微小体控制装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105683804B

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201480057919.2

    申请日:2014-10-02

    Abstract: 微小体控制装置(1)是控制样本(90)中的介质中的微小体的动作的装置,包括光源(10)、光学旋涡生成部(20)、物镜(30)、摄像部(60)、解析部(70)和移动部(80)。解析部(70)在由物镜(30)形成的光学旋涡的聚光位置被设定在第1位置时,基于来自对由光学旋涡光捕集的微小体进行了摄像的摄像部(60)的图像数据取得微小体的第1运动信息,在光学旋涡的聚光位置被设定在第2位置时,基于来自对由光学旋涡光捕集的微小体进行了摄像的摄像部(60)的图像数据取得微小体的第2运动信息,通过比较第1运动信息和第2运动信息,来评价由光学旋涡导致的微小体的光捕集的状态。

    光调制控制方法、控制程序、控制装置以及激光照射装置

    公开(公告)号:CN103917914B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201280053084.4

    申请日:2012-10-23

    Abstract: 在使用了空间光调制器的激光的聚光照射的控制中,取得激光的波长数、各个波长的值以及激光的入射条件(步骤S101),设定聚光点数、以及各个聚光点上的聚光位置、波长、聚光强度(S104),对于各个聚光点,导出由包含空间光调制器的光学系统赋予激光的失真相位图案(S107)。然后,考虑失真相位图案来设计呈现于空间光调制器的调制图案(S108)。另外,在调制图案的设计中,使用着眼于一个像素中的相位值的影响的设计法并且在评价聚光点上的聚光状态的时候使用加上了失真相位图案的传播函数。由此,实现了能够适当地实现激光的聚光控制的光调制控制方法、程序、装置以及激光照射装置。

    光控制装置以及光控制方法

    公开(公告)号:CN102265208A

    公开(公告)日:2011-11-30

    申请号:CN200980152900.5

    申请日:2009-12-24

    Abstract: 本发明涉及光控制装置以及光控制方法。光控制装置(1)具备光源(10)、棱镜(20)、空间光调制器(30)、驱动部(31)、控制部(32)、透镜(41)、缝隙(42)以及透镜(43)。空间光调制器(30)是相位调制型的空间光调制器,具有二维排列的多个像素,能够在4π以上的范围内进行这些多个像素的各个中的相位调制,显示在多个像素的各个中对光的相位进行调制的相位图案。该相位图案由用于光衍射的炫耀光栅图案和具有规定的相位调制分布的相位图案重叠而成,相位调制范围为2π以上。

    光学掩模以及光源装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101849199B

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN200880113901.4

    申请日:2008-06-26

    CPC classification number: G02B5/005 G02B27/0988

    Abstract: 本发明涉及光学掩模以及光源装置。该光学掩模是在输入光的光束截面中进行空间强度调制并输出该调制后的光的光学掩模,在被以规定位置作为中心的p个半径为r1~rp(p为偶数,rp>rp-1>…>r2>r1并且rp-rp-1>rp-1-rp-2>…>r3-r2>r2-r1>r1)的各圆周划分并从内侧开始依次设定区域A0~Ap时,区域Am(m为0以上p以下的偶数)是光透过区域,区域An(n为0以上p以下的奇数)是光屏蔽区域。

    光束发生装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101542355B

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN200780044127.1

    申请日:2007-09-14

    CPC classification number: G02B27/09 G02B5/3025 G02B21/32 G02B26/06

    Abstract: 本发明涉及一种光束发生装置(1),其具备激光光源(10)和光相位调制元件(15)等。光相位调制元件(15),输入从激光光源(10)输出并经过分光器(14)的相干光,根据该光的光束截面上的位置对该光进行相位调制,并向分光器(14)输出该相位调制后的光。在输入到光相位调制元件(15)的光的光束截面上,在设定以规定位置为原点的极坐标系(r,θ),并且设定由以所述规定位置为中心的p个圆周划分的(p+1)个区域时,在这些(p+1)个区域中,从内侧开始计算的第偶数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ=qθ”表示,从内侧开始计算的第奇数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ=qθ+π”表示。

    光束发生装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101542355A

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200780044127.1

    申请日:2007-09-14

    CPC classification number: G02B27/09 G02B5/3025 G02B21/32 G02B26/06

    Abstract: 本发明涉及一种光束发生装置(1),其具备激光光源(10)和光相位调制元件(15)等。光相位调制元件(15),输入从激光光源(10)输出并经过分光器(14)的相干光,根据该光的光束截面上的位置对该光进行相位调制,并向分光器(14)输出该相位调制后的光。在输入到光相位调制元件(15)的光的光束截面上,在设定以规定位置为原点的极坐标系(r,θ),并且设定由以所述规定位置为中心的p个圆周划分的(p+1)个区域时,在这些(p+1)个区域中,从内侧开始计算的第偶数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ=qθ”表示,从内侧开始计算的第奇数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ=qθ+π”表示。

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