反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置

    公开(公告)号:CN111433664A

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN201780097494.1

    申请日:2017-12-05

    Abstract: 本发明提供一种反射型空间光调制器,其具备:电光结晶,其具有输入光被输入的输入面和与输入面相对的背面;光输入输出部,其配置于电光结晶的输入面,且具有透射输入光的第一电极;光反射部,其包含包括多个第二电极的基板,且配置于电光结晶的背面侧;驱动电路,其对第一电极与多个第二电极之间施加电场,光输入输出部包含形成于输入面上的第一电荷注入抑制层,光反射部包含形成于背面上的第二电荷注入抑制层。

    反射型空间光调制器、光观察装置和光照射装置

    公开(公告)号:CN109313362B

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN201780034920.7

    申请日:2017-06-05

    Abstract: 反射型空间光调制器包括:相对介电常数为1000以上的钙钛矿型的电光晶体;光输入输出部,其具有配置于电光晶体的输入面且透过输入光的第一电极;光反射部,其具有配置于电光晶体的背面的多个第二电极,将输入光向光输入输出部反射;驱动电路,其具有与光反射部的多个第二电极分别对应的多个驱动电极,向多个驱动电极分别输入电信号而向第一电极与第二电极之间施加电场;和电极连接部,其具有以多个第二电极和与多个第二电极对应的多个驱动电极相互电连接的方式配置的多个凸块。

    光调制器、光观察装置以及光照射装置

    公开(公告)号:CN109313364A

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201780035028.0

    申请日:2017-06-05

    Abstract: 光调制器包括:具有输入输入光的第1面、与第1面相对的第2面,且相对介电常数为1000以上的钙钛矿型的电光晶体;具有配置于电光晶体的第1面且透过输入光的第1电极的第1光学元件;具有配置于电光晶体的第2面且透过输入光的第2电极的第2光学元件;以及向第1电极与第2电极之间施加电场的驱动电路,第1电极以单体配置于第1面,第2电极以单体配置于第2面,第1电极以及第2电极的至少一者部分地覆盖第1面或者第2面,电光晶体中的上述输入光的传播方向与上述电场的施加方向平行。

    反射型空间光调制器、光观察装置和光照射装置

    公开(公告)号:CN109313363A

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201780034927.9

    申请日:2017-06-05

    Abstract: 反射型空间光调制器包括:具有输入输入光的输入面和与输入面相对的背面,相对介电常数为1000以上的钙钛矿型的电光晶体;光输入输出部,其具有配置于电光晶体的输入面且透过输入光的第一电极;光反射部,其包括包含多个第二电极的像素电极部和将像素电极部固定于背面的粘结层,配置于电光晶体的背面,将输入光向输入输出部反射;和向第一电极与多个第二电极之间施加电场的驱动电路,粘结层在非导电性的粘结材料的固化物中具有电介质材料。

    光调制器、光观察装置以及光照射装置

    公开(公告)号:CN109313364B

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN201780035028.0

    申请日:2017-06-05

    Abstract: 光调制器包括:具有输入输入光的第1面、与第1面相对的第2面,且相对介电常数为1000以上的钙钛矿型的电光晶体;具有配置于电光晶体的第1面且透过输入光的第1电极的第1光学元件;具有配置于电光晶体的第2面且透过输入光的第2电极的第2光学元件;以及向第1电极与第2电极之间施加电场的驱动电路,第1电极以单体配置于第1面,第2电极以单体配置于第2面,第1电极以及第2电极的至少一者部分地覆盖第1面或者第2面,电光晶体中的上述输入光的传播方向与上述电场的施加方向平行。

    伪散斑图案生成装置、伪散斑图案生成方法、观察装置和观察方法

    公开(公告)号:CN110494794B

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN201880023619.0

    申请日:2018-03-26

    Abstract: 伪散斑图案生成装置(1A)包括第一空间光调制器(13)、透镜(14)、第二空间光调制器(15)和透镜(16)等。第一空间光调制器(13)具有基于伪随机数图案的第一强度调制分布,对从光源(11)输出而由扩束器(12)放大了光束直径的光空间地进行强度调制。第二空间光调制器(15)具有基于滤波函数的第二强度调制分布,设置在由透镜(14)生成傅立叶变换图案的面,对经透镜(14)到达的光空间地进行强度调制。透镜(16)对从第二空间光调制器(15)输出的光的图案光学地进行傅立叶变换而生成该傅立叶变换图案作为伪散斑图案。由此,实现生成的散斑图案的空间构造或光强度统计分布的设定的自由度高的伪散斑图案生成装置等。

    光照射装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107110477B

    公开(公告)日:2019-09-24

    申请号:CN201680006084.7

    申请日:2016-01-12

    Abstract: 本发明的目的在于,提供即使在光的强度分布从高斯分布不连续地进行变形的情况下也能够使输出光的强度分布接近所希望的分布的光照射装置。本发明的光照射装置具备:高斯光束输出部(10),输出具有服从高斯分布的光强度分布的光;空间光调制器(20),接收所述光并呈现计算机全息图而调制所述光;光学系统(40),对被调制的所述光进行聚光;振幅掩模(30),被配置于所述高斯光束输出部与所述空间光调制器之间的光轴以及所述空间光调制器与所述光学系统之间的光轴中至少一方的光轴上;所述振幅掩模具有将所述光轴作为中心的圆形状的第1区域、包围所述第1区域的圆环状的第2区域,所述第2区域中的透过率随着从光轴离开而连续地降低。

    光照射装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107110477A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201680006084.7

    申请日:2016-01-12

    Abstract: 本发明的目的在于,提供即使在光的强度分布从高斯分布不连续地进行变形的情况下也能够使输出光的强度分布接近所希望的分布的光照射装置。本发明的光照射装置具备:高斯光束输出部(10),输出具有服从高斯分布的光强度分布的光;空间光调制器(20),接收所述光并呈现计算机全息图而调制所述光;光学系统(40),对被调制的所述光进行聚光;振幅掩模(30),被配置于所述高斯光束输出部与所述空间光调制器之间的光轴以及所述空间光调制器与所述光学系统之间的光轴中至少一方的光轴上;所述振幅掩模具有将所述光轴作为中心的圆形状的第1区域、包围所述第1区域的圆环状的第2区域,所述第2区域中的透过率随着从光轴离开而连续地降低。

    光学装置
    10.
    发明公开
    光学装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN116157713A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202180059483.0

    申请日:2021-06-16

    Abstract: 本公开提供了一种光学装置(1),具有:光学系统(3),输出平行光,以及角度滤波器(6),配置在从光学系统(3)输出的平行光的光路上。角度滤波器(6)包括具有第一折射率n1的电介质层和具有小于第一折射率n1的第二折射率n2的电介质层交替层叠的电介质多层膜。由此,实现具有角度滤波器的光学装置,该角度滤波器能够从在空间传播的光中选择性地提取所期望的角度成分,去除其他的角度成分。

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