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公开(公告)号:CN110870079A
公开(公告)日:2020-03-06
申请号:CN201880045648.7
申请日:2018-07-06
Applicant: 株式会社FLOSFIA
IPC: H01L29/872 , H01L29/04 , H01L29/06 , H01L29/24 , H01L29/47 , H01L29/861 , H01L29/868
Abstract: 本发明提供一种特别对功率器件有用的半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置,至少具备半导体区域和设置在该半导体区域上的势垒电极,在所述半导体区域与所述势垒电极之间设置有势垒高度调整区域,与所述半导体区域与所述势垒电极的界面中的势垒高度相比,所述势垒高度调整区域与所述势垒电极之间的势垒高度更大,在所述半导体区域表面嵌入有多个所述势垒高度调整区域。
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公开(公告)号:CN110870079B
公开(公告)日:2024-01-09
申请号:CN201880045648.7
申请日:2018-07-06
Applicant: 株式会社FLOSFIA
IPC: H01L29/872 , H01L29/04 , H01L29/06 , H01L29/24 , H01L29/47 , H01L29/861 , H01L29/868
Abstract: 本发明提供一种特别对功率器件有用的半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置,至少具备半导体区域和设置在该半导体区域上的势垒电极,在所述半导体区域与所述势垒电极之间设置有势垒高度调整区域,与所述半导体区域与所述势垒电极的界面中的势垒高度相比,所述势垒高度调整区域与所述势垒电极之间的势垒高度更大,在所述半导体区域表面嵌入有多个所述势垒高度调整区域。
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公开(公告)号:CN107068773B
公开(公告)日:2021-06-01
申请号:CN201611159323.0
申请日:2016-12-15
Applicant: 株式会社FLOSFIA
IPC: H01L29/872 , H01L29/24 , H01L29/47
Abstract: 本发明提供一种半导体特性和肖特基特性优异的半导体装置。该半导体装置至少具备:含有具有刚玉结构的结晶性氧化物半导体作为主成分的半导体层,以及上述半导体层上的肖特基电极,形成上述肖特基电极时,通过使上述肖特基电极含有元素周期表第4族~第9族的金属,能够在不损害半导体特性的情况下制造半导体特性和肖特基特性优异的半导体装置,并将所得半导体装置用于功率器件等。
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