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公开(公告)号:CN111383911B
公开(公告)日:2023-11-24
申请号:CN201911366053.4
申请日:2019-12-26
Applicant: 株式会社FLOSFIA , 株式会社电装
IPC: H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种对要求散热性的半导体装置等有用的、晶体品质优异的结晶性氧化物膜、半导体装置及半导体系统。在形成至少包括第一晶轴和第二晶轴、以含有镓的金属氧化物为主要成分的结晶性氧化物膜时,通过使第二边比第一边短,使第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,使第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,使第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行,从而得到一种结晶性氧化物膜,该结晶性氧化物膜至少包括第一边和比第一边短的第二边,第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行。
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公开(公告)号:CN111384158B
公开(公告)日:2024-01-09
申请号:CN201911364732.8
申请日:2019-12-26
Applicant: 株式会社FLOSFIA , 株式会社电装
IPC: H01L29/24 , H01L23/367 , H01L29/732 , H01L29/739 , H01L29/778 , H01L29/786 , H01L29/872 , H01L33/26 , H01L33/64
Abstract: 本发明提供一种对要求散热性的半导体装置等有用的、晶体品质优异的结晶性氧化物半导体、半导体装置及半导体系统。在形成至少包括第一晶轴和第二晶轴的结晶性氧化物半导体时,通过使第二边比第一边短,使第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,使第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,使第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行,从而得到一种结晶性氧化物半导体,该结晶性氧化物半导体至少包括第一边和比第一边短的第二边,第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行。
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公开(公告)号:CN111384158A
公开(公告)日:2020-07-07
申请号:CN201911364732.8
申请日:2019-12-26
Applicant: 株式会社FLOSFIA , 株式会社电装
IPC: H01L29/24 , H01L23/367 , H01L29/732 , H01L29/739 , H01L29/778 , H01L29/786 , H01L29/872 , H01L33/26 , H01L33/64
Abstract: 本发明提供一种对要求散热性的半导体装置等有用的、晶体品质优异的结晶性氧化物半导体、半导体装置及半导体系统。在形成至少包括第一晶轴和第二晶轴的结晶性氧化物半导体时,通过使第二边比第一边短,使第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,使第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,使第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行,从而得到一种结晶性氧化物半导体,该结晶性氧化物半导体至少包括第一边和比第一边短的第二边,第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行。
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公开(公告)号:CN111383911A
公开(公告)日:2020-07-07
申请号:CN201911366053.4
申请日:2019-12-26
Applicant: 株式会社FLOSFIA , 株式会社电装
IPC: H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种对要求散热性的半导体装置等有用的、晶体品质优异的结晶性氧化物膜、半导体装置及半导体系统。在形成至少包括第一晶轴和第二晶轴、以含有镓的金属氧化物为主要成分的结晶性氧化物膜时,通过使第二边比第一边短,使第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,使第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,使第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行,从而得到一种结晶性氧化物膜,该结晶性氧化物膜至少包括第一边和比第一边短的第二边,第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行。
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公开(公告)号:CN110870079A
公开(公告)日:2020-03-06
申请号:CN201880045648.7
申请日:2018-07-06
Applicant: 株式会社FLOSFIA
IPC: H01L29/872 , H01L29/04 , H01L29/06 , H01L29/24 , H01L29/47 , H01L29/861 , H01L29/868
Abstract: 本发明提供一种特别对功率器件有用的半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置,至少具备半导体区域和设置在该半导体区域上的势垒电极,在所述半导体区域与所述势垒电极之间设置有势垒高度调整区域,与所述半导体区域与所述势垒电极的界面中的势垒高度相比,所述势垒高度调整区域与所述势垒电极之间的势垒高度更大,在所述半导体区域表面嵌入有多个所述势垒高度调整区域。
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公开(公告)号:CN110870079B
公开(公告)日:2024-01-09
申请号:CN201880045648.7
申请日:2018-07-06
Applicant: 株式会社FLOSFIA
IPC: H01L29/872 , H01L29/04 , H01L29/06 , H01L29/24 , H01L29/47 , H01L29/861 , H01L29/868
Abstract: 本发明提供一种特别对功率器件有用的半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置,至少具备半导体区域和设置在该半导体区域上的势垒电极,在所述半导体区域与所述势垒电极之间设置有势垒高度调整区域,与所述半导体区域与所述势垒电极的界面中的势垒高度相比,所述势垒高度调整区域与所述势垒电极之间的势垒高度更大,在所述半导体区域表面嵌入有多个所述势垒高度调整区域。
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