低介电树脂组合物、成形品、薄膜、层叠薄膜、以及挠性印刷电路板

    公开(公告)号:CN113767149A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202080030452.8

    申请日:2020-04-23

    Abstract: 提供熔融加工性良好、并且高频带下的低介电特性比液晶聚合物等低介电材料更优异的低介电树脂组合物、由该低介电树脂组合物形成的成形品及薄膜、在所述薄膜的至少一个主面层叠有金属箔的层叠薄膜、和包含所述薄膜的挠性印刷电路板。使用包含液晶聚合物(A)和具有极性基团的接枝改性聚烯烃(B)的树脂组合物作为低介电树脂组合物。低介电树脂组合物在频率10GHz下的介电常数优选为2.80以下。低介电树脂组合物在频率10GHz下的介电损耗角正切优选0.0025以下。

    低介电树脂组合物、成形品、薄膜、层叠薄膜、以及挠性印刷电路板

    公开(公告)号:CN113767149B

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202080030452.8

    申请日:2020-04-23

    Abstract: 提供熔融加工性良好、并且高频带下的低介电特性比液晶聚合物等低介电材料更优异的低介电树脂组合物、由该低介电树脂组合物形成的成形品及薄膜、在所述薄膜的至少一个主面层叠有金属箔的层叠薄膜、和包含所述薄膜的挠性印刷电路板。使用包含液晶聚合物(A)和具有极性基团的接枝改性聚烯烃(B)的树脂组合物作为低介电树脂组合物。低介电树脂组合物在频率10GHz下的介电常数优选为2.80以下。低介电树脂组合物在频率10GHz下的介电损耗角正切优选0.0025以下。

    非热塑性聚酰亚胺薄膜、多层聚酰亚胺薄膜和覆金属箔层压板

    公开(公告)号:CN116419849A

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN202180072102.2

    申请日:2021-10-18

    Abstract: 非热塑性聚酰亚胺薄膜(11)包含非热塑性聚酰亚胺。非热塑性聚酰亚胺具有3,3',4,4'‑联苯四羧酸二酐残基、4,4'‑氧双邻苯二甲酸酐残基、对苯二胺残基和1,3‑双(4‑氨基苯氧基)苯残基。将3,3',4,4'‑联苯四羧酸二酐残基的含有率设为A1摩尔%,将4,4'‑氧双邻苯二甲酸酐残基的含有率设为A2摩尔%,将对苯二胺残基的含有率设为B1摩尔%,将1,3‑双(4‑氨基苯氧基)苯残基的含有率设为B2摩尔%时,满足A1+A2≥80、B1+B2≥80和(A1+B1)/(A2+B2)≤3.50的关系。

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