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公开(公告)号：CN112585714A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201880096759.0
申请日：2018-08-31
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/30
摘要： 本发明提供一种能够提高离子分布的再现性的离子研磨装置。离子研磨装置具有：离子源(1)；试样台(2)，其载置通过照射来自离子源(1)的非聚焦离子束而被加工的试样(4)；以及驱动单元(8)，其配置在离子源(1)与试样台(2)之间，且使在第一方向上延伸的线状的离子束测定部件(7)在与第一方向正交的第二方向上移动，在从离子源(1)以第一照射条件输出离子束的状态下，通过驱动单元(8)使离子束测定部件(7)在离子束的照射范围内移动，通过向离子束测定部件(7)照射离子束来测定流过离子束测定部件(7)的离子束电流。
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公开(公告)号：CN109478488A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201680087921.3
申请日：2016-08-09
申请人： 株式会社日立高新技术
摘要： 本发明为了提供在使用了遮蔽板的截面加工中能够提高加工位置精度的带电粒子束装置，采用如下带电粒子束装置，其具有：离子源(101)；载置试样(107)的试样台(106)；配置为从离子源(101)观察，试样(107)的一部分露出的遮蔽板(108)；以及使试样(107)及遮蔽板(108)相对于来自离子源(101)的离子束(102)的向试样(107)的照射方向相对性地倾斜的倾斜部(123、124)。
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公开(公告)号：CN109314031A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201680086672.6
申请日：2016-07-14
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/30 , H01J27/04 , H01J37/08 , H01J37/12 , H01J37/305
摘要： 为了提供能够抑制束成形电极的污染的离子铣削装置，使离子铣削装置具备：包含将离子束成形的束成形电极的离子枪(101)、将通过离子束(102)的照射来加工的试料(106)进行固定的试料保持器(107)、将试料(106)的一部分从离子束(102)遮蔽的掩模(110)、以及控制离子枪(101)的离子枪控制部(103)。
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公开(公告)号：CN107949899A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201580082721.4
申请日：2015-09-25
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/305 , H01J27/04 , H01J37/08
摘要： 为了提供能抑制从电子显微镜镜筒放出的观察用电子束的轨道移位的离子铣削装置，离子铣削装置具备：包含永久磁铁(114)并产生加工样品的离子的潘宁放电方式的离子枪(100)；和用于观察样品的扫描电子显微镜，在该离子铣削装置中设置用于减少从永久磁铁(114)向电子显微镜镜筒的泄漏磁场的磁屏蔽(172)。
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公开(公告)号：CN103180929B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201180051255.5
申请日：2011-11-02
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/30 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3053 , H01J37/20 , H01J37/3005 , H01J37/3007 , H01J37/304 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/26
摘要： 本发明提供一种可在同一真空腔内进行剖面加工与平面加工双方的离子铣削装置。为实现该目的，提出一种离子铣削装置，其具备在真空腔内配置、且具有平行于与离子束正交的第一轴的倾斜轴的倾斜工作台，其中，离子铣削装置具备驱动机构和切换部，驱动机构具有平行于与第一轴正交的第二轴的旋转轴以及倾斜轴，且使试料旋转或者倾斜，切换部对如下两个状态进行切换，其一是一边使倾斜工作台倾斜，一边使支承台旋转或者往复倾斜，从而照射离子束的状态，其二是使倾斜工作台成为非倾斜状态，并且使支承台往复倾斜，从而照射离子束的状态。
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公开(公告)号：CN103210467A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201180054529.6
申请日：2011-11-21
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/305 , G01N1/28 , G01N1/36 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/3053 , H01J37/20 , H01J2237/2001 , H01J2237/20207 , H01J2237/2802 , H01J2237/31745
摘要： 提供一种离子铣削装置以及离子铣削加工方法，通过使试料(3)相对于离子束(2)的光轴(Z轴)倾斜振动，重复进行在如下两状态间的试料(3)的加工面(3a)的倾斜以及倾斜复位，由此，离子束(2)低角度照射向加工面(3a)，抑制因空穴(61)、异种物质(62)产生的凹凸(63)，其中一状态是试料(3)的加工面(3a)朝向倾斜轴方向(Y轴向)的面状态，其二是从该面状态，加工面(3a)的试料台侧部分相比加工面(3a)的掩膜侧部分更向倾斜轴方向(Y轴向)突出的倾斜面状态。由此，在剖面试料制作时，可以抑制因空穴、异种物质产生的凹凸，可以制作适于观察/分析的试料剖面。
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公开(公告)号：CN108475607B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201680077768.6
申请日：2016-02-03
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/305
摘要： 提案了一种在由加工装置加工分析试料后不从试料支架取下该分析试料就能用观察装置进行观察的侧入方式试料支架。该试料支架具备：把持部(34)；从把持部(34)延伸的试料支架主体(35)；与试料支架主体(35)连接并设有用于固定试料(203)的试料台(204)的前端部(32)；以及用于变更固定于试料台(204)的试料(203)的加工面与离子束的照射方向的相对位置关系，避免在试料(203)加工过程中对前端部(32)照射离子束的机构(参照图3)。
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公开(公告)号：CN107949899B
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201580082721.4
申请日：2015-09-25
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/305 , H01J27/04 , H01J37/08
摘要： 为了提供能抑制从电子显微镜镜筒放出的观察用电子束的轨道移位的离子铣削装置，离子铣削装置具备：包含永久磁铁(114)并产生加工样品的离子的潘宁放电方式的离子枪(100)；和用于观察样品的扫描电子显微镜，在该离子铣削装置中设置用于减少从永久磁铁(114)向电子显微镜镜筒的泄漏磁场的磁屏蔽(172)。
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公开(公告)号：CN105264632A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480032691.1
申请日：2014-04-28
申请人： 株式会社日立高新技术
CPC分类号： H01J37/20 , G01K1/14 , G01N1/32 , H01J37/30 , H01J37/3002 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/08 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/20271 , H01J2237/20285 , H01J2237/317
摘要： 本发明的目的在于提供离子碾磨装置，能够在将离子束照射至试样并进行加工的离子碾磨装置中，与照射离子束时的试样的变形等无关地，高精度地进行试样的温度控制，例如提出有如下离子碾磨装置的方案，具有支撑将上述试样的一部分暴露于上述离子束并将该试样相对于离子束遮蔽的遮蔽件的遮蔽件支撑部件、和控制该遮蔽件支撑部件与上述试样台的至少一方的温度的温度控制机构，具备在上述离子束的照射中使上述试样台的与试样的接触面追随上述试样的变形而移动的移动机构、和配置在上述遮蔽件与试样之间并在上述离子束的照射中追随上述试样的变形而变形的试样保持部件中的至少一个。
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