半导体激光器
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111431030B

    公开(公告)日:2023-02-17

    申请号:CN202010165677.6

    申请日:2016-09-27

    Abstract: 半导体激光器(1)包括半导体层序列(2),所述半导体层序列具有n型传导的n型区域(21)、p型传导的p型区域(23)和位于其之间的用于产生激光辐射的有源区(22)。为了注入电流,直接在p型区域(23)处存在由透明导电氧化物构成的对于激光辐射可穿透的p型接触层(3)。直接在p型接触层(3)处安置有导电的且金属的p型接触结构(4)。p型接触层(3)是外罩层的一部分,使得激光辐射在半导体激光器(1)运行时常规地进入到p型接触层(3)中。半导体层序列(2)的两个棱面(25)形成用于激光辐射的谐振器端面。在直接在棱面(25)中的至少一个棱面处的至少一个电流保护区域(5)中,禁止到p型区域(23)中的电流注入。电流保护区域在垂直于所属的棱面(25)的方向上的扩展为至少0.5μm和最高100μm,并且附加地为用于激光辐射的谐振器长度的最高20%。

    具有在棱面上受抑制的电流注入的半导体激光器

    公开(公告)号:CN108352678A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680047847.2

    申请日:2016-09-27

    Abstract: 在一个实施形式中,半导体激光器(1)包括半导体层序列(2)。半导体层序列包括n型导电的n型区域(21),p型导电的p型区域(23)和位于之间的有源区(22),所述有源区用于产生激光辐射。为了电流注入,能导电的p型接触层(3)直接位于p型区域(23)上。直接在p型接触层(3)上安置导电的并且金属的p型接触结构(4)。半导体层序列(2)的两个棱面(25)形成用于激光辐射的谐振器端面。在直接在所述棱面(25)中的至少一个上的至少一个电流保护区域(5)中,电流注入p型区域(23)中受抑制。p型接触结构(4)与所属的棱面(25)平接,使得p型接触结构(4)并不突出于所属的棱面(25)或反之亦然,其中p型接触层(3)从电流保护区域(5)中的至少一个中去除并且在该电流保护区域(5)中p型接触结构(4)整面地与所述p型区域(23)直接接触。

    半导体激光器
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111431030A

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN202010165677.6

    申请日:2016-09-27

    Abstract: 半导体激光器(1)包括半导体层序列(2),所述半导体层序列具有n型传导的n型区域(21)、p型传导的p型区域(23)和位于其之间的用于产生激光辐射的有源区(22)。为了注入电流,直接在p型区域(23)处存在由透明导电氧化物构成的对于激光辐射可穿透的p型接触层(3)。直接在p型接触层(3)处安置有导电的且金属的p型接触结构(4)。p型接触层(3)是外罩层的一部分,使得激光辐射在半导体激光器(1)运行时常规地进入到p型接触层(3)中。半导体层序列(2)的两个棱面(25)形成用于激光辐射的谐振器端面。在直接在棱面(25)中的至少一个棱面处的至少一个电流保护区域(5)中,禁止到p型区域(23)中的电流注入。电流保护区域在垂直于所属的棱面(25)的方向上的扩展为至少0.5μm和最高100μm,并且附加地为用于激光辐射的谐振器长度的最高20%。

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