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公开(公告)号：CN114517282B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202111312278.9
申请日：2021-11-08
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种制造可靠性高的蒸镀掩模的方法。本发明的蒸镀掩模的制造方法包括：对具有开口部的框主体的第1面，以覆盖所述开口部的方式粘接第1粘接层的步骤；沿着平面视时的所述框主体的至少内缘，有选择地对与所述框主体重叠的所述第1粘接层的一部分进行曝光的步骤；在曝光后的第1粘接层上粘接第1基板的步骤；和将所述框主体作为掩模来对所述第1粘接层的一部分进行显影的步骤。
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公开(公告)号：CN112877640B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202011303002.X
申请日：2020-11-19
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 山田哲行
Abstract: 本发明提供一种蒸镀掩模及其制造方法。一方式的蒸镀掩模包括设置有多个开口的薄膜状的掩模主体，多个开口各自在掩模主体的厚度方向上从掩模主体的第一面贯穿到第二面，多个开口各自的第一面与第二面之间的侧壁具有45°以上且85°以下的锥形形状的部分。一方式的蒸镀掩模的制造方法中，准备第一基板，在第一基板的第一面上涂敷光致抗蚀剂，用包含第一波长和与第一波长不同的第二波长的光来照射光致抗蚀剂的一部分，通过将除曝光的光致抗蚀剂的一部分以外的其他部分去除来形成抗蚀剂图案，在第一基板的第一面上的从抗蚀剂图案露出的区域形成金属层，去除抗蚀剂图案，去除第一基板。根据本发明，能够提供具有锥形形状的蒸镀用的蒸镀掩模。
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公开(公告)号：CN114438554B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202111177121.X
申请日：2021-10-09
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供不具有毛刺的蒸镀掩模和不会形成毛刺的蒸镀掩模的制造方法。本发明的蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板的第1面形成具有开口图案的掩模主体，在掩模主体上配置掩模框架，在支承基板的与第1面相反的一侧的第2面配置包含铁磁性体的临时固定件，利用临时固定件的磁力将掩模框架固定在掩模主体上，形成将掩模主体与掩模框架连接的连接部，将临时固定件和支承基板拆下。
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公开(公告)号：CN113445002A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202110252771.X
申请日：2021-03-08
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明涉及蒸镀掩模的制造方法。课题为提供不易受到工艺温度或环境温度影响的蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的制造方法包括：在玻璃基板之上形成保护层，在所述保护层之上形成镀覆生长层，在所述镀覆生长层之上通过电镀形成掩模部，使用溶液将所述玻璃基板溶解并除去，将所述保护层及所述镀覆生长层除去。所述保护层可以由对所述溶液具有耐受性的材料构成。所述保护层可以由树脂材料构成。
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公开(公告)号：CN114959807B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202210120798.8
申请日：2022-02-09
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 山田哲行
Abstract: 本发明提供一种蒸镀掩模的制造方法，其能够形成减小了蒸镀工序中的热收缩率的影响的蒸镀掩模。蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板上隔着基底金属层形成抗蚀剂掩模，该抗蚀剂掩模形成有规定的图案，然后，在基底金属层的没有形成抗蚀剂掩模的区域，通过用电铸来使金属析出，形成在25℃以上35℃以下的温度下热收缩率为8ppm以上18ppm以下的掩模主体，在掩模主体上配置掩模框架后，将掩模主体从支承基板分离。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113493894B
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202110344384.9
申请日：2021-03-30
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 山田哲行
Abstract: 本发明提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置及蒸镀掩膜的制造方法。并且提升作业者的作业效率。蒸镀掩膜的制造装置，包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。另外，蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊卷绕金属层，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。
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公开(公告)号：CN113493894A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110344384.9
申请日：2021-03-30
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 山田哲行
Abstract: 本发明提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置及蒸镀掩膜的制造方法。并且提升作业者的作业效率。蒸镀掩膜的制造装置，包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。另外，蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊卷绕金属层，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。
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公开(公告)号：CN114959807A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210120798.8
申请日：2022-02-09
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 山田哲行
Abstract: 本发明提供一种蒸镀掩模的制造方法，其能够形成减小了蒸镀工序中的热收缩率的影响的蒸镀掩模。蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板上隔着基底金属层形成抗蚀剂掩模，该抗蚀剂掩模形成有规定的图案，然后，在基底金属层的没有形成抗蚀剂掩模的区域，通过用电铸来使金属析出，形成在25℃以上35℃以下的温度下热收缩率为8ppm以上18ppm以下的掩模主体，在掩模主体上配置掩模框架后，将掩模主体从支承基板分离。
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公开(公告)号：CN114517282A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202111312278.9
申请日：2021-11-08
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种制造可靠性高的蒸镀掩模的方法。本发明的蒸镀掩模的制造方法包括：对具有开口部的框主体的第1面，以覆盖所述开口部的方式粘接第1粘接层的步骤；沿着平面视时的所述框主体的至少内缘，有选择地对与所述框主体重叠的所述第1粘接层的一部分进行曝光的步骤；在曝光后的第1粘接层上粘接第1基板的步骤；和将所述框主体作为掩模来对所述第1粘接层的一部分进行显影的步骤。
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