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公开(公告)号：CN111344431B
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN201980005724.6
申请日：2019-05-16
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/04 , B41F5/04 , B41F9/00 , B41F17/10 , B41M1/02 , B41M1/10 , B41M1/28 , B41M1/30 , B65H20/00 , C23C14/02 , C23C14/14 , C23C14/24 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供一种收卷式成膜装置，其具有真空容器、膜行进机构、锂源以及第一辊。上述真空容器能够维持减压状态。上述膜行进机构能够在上述真空容器内使膜行进。上述锂源能够在上述真空容器内使锂蒸发。上述第一辊被配置在上述膜的成膜面和上述锂源之间。上述第一辊具有接收从上述锂源蒸发的上述锂的转印图案。上述第一辊一边旋转一边将与上述转印图案对应的锂层的图案转印到上述成膜面。
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公开(公告)号：CN109689927B
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201880002619.2
申请日：2018-04-13
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/58 , C23C14/14 , H01M4/1395
Abstract: 本发明的一形态的成膜装置具有成膜部、第一处理部、第二处理部以及真空室。上述成膜部包含使锂金属蒸发的蒸发源，并在基材上形成锂金属膜。上述第一处理部包含用于将上述锂金属膜的表面羟基化的第一处理室。上述第二处理部包含用于将羟基化后的所述表面碳酸化的第二处理室。上述真空室容纳上述成膜部、上述第一处理部以及上述第二处理部。
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公开(公告)号：CN112368413B
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN201980038547.1
申请日：2019-10-28
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置，其在对辊筒上卷绕的片状的基材的部分进行蒸镀时，可确保设置有蒸镀单元的蒸镀室和与其相邻的主腔室内的相邻室气氛分离。其具有：主腔室(1)，其具有基材行进装置和辊筒(2)；以及蒸镀单元(Vu)，其对卷绕在辊筒上的片状的基材(Sw)的部分进行蒸镀。主腔室内还具有第一隔壁(75)和第二隔壁(7a、7b)，所述第一隔壁(75)划分容纳有蒸镀单元的蒸镀室，所述第二隔壁(7a、7b)与第一隔壁相连设置并间隔以上述曲率弯曲的第一间隙(Gp1)覆盖位于蒸镀单元的周向两侧的辊筒的外筒部分，蒸镀室(Vs)和与该蒸镀室相邻的主腔室内的相邻室(As)以第一间隙为边界彼此连通，以第二隔壁确定蒸镀室和相邻室之间的电导。
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公开(公告)号：CN111344431A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201980005724.6
申请日：2019-05-16
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/04 , B41F5/04 , B41F9/00 , B41F17/10 , B41M1/02 , B41M1/10 , B41M1/28 , B41M1/30 , B65H20/00 , C23C14/02 , C23C14/14 , C23C14/24 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供一种收卷式成膜装置，其具有真空容器、膜行进机构、锂源以及第一辊。上述真空容器能够维持减压状态。上述膜行进机构能够在上述真空容器内使膜行进。上述锂源能够在上述真空容器内使锂蒸发。上述第一辊被配置在上述膜的成膜面和上述锂源之间。上述第一辊具有接收从上述锂源蒸发的上述锂的转印图案。上述第一辊一边旋转一边将与上述转印图案对应的锂层的图案转印到上述成膜面。
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公开(公告)号：CN109689927A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201880002619.2
申请日：2018-04-13
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/58 , C23C14/14 , H01M4/1395
Abstract: 本发明的一形态的成膜装置具有成膜部、第一处理部、第二处理部以及真空室。上述成膜部包含使锂金属蒸发的蒸发源，并在基材上形成锂金属膜。上述第一处理部包含用于将上述锂金属膜的表面羟基化的第一处理室。上述第二处理部包含用于将羟基化后的所述表面碳酸化的第二处理室。上述真空室容纳上述成膜部、上述第一处理部以及上述第二处理部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108541226A
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201780004713.7
申请日：2017-11-22
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B05C1/08 , B05D1/28 , B05D3/10 , B05D3/12 , B05D7/04 , B05D7/24 , B41F5/04 , B41F17/10 , B41M1/02 , B41M1/10 , B41M1/28 , B41M1/30 , B65H20/02 , C23C14/56
Abstract: 本发明能够抑制采用卷取式在膜上形成锂层时对膜的热损伤。卷取式成膜装置具有真空容器、膜行进机构、锂源以及第一辊。上述真空容器能够维持减压状态。上述膜行进机构能够在上述真空容器内使膜行进。上述锂源能够在上述真空容器内对锂进行熔融。上述第一辊配置在上述膜的成膜面与上述锂源之间。上述第一辊具有从上述锂源接收熔融的上述锂的转印图案。上述第一辊一边旋转一边将与上述转印图案对应的锂层的图案转印到上述成膜面。
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公开(公告)号：CN102067266B
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN200980122380.3
申请日：2009-06-11
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/081 , H01J9/02 , H01J9/20
Abstract: 使保护膜的膜质稳定化。在一边搬送成膜对象物一边使金属氧化物蒸发时，一边对真空槽导入氧、和与氧相比大量的水，一边以静态成膜速度为40nm/秒以上的方式使金属氧化物蒸发。测定使金属氧化物蒸发时的发光强度，将该测定结果对加热装置（电子枪41）的输出进行反馈。因为发光强度与（111）强度等的膜质直接相关，所以能够对结晶取向性、膜密度、光学特性等的膜质良好的保护膜稳定地进行成膜。
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公开(公告)号：CN118019875A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202280065462.4
申请日：2022-07-06
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种能够在应力差尽可能小的状态下形成高熔点金属膜，适用于使用筒状靶的情况的成膜方法。在配置于真空处理室(1a)内的基板(Sw)的与各靶(5)相对的面上形成高熔点金属膜的本发明的成膜方法，将基板的两个外缘部分别相对的起点靶(5a、5b)和距离起点靶位于靶并列设置方向外侧的靶(5c、5d)设置为第1靶组(50a)，将距离起点靶位于靶并列设置方向内侧的靶(5e～5h)作为第2靶组(50b)，所述方法包括：第1工序，在对基板的高熔点金属膜的成膜开始时，通过溅射电源(7)向第2靶组的各靶施加电力而成膜；以及第2工序，在停止对第2靶组的各靶施加电力的同时或者在此之前，通过溅射电源向第1靶组的各靶施加电力而成膜。
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公开(公告)号：CN113574202B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN201980094071.3
申请日：2019-12-27
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种通用性好，维护性佳的蒸镀单元。本发明的蒸镀单元(VU)，其具有：收纳蒸镀物质(Vm)的收纳箱(3)；以及加热收纳箱内的蒸镀物质的加热装置(4)；在收纳箱的一面上形成释放因加热而升华或气化了的蒸镀物质的释放开口(34c)，蒸镀单元还具有移动装置(5)，其设置在一面开口的容置室(30)内，以朝容置室的开口的方向为上，以使释放开口的位相与该开口相一致的姿态将蒸镀单元设置在容置室内，所述移动装置使蒸镀单元在上下方向上进退。
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公开(公告)号：CN113574202A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN201980094071.3
申请日：2019-12-27
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种通用性好，维护性佳的蒸镀单元。本发明的蒸镀单元(VU)，其具有：收纳蒸镀物质(Vm)的收纳箱(3)；以及加热收纳箱内的蒸镀物质的加热装置(4)；在收纳箱的一面上形成释放因加热而升华或气化了的蒸镀物质的释放开口(34c)，蒸镀单元还具有移动装置(5)，其设置在一面开口的容置室(30)内，以朝容置室的开口的方向为上，以使释放开口的位相与该开口相一致的姿态将蒸镀单元设置在容置室内，所述移动装置使蒸镀单元在上下方向上进退。
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