公开(公告)号：CN109314031A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201680086672.6

申请日：2016-07-14

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 浅井健吾 ,  志知广康 ,  岩谷徹 ,  高须久幸

IPC: H01J37/30 ,  H01J27/04 ,  H01J37/08 ,  H01J37/12 ,  H01J37/305

Abstract: 为了提供能够抑制束成形电极的污染的离子铣削装置，使离子铣削装置具备：包含将离子束成形的束成形电极的离子枪(101)、将通过离子束(102)的照射来加工的试料(106)进行固定的试料保持器(107)、将试料(106)的一部分从离子束(102)遮蔽的掩模(110)、以及控制离子枪(101)的离子枪控制部(103)。

公开(公告)号：CN107949899A

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201580082721.4

申请日：2015-09-25

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 浅井健吾 ,  岩谷彻 ,  高须久幸 ,  志知广康

IPC: H01J37/305 ,  H01J27/04 ,  H01J37/08

Abstract: 为了提供能抑制从电子显微镜镜筒放出的观察用电子束的轨道移位的离子铣削装置，离子铣削装置具备：包含永久磁铁(114)并产生加工样品的离子的潘宁放电方式的离子枪(100)；和用于观察样品的扫描电子显微镜，在该离子铣削装置中设置用于减少从永久磁铁(114)向电子显微镜镜筒的泄漏磁场的磁屏蔽(172)。

公开(公告)号：CN107949899B

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201580082721.4

申请日：2015-09-25

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 浅井健吾 ,  岩谷彻 ,  高须久幸 ,  志知广康

IPC: H01J37/305 ,  H01J27/04 ,  H01J37/08

Abstract: 为了提供能抑制从电子显微镜镜筒放出的观察用电子束的轨道移位的离子铣削装置，离子铣削装置具备：包含永久磁铁(114)并产生加工样品的离子的潘宁放电方式的离子枪(100)；和用于观察样品的扫描电子显微镜，在该离子铣削装置中设置用于减少从永久磁铁(114)向电子显微镜镜筒的泄漏磁场的磁屏蔽(172)。

公开(公告)号：CN109314031B

公开(公告)日：2020-12-22

申请号：CN201680086672.6

申请日：2016-07-14

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 浅井健吾 ,  志知广康 ,  岩谷徹 ,  高须久幸

IPC: H01J37/30 ,  H01J27/04 ,  H01J37/08 ,  H01J37/12 ,  H01J37/305

Abstract: 为了提供能够抑制束成形电极的污染的离子铣削装置，使离子铣削装置具备：包含将离子束成形的束成形电极的离子枪(101)、将通过离子束(102)的照射来加工的试料(106)进行固定的试料保持器(107)、将试料(106)的一部分从离子束(102)遮蔽的掩模(110)、以及控制离子枪(101)的离子枪控制部(103)。