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公开(公告)号：CN110268089A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201780085863.5
申请日：2017-10-30
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明的目的是在使用掩模进行的成膜中实现高精度的图案成膜。本发明提供一种蒸镀掩模，其特征在于，包括：掩模主体，其具有形成有图案开口的图案部和包围该图案部的框部；掩模框架，其用于支承上述掩模主体的框部；和配置在上述掩模主体与上述掩模框架之间的中间部件，其具有与上述掩模框架对应的形状，上述掩模主体和上述中间部件的第一面接合，上述掩模框架和上述中间部件的与上述第一面相反一侧的面接合。
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公开(公告)号：CN107046049B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201611043533.3
申请日：2016-11-21
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 小野敬亮
Abstract: 本发明提供设置于显示装置的电极的制造方法以及含有该电极的显示装置的制造方法。或者提供具有应用该制造方法的电极的显示元件和显示装置。本发明的显示装置的制造方法包括下述工序：在基板上形成第一电极；在第一电极上形成有机层；通过使包括具有透光性的导电性氧化物的靶发生溅射而在有机层上形成第二电极，在形成第二电极时，在有机层与靶之间设置掩模，掩模具有周期性排列的最大宽度为0.1μm以上3μm以下的贯通孔。
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公开(公告)号：CN107046049A
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201611043533.3
申请日：2016-11-21
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 小野敬亮
Abstract: 本发明提供设置于显示装置的电极的制造方法以及含有该电极的显示装置的制造方法。或者提供具有应用该制造方法的电极的显示元件和显示装置。本发明的显示装置的制造方法包括下述工序：在基板上形成第一电极；在第一电极上形成有机层；通过使包括具有透光性的导电性氧化物的靶发生溅射而在有机层上形成第二电极，在形成第二电极时，在有机层与靶之间设置掩模，掩模具有周期性排列的最大宽度为0.1μm以上3μm以下的贯通孔。
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