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公开(公告)号:CN110268089A
公开(公告)日:2019-09-20
申请号:CN201780085863.5
申请日:2017-10-30
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明的目的是在使用掩模进行的成膜中实现高精度的图案成膜。本发明提供一种蒸镀掩模,其特征在于,包括:掩模主体,其具有形成有图案开口的图案部和包围该图案部的框部;掩模框架,其用于支承上述掩模主体的框部;和配置在上述掩模主体与上述掩模框架之间的中间部件,其具有与上述掩模框架对应的形状,上述掩模主体和上述中间部件的第一面接合,上述掩模框架和上述中间部件的与上述第一面相反一侧的面接合。
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公开(公告)号:CN110249071A
公开(公告)日:2019-09-17
申请号:CN201780085738.4
申请日:2017-12-14
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 在将多个掩模固定于框架的掩模固定装置中,削减装置的制造成本,并且,使多个掩模中的对准精度的偏差减少。蒸镀掩模固定装置将多个蒸镀掩模固定于框架,该框架设置有与多个蒸镀掩模分别对应的多个开口,该蒸镀掩模固定装置包括至少1个对准台,该至少1个对准台具有:载置部,其载置蒸镀掩模;和对准机构,其使蒸镀掩模沿着框架的与蒸镀掩模相对的面移动而进行对准,对准台向设置于所述框架的多个开口的位置依次移动,对准台在各开口的位置处对相对应的蒸镀掩模进行对准。
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公开(公告)号:CN117042501A
公开(公告)日:2023-11-10
申请号:CN202310515425.5
申请日:2023-05-09
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor: 武田笃
Abstract: 本发明涉及显示装置的制造方法。一个实施方式涉及的制造方法制造具备包含配置在具有像素开口的肋部之上的下部和从下部的侧面突出的上部的隔壁的显示装置。该制造方法包括:形成显示元件的下电极;在下电极之上形成肋部层;在肋部层之上形成下层;在下层之上形成上层;在上层之上形成抗蚀剂;通过第1蚀刻工序将上层、下层及肋部层中的从抗蚀剂露出的部分除去从而形成具有像素开口的肋部;通过第1蚀刻工序后的第2蚀刻工序使抗蚀剂及上层的宽度减小从而形成上部;和通过第2蚀刻工序后的第3蚀刻工序使下层的宽度与上部的宽度相比减小从而形成下部。
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公开(公告)号:CN116648086A
公开(公告)日:2023-08-25
申请号:CN202310152982.5
申请日:2023-02-21
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K50/844 , H10K59/12 , H10K59/35
Abstract: 本发明涉及显示装置。具备:第1、第2下电极;肋部,具有第1开口及第2开口;隔壁,具有在第1、第2开口之间配置在肋部之上的下部和配置在下部之上并从下部的侧面突出的上部;第1有机层,在第1开口中配置在第1下电极之上,包含第1发光层;第2有机层,在第2开口中配置在第2下电极之上,包含第2发光层;第1上电极,配置在第1有机层之上并与隔壁的下部相接;第2上电极,配置在第2有机层之上并与隔壁的下部相接;第1密封层,配置在第1上电极的上方,与隔壁的下部相接并向隔壁的上部之上延伸出;与第1密封层分离的第2密封层,配置在第2上电极的上方,与隔壁的下部相接并向隔壁的上部之上延伸出。
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公开(公告)号:CN117265482A
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202310734497.9
申请日:2023-06-20
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor: 武田笃
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明涉及蒸镀装置及蒸镀方法。根据一实施方式,蒸镀装置具备:第1腔室组,其具有沿着第1搬送方向排成一列的多个蒸镀腔室;第2腔室组,其具有沿着第2搬送方向排成一列的多个蒸镀腔室;第1旋转腔,其与位于第1搬送方向的最上游的第1蒸镀腔室及位于第2搬送方向的最下游的第2蒸镀腔室连结,并使处理基板旋转;和第2旋转腔,其与位于第1搬送方向的最下游的第3蒸镀腔室及位于第2搬送方向的最上游的第4蒸镀腔室连结,并使处理基板旋转。
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公开(公告)号:CN116426882A
公开(公告)日:2023-07-14
申请号:CN202310030010.9
申请日:2023-01-09
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明涉及蒸镀装置及蒸镀方法。根据一个实施方式,蒸镀装置具备:载置台、与前述载置台相对的蒸镀头、和腔室,前述腔室收容前述载置台及前述蒸镀头,前述蒸镀头具备蒸镀源、喷嘴、控制板和移动机构,前述蒸镀源对材料进行加热以产生蒸气,前述喷嘴与前述蒸镀源连接,朝向前述载置台喷出由前述蒸镀源产生的蒸气,前述控制板具备包围前述喷嘴的套筒,前述移动机构使前述控制板沿着前述套筒的延伸方向移动。
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公开(公告)号:CN116426881A
公开(公告)日:2023-07-14
申请号:CN202310029963.3
申请日:2023-01-09
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明涉及蒸镀装置及蒸镀方法。根据一个实施方式,在蒸镀方法中,准备在基板上形成有下电极、具有与所述下电极重叠的开口的肋部、和隔壁的处理基板,其中,该隔壁包含配置在所述肋部之上的下部及配置在所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部,将从第1蒸镀头喷出的第1材料的蒸气的扩展角度设定为第1角度,在所述处理基板上蒸镀所述第1材料,将从第2蒸镀头喷出的第2材料的蒸气的扩展角度设定为比所述第1角度大的第2角度,在蒸镀有所述第1材料的所述处理基板上蒸镀所述第2材料。
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公开(公告)号:CN110291220A
公开(公告)日:2019-09-27
申请号:CN201880011467.2
申请日:2018-02-07
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 减少在基板上形成图案时所使用的掩膜中的、所形成的图案的位置偏移。将包含形成有规定图案的多个图案部的蒸镀掩膜(20)向框架(30)固定的蒸镀掩膜的对准方法包含以下步骤:第1对准步骤(S3),基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第1基准标记(101)和形成在所述蒸镀掩膜的缘部的第1对准标记(201)的第1偏移量,对所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行对准;以及第2对准步骤(S5),基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第2基准标记(102)和形成在所述图案部的外周部的第2对准标记(202)的第2偏移量,对通过所述第1对准步骤进行了对准的所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行再对准。
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