法、封装基板以及芯片

    公开(公告)号:CN119530722A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411587711.3

    申请日:2024-11-07

    Abstract: 本申请实施例提供一种多孔膜层的制造方法、封装基板以及芯片,其中,该制造方法包括:提供行星架;行星架包括多个行星盘和固定在行星盘上的基座;行星盘绕行星架的法线公转并绕行星盘所在平面的法线自转;基座包括相对设置的第一面和第二面;第一面贴合行星盘所在平面;第一面和第二面之间具有第一夹角;将基板固定在第二面上;调整第一夹角,使得基板的待沉积平面与待沉积材料的沉积方向之间具有第二夹角;第二夹角大于0度且小于90度;控制包括行星盘的公转转速、自转转速以及控制待沉积材料的沉积速率;将待沉积材料沿沉积方向沉积在基板的待沉积平面上,以形成多孔膜层。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN119725284A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202510238827.4

    申请日:2025-02-28

    Abstract: 本公开实施例公开了一种半导体器件及其制造方法。该半导体器件包括:第一键合结构、第二键合结构、填充层和连接层;第一键合结构设于第一晶圆的表面且包括第一键合部和第二键合部,其中,第一键合部的截面尺寸小于第二键合部的截面尺寸;第二键合结构设于第二晶圆朝向第一晶圆的表面,其中,第二键合结构背离第二晶圆的表面具有第一凹槽,第一凹槽的截面尺寸大于第二键合部的截面尺寸,第二键合部嵌入第一凹槽内;填充层设于第二键合结构和第一晶圆之间;连接层包括第一连接部和第二连接部,其中,第一连接部设于第一凹槽和第二键合部之间,第二连接部设于填充层和第二键合部之间。

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