公开(公告)号：CN107615457A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201680031388.9

申请日：2016-04-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 波多野章人 ,  林豊秀 ,  桥本光治 ,  小林健司 ,  高桥弘明

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/022 ,  B08B3/024 ,  B08B5/023 ,  H01L21/68764

Abstract: 基板处理装置具备：基板旋转机构，旋转基板；喷嘴部，向所述基板的主面喷出处理液的液滴；以及喷嘴移动机构，使所述喷嘴部在沿所述主面的方向上移动。喷嘴部具备两个引导面(511)、两个气体喷出口(512)和两个处理液供给口(513)。气体喷出口沿引导面喷出气体，形成沿引导面流动的气流。处理液供给口设置于引导面，向气流与引导面之间供给处理液。在喷嘴部中，当将两个气体喷出口中的一个视为形成将处理液作为薄膜流向引导面的下端边缘(516)输送的气流的第一气体喷出口时，另一个成为形成与从下端边缘飞散的处理液碰撞的气流的第二气体喷出口。由此，能够喷出粒径均匀的多个液滴来对基板进行适当地处理。

公开(公告)号：CN109791885A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780058617.0

申请日：2017-05-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 波多野章人 ,  林豊秀 ,  岛井基行

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/304 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

Abstract: 一种基板处理装置，具有控制装置，所述控制装置通过控制旋转马达来使从动部与可动夹具一起以基板的旋转轴线为中心旋转，并且通过控制罩升降单元来使驱动部与防溅罩一起沿铅垂方向移动。从动部及驱动部在相互离开的状态下，沿水平或铅垂的相对向方向相对。之后，从动部及驱动部相互接触，驱动部沿相对方向按压从动部。由此，使可动夹具配置于打开位置。之后，从动部及驱动部相互离开。可动夹具利用螺旋弹簧的力向关闭位置的方向返回。

公开(公告)号：CN109478500A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780045855.8

申请日：2017-09-04

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 波多野章人 ,  林豊秀 ,  乡原隆行 ,  高桥弘明 ,  宗德皓太

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备：支撑构件、罩部、供气单元、及排气单元。供气单元从基板的上表面与顶面间的空间的周围向该空间供给从供气口喷出的气体。排气单元经由在顶面在与基板的上表面中心部相向的位置开口的排气口排出基板的上表面与顶面之间的气体。基板的上表面与顶面在基板的上表面中心部的间隔，窄于基板的上表面与顶面在基板的上表面外周部的间隔。

公开(公告)号：CN118919481A

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202410955980.4

申请日：2017-05-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 波多野章人 ,  林豊秀 ,  岛井基行

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 一种基板处理装置，具有控制装置，所述控制装置通过控制旋转马达来使从动部与可动夹具一起以基板的旋转轴线为中心旋转，并且通过控制罩升降单元来使驱动部与防溅罩一起沿铅垂方向移动。从动部及驱动部在相互离开的状态下，沿水平或铅垂的相对向方向相对。之后，从动部及驱动部相互接触，驱动部沿相对方向按压从动部。由此，使可动夹具配置于打开位置。之后，从动部及驱动部相互离开。可动夹具利用螺旋弹簧的力向关闭位置的方向返回。

公开(公告)号：CN109478500B

公开(公告)日：2022-11-08

申请号：CN201780045855.8

申请日：2017-09-04

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 波多野章人 ,  林豊秀 ,  乡原隆行 ,  高桥弘明 ,  宗德皓太

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备：支撑构件、罩部、供气单元、及排气单元。供气单元从基板的上表面与顶面间的空间的周围向该空间供给从供气口喷出的气体。排气单元经由在顶面在与基板的上表面中心部相向的位置开口的排气口排出基板的上表面与顶面之间的气体。基板的上表面与顶面在基板的上表面中心部的间隔，窄于基板的上表面与顶面在基板的上表面外周部的间隔。

公开(公告)号：CN107871688B

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201710844624.5

申请日：2017-09-19

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 宗德皓太 ,  林豊秀 ,  波多野章人 ,  乡原隆行 ,  高桥弘明

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其包括：烘烤腔室，在其内部对基板进行加热处理，并且在规定方向上层叠有多个；处理单元，其具有与所述烘烤腔室不同的液体处理腔室，并且用处理液对基板进行液体处理；包围隔离空间，其用于包围所述多个烘烤腔室的侧方，并且将所述烘烤腔室与所述烘烤腔室的周围隔离。

公开(公告)号：CN110366769A

公开(公告)日：2019-10-22

申请号：CN201880013272.1

申请日：2018-02-07

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 乡原隆行 ,  林豊秀 ,  波多野章人 ,  宗德皓太 ,  高桥弘明

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/3065

Abstract: 用以从基板的表面去除抗蚀剂的基板处理方法包括：支撑步骤，使支撑构件将所述基板支撑为水平；混合气体供给步骤(T4)，将水蒸气与臭氧气体的混合气体供给至所述基板的表面附近；以及紫外线照射步骤(T6)，对供给至所述基板的表面附近的混合气体照射紫外线。

公开(公告)号：CN119943744A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202510135562.5

申请日：2017-05-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 岛井基行 ,  林豊秀 ,  波多野章人

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H05B6/10

Abstract: 基板处理装置具有：旋转基座，配置于多个夹具构件所把持的基板的下方，向夹具构件传递旋转电机的动力；以及喷嘴，向基板的上表面及下表面的至少一方供给处理基板的处理流体。基板处理装置的IH加热机构包括配置于基板与旋转基座之间的发热构件、配置于旋转基座的下方的加热线圈、以及通过对加热线圈供给电力来产生施加于发热构件的交变磁场从而使发热构件发热的IH电路。

公开(公告)号：CN109690742B

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN201780053600.6

申请日：2017-05-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 岛井基行 ,  林豊秀 ,  波多野章人

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/677

Abstract: 基板处理装置具有：旋转基座，配置于多个夹具构件所把持的基板的下方，向夹具构件传递旋转电机的动力；以及喷嘴，向基板的上表面及下表面的至少一方供给处理基板的处理流体。基板处理装置的IH加热机构包括配置于基板与旋转基座之间的发热构件、配置于旋转基座的下方的加热线圈、以及通过对加热线圈供给电力来产生施加于发热构件的交变磁场从而使发热构件发热的IH电路。

公开(公告)号：CN109690742A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780053600.6

申请日：2017-05-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 岛井基行 ,  林豊秀 ,  波多野章人

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/677

Abstract: 基板处理装置具有：旋转基座，配置于多个夹具构件所把持的基板的下方，向夹具构件传递旋转电机的动力；以及喷嘴，向基板的上表面及下表面的至少一方供给处理基板的处理流体。基板处理装置的IH加热机构包括配置于基板与旋转基座之间的发热构件、配置于旋转基座的下方的加热线圈、以及通过对加热线圈供给电力来产生施加于发热构件的交变磁场从而使发热构件发热的IH电路。