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公开(公告)号：CN110777327A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201910634499.4
申请日：2019-07-15
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 成谷元嗣
Abstract: 本发明的目的之一在于提供能够以高精度对准掩模并将掩模固定在框架上的掩模装置的制造方法和制造装置。掩模装置的制造装置包括：工作台，其包括用于保持框架的框架保持工作台和具有多个升降销的对准工作台；保持部，其用于保持与工作台相对地配置的基准板；掩模保持单元，其配置在工作台与基准板之间，用于保持掩模；和用于透过基准板对工作台的方向进行拍摄的摄像机，掩模保持单元在框架侧的面保持掩模，掩模保持单元能够通过多个升降销的动作在对准工作台上升降，多个升降销包括能够与掩模保持单元接触的多个第一升降销，摄像机对形成在掩模上的第一基准标记和形成在基准板上的第二基准标记进行拍摄。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110291220A
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201880011467.2
申请日：2018-02-07
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 减少在基板上形成图案时所使用的掩膜中的、所形成的图案的位置偏移。将包含形成有规定图案的多个图案部的蒸镀掩膜(20)向框架(30)固定的蒸镀掩膜的对准方法包含以下步骤：第1对准步骤(S3)，基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第1基准标记(101)和形成在所述蒸镀掩膜的缘部的第1对准标记(201)的第1偏移量，对所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行对准；以及第2对准步骤(S5)，基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第2基准标记(102)和形成在所述图案部的外周部的第2对准标记(202)的第2偏移量，对通过所述第1对准步骤进行了对准的所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行再对准。
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公开(公告)号：CN110777327B
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN201910634499.4
申请日：2019-07-15
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 成谷元嗣
Abstract: 本发明的目的之一在于提供能够以高精度对准掩模并将掩模固定在框架上的掩模装置的制造方法和制造装置。掩模装置的制造装置包括：工作台，其包括用于保持框架的框架保持工作台和具有多个升降销的对准工作台；保持部，其用于保持与工作台相对地配置的基准板；掩模保持单元，其配置在工作台与基准板之间，用于保持掩模；和用于透过基准板对工作台的方向进行拍摄的摄像机，掩模保持单元在框架侧的面保持掩模，掩模保持单元能够通过多个升降销的动作在对准工作台上升降，多个升降销包括能够与掩模保持单元接触的多个第一升降销，摄像机对形成在掩模上的第一基准标记和形成在基准板上的第二基准标记进行拍摄。
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公开(公告)号：CN110268089A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201780085863.5
申请日：2017-10-30
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明的目的是在使用掩模进行的成膜中实现高精度的图案成膜。本发明提供一种蒸镀掩模，其特征在于，包括：掩模主体，其具有形成有图案开口的图案部和包围该图案部的框部；掩模框架，其用于支承上述掩模主体的框部；和配置在上述掩模主体与上述掩模框架之间的中间部件，其具有与上述掩模框架对应的形状，上述掩模主体和上述中间部件的第一面接合，上述掩模框架和上述中间部件的与上述第一面相反一侧的面接合。
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公开(公告)号：CN110249071A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201780085738.4
申请日：2017-12-14
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 在将多个掩模固定于框架的掩模固定装置中，削减装置的制造成本，并且，使多个掩模中的对准精度的偏差减少。蒸镀掩模固定装置将多个蒸镀掩模固定于框架，该框架设置有与多个蒸镀掩模分别对应的多个开口，该蒸镀掩模固定装置包括至少1个对准台，该至少1个对准台具有：载置部，其载置蒸镀掩模；和对准机构，其使蒸镀掩模沿着框架的与蒸镀掩模相对的面移动而进行对准，对准台向设置于所述框架的多个开口的位置依次移动，对准台在各开口的位置处对相对应的蒸镀掩模进行对准。
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