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公开(公告)号：CN114993190B
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202210502276.4
申请日：2022-05-10
Applicant: 清华大学
IPC: G01B11/03
Abstract: 本发明公开一种光刻机光栅六自由度位移测量系统，用于测量光栅安装板相对于光刻机投影物镜和对准传感器的空间位姿，包括两个位移测量分系统，每个测量分系统包含三个探测器并且每个探测器具备二自由度的测量功能。通过设置预处理位光栅安装板、曝光位光栅安装板的布置孔，可以便利的设置两组探测器，能够准确快捷的获得六自由度位移，可以解决因光刻机振动、环境影响等因素引起光栅安装板相对投影物镜和对准传感器的空间位姿变化的难题。
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公开(公告)号：CN107860318B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN201711116154.7
申请日：2017-11-13
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
IPC: G01B11/02 , G01B9/02001 , G01B9/02015 , G01D5/26 , G01D5/38
Abstract: 一种平面光栅干涉仪位移测量系统，包括单频激光器、分束器、声光调制器、光栅干涉仪、平面光栅、接收器、电子信号处理部件、光纤耦合器和频率合成器；光栅干涉仪包括偏振分光镜、折光元件、后向反射器和四分之一波片；该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量。当光栅干涉仪与平面光栅做二自由度线性相对运动时，系统可输出二个线性位移。该测量系统能够实现亚纳米甚至更高分辨率及精度，且能够同时测量二个线性位移；具有测量精度高和结构简单等优点，其作为光刻机超精密工件台位置测量系统可提升工件台综合性能。
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公开(公告)号：CN113991967B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202111157041.8
申请日：2021-09-30
Applicant: 清华大学
IPC: H02K49/10
Abstract: 本发明公开一种非接触式永磁支撑装置，包括：定子，所述定子为竖向的圆柱形的永磁体，所述定子沿轴线方向充磁，且上部为第一磁极，下部为与所述第一磁极相反的第二磁极；动子，所述动子为环形永磁体，所述动子同轴设置在所述定子的外围，所述动子沿径向充磁，且外侧圆周为第一磁极，内侧圆周为与所述第一磁极相反的第二磁极；支撑体，所述支撑体与动子固定连接，悬置于所述定子上方。本发明的非接触式的方式在适用于晶圆的旋转运动的同时避免了因接触工作产生颗粒、震动、噪音；动子与定子安装时存在一定间隙，在动子与定子进行相对旋转过程中，无摩擦损伤，大大提升了动子的使用寿命，避免了微细杂质对晶圆应用场景的二次污染。
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公开(公告)号：CN114114849B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202111298014.2
申请日：2021-11-04
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提供了一种可拆分式真空腔室，包括可拆分的上真空腔室和下真空腔室，在所述上真空腔室的外部设置有用于固定所述上真空腔室的支撑机构；在所述下真空腔室的下方设置有升降机构，所述升降机构用于将所述下真空腔室与所述上真空腔室对接和分离，在所述上真空腔室和所述下真空腔室的对接处设置有间距控制机构，所述间距控制机构与所述升降机构电性连接，用于控制所述上真空腔室和所述下真空腔室之间的间距；在所述下真空腔室的下方设置有行走机构和行走导向机构。本发明实现了真空腔室的轻松拆分，存放物与下真空腔室一起稳定地移入移出，避免了外部装备的拆卸，保证了外部装备的稳定运行。
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公开(公告)号：CN114993190A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210502276.4
申请日：2022-05-10
Applicant: 清华大学
IPC: G01B11/03
Abstract: 本发明公开一种光刻机光栅六自由度位移测量系统，用于测量光栅安装板相对于光刻机投影物镜和对准传感器的空间位姿，包括两个位移测量分系统，每个测量分系统包含三个探测器并且每个探测器具备二自由度的测量功能。通过设置预处理位光栅安装板、曝光位光栅安装板的布置孔，可以便利的设置两组探测器，能够准确快捷的获得六自由度位移，可以解决因光刻机振动、环境影响等因素引起光栅安装板相对投影物镜和对准传感器的空间位姿变化的难题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113975928B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202111137191.2
申请日：2021-09-27
Applicant: 清华大学
IPC: B01D53/02
Abstract: 本发明提供一种真空环境下的低温吸附与再生系统，该系统包括主腔室、工件台、冷板、再生系统、真空系统和制冷系统；在所述主腔室内设置有所述工件台和所述冷板；所述再生系统设置在所述冷板外围，用于所述冷板的再生；所述真空系统布置在所述主腔室的顶部外侧，用于对所述主腔室抽真空；所述制冷系统布置在所述主腔室的侧面，用于对所述冷板进行低温控制。本发明利用低温表面对气体分子高吸附的特点和可收缩薄膜展开机构提供的封闭环境，实现真空环境下高效率的气体污染控制。
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公开(公告)号：CN114815527A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202111543776.4
申请日：2021-12-16
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供了一种光刻胶掩模的显影方法、装置、系统及储存介质，该方法包括：将光刻胶层的曝光区完全浸没于容器内的显影液中；由所述光刻胶层的下方向所述显影液中通入气体并产生上浮的气泡；待所述光刻胶层曝光区完全显影后，使所述光刻胶层从所述显影液中脱离。基于本发明的技术方案，将光刻胶层浸没于显影液中，避免显影液涂覆不均的情况发生，同时利用上浮的气泡搅动显影液，通过调节气泡的尺寸和数量，既能充分搅拌显影液进而提高固‑液界面上的传质速率，又能避免显影液的冲击力过大而损坏光刻胶掩模的微结构，从而提高大尺寸基板表面光刻胶层的显影质量。
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公开(公告)号：CN114002918B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202111185745.6
申请日：2021-10-12
Applicant: 清华大学
Abstract: 本申请公开了一种扫描干涉光刻曝光剂量的测算方法、装置、测算设备及介质，根据在曝光处的辐射束的第一测量数据，并获取所述曝光处的干涉场的第二测量数据，计算模型提前根据获取的第一测量数据和第二测量数据建立，基于所述第一测量数据、所述第二测量数据和计算模型计算所述曝光处的曝光剂量，提高了曝光剂量的测算准确度。
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公开(公告)号：CN113991967A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202111157041.8
申请日：2021-09-30
Applicant: 清华大学
IPC: H02K49/10
Abstract: 本发明公开一种非接触式永磁支撑装置，包括：定子，所述定子为竖向的圆柱形的永磁体，所述定子沿轴线方向充磁，且上部为第一磁极，下部为与所述第一磁极相反的第二磁极；动子，所述动子为环形永磁体，所述动子同轴设置在所述定子的外围，所述动子沿径向充磁，且外侧圆周为第一磁极，内侧圆周为与所述第一磁极相反的第二磁极；支撑体，所述支撑体与动子固定连接，悬置于所述定子上方。本发明的非接触式的方式在适用于晶圆的旋转运动的同时避免了因接触工作产生颗粒、震动、噪音；动子与定子安装时存在一定间隙，在动子与定子进行相对旋转过程中，无摩擦损伤，大大提升了动子的使用寿命，避免了微细杂质对晶圆应用场景的二次污染。
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公开(公告)号：CN108897956B
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN201810707357.1
申请日：2018-07-02
Applicant: 清华大学
IPC: G06F30/23 , G06F30/17 , G06F111/04
Abstract: 本发明涉及一种多孔机械零部件优化设计方法，包括三个步骤：1.单胞等效性质插值模型构建过程，2.基于单胞等效性质的实体结构拓扑优化过程，3.基于密度信息映射单胞信息的结构重建过程。本发明面向增材制造技术，针对机械零部件轻量化与刚度、强度优化的设计需求，集成了宏/介观材料一体优化及增材制造工艺约束；该设计方法具有速度快、效率高、性能好、面向制造的优点，作为重要机械零部件的设计方法可提升机械系统综合性能。
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