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公开(公告)号：CN105492652B
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201480038313.4
申请日：2014-06-30
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
摘要： 本发明涉及具有涂层的工件，涂层包括至少一个TiB2层，其特征是，该TiB2层具有以下织构，该织构在XRD图谱中造成显示出鲜明的(002)取向的明显的峰。本发明还涉及制造具有涂层的这种工件的方法。
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公开(公告)号：CN109154061A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780029615.9
申请日：2017-04-21
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
摘要： 本发明涉及一种用于借助HiPIMS在待涂覆基材的表面施加具有至少一个TiCN层的涂层的方法，其中，为了沉积所述至少一个TiCN层而采用至少一个含钛靶作为用于产生该TiCN层的钛源，该含钛靶在反应气氛中借助HiPIMS方法在涂覆室内被溅射，其中，该反应气氛包含至少一种稀有气体且最好是氩气和至少作为反应气体的氮气，其中，为了在沉积所述至少一个TiCN层时减少生长缺陷，该反应气氛作为第二反应气体附加包含含碳气体优选是CH4，该含碳气体被用作用于产生该TiCN层的碳源，其中，在沉积该TiCN层期间将双极偏电压加到待涂覆基材上，或者作为用于产生TiCN层的碳源而采用至少一个石墨靶，该石墨靶在该涂覆室内利用只具有氮气作为反应气体的反应气氛并借助HiPIMS方法被溅射，其中，该钛靶最好借助第一功率供应装置或第一功率供应单元以脉冲功率运行，该石墨靶借助第二功率供应装置或第二功率供应单元以脉冲功率运行。
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公开(公告)号：CN105378138B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201480039448.2
申请日：2014-07-09
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 约格·哈克曼 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
CPC分类号： H01J37/3429 , C23C14/0036 , C23C14/081 , C23C14/3407 , C23C14/3485 , C23C14/35 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3467 , H01J2237/3321 , H01J2237/3322
摘要： 本发明涉及靶，其靶表面如此构造，通过采用所述靶用于在涂覆室内的电绝缘层反应溅射沉积，避免该靶表面对也位于涂覆室内的阳极的火花放电的生成。
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公开(公告)号：CN110892502B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201880045797.3
申请日：2018-05-30
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 耶格·科什保尔 , H·博瓦蒂 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔 , 马库斯·埃塞尔巴赫
摘要： 本发明披露了一种靶组件，其允许安全、无裂且经济的靶材工作，伴随在电弧蒸发工艺以及溅射工艺中的低的断裂韧度和/或抗弯强度。本发明披露了一种用于PVD工艺的靶组件，包括靶和靶保持机构(20)，其特征是，该靶(10)包括第一卡口锁，该靶保持机构(20)包括用于靶的第一卡口锁的配对体和用于在沉积室的冷却机构内接合靶组件的第二卡口锁。
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公开(公告)号：CN105392911B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201480037761.2
申请日：2014-07-01
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
摘要： 本发明涉及具有涂层的工件，该涂层包含至少一个TixSi1‑xN层，其特征是，x≤0.85并且所述TixSi1‑xN层包含纳米晶，所包含的纳米晶具有不大于15nm的平均粒度和(200)织构。本发明还涉及用于制造上述层的方法，其特征是，为了制造而采用溅射法，其中在溅射靶的靶表面上出现大于0.2A/cm2的电流密度，该靶是TixSi1‑x靶，其中x≤0.85。最好在TixSi1‑xN层和工件基材体之间设有含有TiAlN或CrAlN的中间层。
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公开(公告)号：CN105283577B
公开(公告)日：2018-11-20
申请号：CN201480033082.8
申请日：2014-06-30
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
摘要： 本发明涉及一种靶冷却装置，其具有包括冷却通道的组成部分和另一个导热板，所述另一个导热板可分离地与所述组成部分的冷侧相连，其中，所述冷侧是所述冷却通道施展其作用的一侧，其特征是，在所述另一个导热板和所述组成部分的冷侧之间设有第一自粘碳膜，所述第一自粘碳膜大面积地自粘附到所述另一个导热板的朝向所述冷侧的一侧面上。
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公开(公告)号：CN105339521B
公开(公告)日：2018-05-04
申请号：CN201480034388.5
申请日：2014-06-30
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
CPC分类号： C23C14/0042 , C23C14/0641 , C23C14/14 , C23C14/3485 , C23C14/3492 , C23C14/35 , C23C14/54 , H01J37/32449 , H01J37/32935 , H01J37/3405 , H01J37/3426 , H01J37/3467 , H01J37/347 , H01J37/3476 , H01J2237/006 , H01J2237/24585 , H01J2237/3323
摘要： 本发明涉及用于执行反应溅射工艺的方法，其中，与靶老化无关地保持靶溅射特性以及沉积速率恒定，或者至少在工业生产环境可接受的范围内。
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公开(公告)号：CN109154061B
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN201780029615.9
申请日：2017-04-21
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
摘要： 本发明涉及一种用于借助HiPIMS在待涂覆基材的表面施加具有至少一个TiCN层的涂层的方法，其中，为了沉积所述至少一个TiCN层而采用至少一个含钛靶作为用于产生该TiCN层的钛源，该含钛靶在反应气氛中借助HiPIMS方法在涂覆室内被溅射，其中，该反应气氛包含至少一种稀有气体且最好是氩气和至少作为反应气体的氮气，其中，为了在沉积所述至少一个TiCN层时减少生长缺陷，该反应气氛作为第二反应气体附加包含含碳气体优选是CH4，该含碳气体被用作用于产生该TiCN层的碳源，其中，在沉积该TiCN层期间将双极偏电压加到待涂覆基材上，或者作为用于产生TiCN层的碳源而采用至少一个石墨靶，该石墨靶在该涂覆室内利用只具有氮气作为反应气体的反应气氛并借助HiPIMS方法被溅射，其中，该钛靶最好借助第一功率供应装置或第一功率供应单元以脉冲功率运行，该石墨靶借助第二功率供应装置或第二功率供应单元以脉冲功率运行。
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公开(公告)号：CN110892502A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880045797.3
申请日：2018-05-30
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 耶格·科什保尔 , H·博瓦蒂 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔 , 马库斯·埃塞尔巴赫
摘要： 本发明披露了一种靶组件，其允许安全、无裂且经济的靶材工作，伴随在电弧蒸发工艺以及溅射工艺中的低的断裂韧度和/或抗弯强度。本发明披露了一种用于PVD工艺的靶组件，包括靶和靶保持机构(20)，其特征是，该靶(10)包括第一卡口锁，该靶保持机构(20)包括用于靶的第一卡口锁的配对体和用于在沉积室的冷却机构内接合靶组件的第二卡口锁。
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公开(公告)号：CN105392912B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201480038031.4
申请日：2014-06-30
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
发明人： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
摘要： 本发明涉及一种工件涂覆方法，包括以下步骤：给涂覆室装入待涂覆工件；关闭该涂覆室并将该涂覆室抽真空至预定的工艺过程压力；启动包括靶作为材料源的涂覆源且来自靶表面的微粒由此被朝向该基材加速，其特征是，在靶表面和基材之间一直设置屏蔽直到该靶被修整，在此期间内所述待涂覆基材至少部分接受预处理。
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