激光加工装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109070268A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201780020452.8

    申请日:2017-03-28

    Abstract: 一种激光加工装置,是将激光照射于对象物并进行上述对象物的激光加工的激光加工装置,具备输出上述激光的激光输出部、根据相位图案调制且反射从上述激光输出部输出的上述激光的空间光调制器、和将来自上述空间光调制器的上述激光向上述对象物聚光的物镜,上述空间光调制器具有:上述激光入射的入射面、将从上述入射面入射的上述激光向上述入射面反射的反射面、及配置于上述入射面和上述反射面之间且显示上述相位图案并调制上述激光的液晶层,在上述反射面形成有在彼此不连续的多个波段具有高反射率区域的电介质多层膜。

    激光加工装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109070268B

    公开(公告)日:2021-11-16

    申请号:CN201780020452.8

    申请日:2017-03-28

    Abstract: 一种激光加工装置,是将激光照射于对象物并进行上述对象物的激光加工的激光加工装置,具备输出上述激光的激光输出部、根据相位图案调制且反射从上述激光输出部输出的上述激光的空间光调制器、和将来自上述空间光调制器的上述激光向上述对象物聚光的物镜,上述空间光调制器具有:上述激光入射的入射面、将从上述入射面入射的上述激光向上述入射面反射的反射面、及配置于上述入射面和上述反射面之间且显示上述相位图案并调制上述激光的液晶层,在上述反射面形成有在彼此不连续的多个波段具有高反射率区域的电介质多层膜。

    光束发生装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101542355B

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN200780044127.1

    申请日:2007-09-14

    CPC classification number: G02B27/09 G02B5/3025 G02B21/32 G02B26/06

    Abstract: 本发明涉及一种光束发生装置(1),其具备激光光源(10)和光相位调制元件(15)等。光相位调制元件(15),输入从激光光源(10)输出并经过分光器(14)的相干光,根据该光的光束截面上的位置对该光进行相位调制,并向分光器(14)输出该相位调制后的光。在输入到光相位调制元件(15)的光的光束截面上,在设定以规定位置为原点的极坐标系(r,θ),并且设定由以所述规定位置为中心的p个圆周划分的(p+1)个区域时,在这些(p+1)个区域中,从内侧开始计算的第偶数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ=qθ”表示,从内侧开始计算的第奇数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ=qθ+π”表示。

    光束发生装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101542355A

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200780044127.1

    申请日:2007-09-14

    CPC classification number: G02B27/09 G02B5/3025 G02B21/32 G02B26/06

    Abstract: 本发明涉及一种光束发生装置(1),其具备激光光源(10)和光相位调制元件(15)等。光相位调制元件(15),输入从激光光源(10)输出并经过分光器(14)的相干光,根据该光的光束截面上的位置对该光进行相位调制,并向分光器(14)输出该相位调制后的光。在输入到光相位调制元件(15)的光的光束截面上,在设定以规定位置为原点的极坐标系(r,θ),并且设定由以所述规定位置为中心的p个圆周划分的(p+1)个区域时,在这些(p+1)个区域中,从内侧开始计算的第偶数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ=qθ”表示,从内侧开始计算的第奇数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ=qθ+π”表示。

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