公开(公告)号：CN103419123A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310179100.0

申请日：2013-05-14

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  高桥正三 ,  铃木美加

IPC: B24B37/22 ,  B24B37/24 ,  B24B37/34 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/005 ,  B24B37/042 ,  B24B37/10 ,  B24B37/24 ,  B24B37/30

Abstract: 一种研磨垫，能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。研磨垫(3)安装在可旋转的研磨台(4)上。工件(W)保持在托架(1)上，并被按压在研磨垫(3)上。研磨垫(3)具有：具有用于研磨工件(W)的研磨面的弹性垫(31)；支承弹性垫(31)的变形自如的基层(32)；以及将弹性垫(31)与基层(32)接合的粘接层(33)。

公开(公告)号：CN117957638A

公开(公告)日：2024-04-30

申请号：CN202280060410.8

申请日：2022-06-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 末政秀一 ,  宫崎充 ,  高桥正三 ,  井上拓也

IPC: H01L21/304

Abstract: 基板清洗装置(31)具备辊清洗构件(61)与旋转保持部(100)。旋转保持部(100)具备非接触密封部(140)，其配置于轴承部(130)与辊清洗构件(61)之间，且将轴部(110)与壳体部(120)的间隙密封。非接触密封部(140)具备：旋转部(150)，安装于轴部(110)，在周面(150a)隔着间隔在轴向上形成有多个凸部(151)；及固定部(160)，安装于壳体部(120)，包围多个凸部(151)，且在包围多个凸部(151)的内周面(160a)形成有气体供给孔(161)，气体供给孔(161)从比多个凸部(151)之中配置于轴向两端部的凸部(151)在轴向上靠内侧的位置供给压缩气体(200)。

公开(公告)号：CN110340055B

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN201910272935.8

申请日：2019-04-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宫崎充 ,  今村听 ,  井上拓也 ,  高桥正三

IPC: B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B9/032 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够向基板清洗装置恰当地供给清洗液或者维护保养性提高的清洗液供给系统、具备这样的清洗液供给系统的基板处理装置、以及具备这样的基板处理装置的基板处理系统。本发明提供一种清洗液供给系统，该清洗液供给系统具备：循环线路，该循环线路的一端与清洗液供给装置的供给口连接，另一端与所述清洗液供给装置的回收口连接，清洗液在该循环线路的内部流动；分支管，该分支管从所述循环线路分支，并且与基板清洗单元连接；阀，该阀设置于所述分支管，并且对从所述循环线路向所述基板清洗单元的清洗液供给进行控制；以及流量调节构件，该流量调节构件对在所述循环线路中流动的清洗液的流量进行调节。

公开(公告)号：CN118848800A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202410499362.3

申请日：2024-04-24

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宮﨑充 ,  外崎宏 ,  宫本弘树 ,  武渕健一 ,  宮川纱希 ,  斋藤宏树 ,  井上拓也 ,  高桥正三 ,  石井亮平

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/11 ,  B24B37/27 ,  B24B37/34 ,  B24B55/06

Abstract: 本发明提供一种可迅速将研磨后的基板(例如晶片)搬送至清洗组件的基板处理装置。第一处理单元(101)具备：研磨基板(W)的研磨组件(1A、1B)；清洗基板(W)的清洗组件(8、9)；使清洗后的基板(W)干燥的干燥组件(11)；从第一处理单元(101)的一方侧延伸至相反侧的基板搬送装置(14)；将基板(W)从基板搬送装置(14)搬送至研磨组件(1A、1B)，并从研磨组件(1A、1B)搬送至清洗组件(8、9)的升降搬送装置(5)；及搬送基板(W)的中继搬送装置(6)。中继搬送装置(6)构成为在处理单元(101、102)之间搬送基板(W)。

公开(公告)号：CN110340055A

公开(公告)日：2019-10-18

申请号：CN201910272935.8

申请日：2019-04-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宫崎充 ,  今村听 ,  井上拓也 ,  高桥正三

IPC: B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B9/032 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够向基板清洗装置恰当地供给清洗液或者维护保养性提高的清洗液供给系统、具备这样的清洗液供给系统的基板处理装置、以及具备这样的基板处理装置的基板处理系统。本发明提供一种清洗液供给系统，该清洗液供给系统具备：循环线路，该循环线路的一端与清洗液供给装置的供给口连接，另一端与所述清洗液供给装置的回收口连接，清洗液在该循环线路的内部流动；分支管，该分支管从所述循环线路分支，并且与基板清洗单元连接；阀，该阀设置于所述分支管，并且对从所述循环线路向所述基板清洗单元的清洗液供给进行控制；以及流量调节构件，该流量调节构件对在所述循环线路中流动的清洗液的流量进行调节。

公开(公告)号：CN103419123B

公开(公告)日：2018-02-09

申请号：CN201310179100.0

申请日：2013-05-14

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  高桥正三 ,  铃木美加

IPC: B24B37/22 ,  B24B37/24 ,  B24B37/34 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/005 ,  B24B37/042 ,  B24B37/10 ,  B24B37/24 ,  B24B37/30

Abstract: 一种研磨垫，能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。研磨垫(3)安装在可旋转的研磨台(4)上。工件(W)保持在托架(1)上，并被按压在研磨垫(3)上。研磨垫(3)具有：具有用于研磨工件(W)的研磨面的弹性垫(31)；支承弹性垫(31)的变形自如的基层(32)；以及将弹性垫(31)与基层(32)接合的粘接层(33)。

公开(公告)号：CN203305049U

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201320262515.X

申请日：2013-05-14

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  高桥正三 ,  铃木美加

IPC: B24B37/22 ,  B24B37/00 ,  B24B37/24

CPC classification number: B24B37/005 ,  B24B37/042 ,  B24B37/10 ,  B24B37/24 ,  B24B37/30

Abstract: 本实用新型涉及一种研磨工件用研磨垫及化学机械研磨装置。一种研磨垫，能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。研磨垫(3)安装在可旋转的研磨台(4)上。工件(W)保持在托架(1)上，并被按压在研磨垫(3)上。研磨垫(3)具有：具有用于研磨工件(W)的研磨面的弹性垫(31)；支承弹性垫(31)的变形自如的基层(32)；以及将弹性垫(31)与基层(32)接合的粘接层(33)。