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公开(公告)号：CN119890110A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510026909.2
申请日：2019-12-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够实现处理单元的增设且容易进行搬运机械手的维护的技术。第1处理模块(3A)具有处理单元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盘部分(2)配置在第1处理模块的‑X侧，向第1交接部(PS1)供给基板(W)。搬运模块(3T)配置在第1处理模块的+X侧，具有从第1交接部沿+X方向搬出基板并向处理单元搬入的第1搬运机械手(CR1)。搬运模块具有维护室(302T)。在维护室内设有设置第1搬运机械手的基台部(41)的第1底板部(FL1)和在第1底板部的+Y侧配置的第2底板部(FL2)。相比于第2底板部而在+Y侧设有使维护室的内侧与外部连通的出入口部(303T)。
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公开(公告)号：CN111771261B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN201980014804.8
申请日：2019-02-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。首先，在腔室内执行作为预处理的第一处理。当第一处理结束后，通过热成像照相机(70)来测定腔室内的规定的对象区域(A)的温度。接着，基于所获取的测定温度信息(T1)来判断能否开始对基板(W)的第二处理。结果，在判断为能够开始第二处理的情况下，执行第二处理。如此，能够在腔室内的对象区域(A)的温度稳定的状态下，开始对基板(W)的第二处理。由此，能够对多个基板(W)均匀地进行第二处理。即，能够抑制由腔室内的温度环境引起的处理的不均。
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公开(公告)号：CN108630572B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN201810168017.6
申请日：2018-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够从开始供给处理液时，向基板供给温度被高精度地调整为期望的高温的处理液，由此，尤其能够提高基板间的处理的均匀性。喷出口(31)配置在腔室(9)内。循环流路(50)一边将处理液维持为规定的温度一边使其循环。喷出流路(32)从循环流路(50)分支且向喷出口(31)引导处理液。回流流路(33)在腔室(9)内与喷出流路(32)连接，使在喷出流路(32)中流通的处理液回流至循环流路(50)。
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公开(公告)号：CN108630573B
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN201810169101.X
申请日：2018-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发提供一种抑制或防止基板间的处理产生偏差的基板处理装置和方法。该装置包括：基板保持单元，保持基板；处理液流通构件，由内壁面划分出与喷出口连通的处理液流通路的至少一部分；处理液供给单元，向处理液流通路供给比常温高的处理液；温度变化单元，从外侧对处理液流通构件的外壁面加热或冷却，使处理液流通构件的温度变化；控制装置，执行基板处理工序和平衡温度维持工序，在基板处理工序中，控制处理液供给单元，向处理液流通路供给比常温高的处理液，从喷出口喷出处理液，对基板实施处理，在平衡温度维持工序中，在未从处理液供给单元向处理液流通路供给处理液的状态下，控制温度变化单元，将处理液流通构件的内壁面维持为热平衡温度。
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公开(公告)号：CN112400214B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN201980045760.5
申请日：2019-09-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明的目的在于提升基板处理装置以及基板处理系统的各个处理单元中的处理的精度。基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个处理单元根据规定处理的条件的规程对基板实施处理。搬运单元将一组基板中的多个基板依次搬运至多个处理单元。多个传感器部取得关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的信号。存储部基于多个传感器部所取得的信号，存储关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的数据组。一个以上的控制单元针对使用一个以上的处理单元对一组基板中的至少一片以上的基板进行的处理，基于数据组修正规程的至少一部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110199377B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201780084440.1
申请日：2017-12-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 一种基板处理装置，包括：涂布膜形成单元，具有涂布室，且在所述涂布室内部对基板的表面涂布表面张力比水小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，具有升华室，且在所述升华室内部使形成于所述基板的表面的涂布膜升华；减压单元，将所述升华室内部减压至比大气压低的压力；主搬运单元，将基板搬入所述涂布室；局部搬运单元，从所述涂布室向所述升华室搬运基板；以及涂布膜状态保持单元，用于在所述局部搬运单元从所述涂布室向所述升华室搬运所述基板的期间保持所述涂布膜的状态。
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公开(公告)号：CN113557591A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202080020635.1
申请日：2020-02-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/677
Abstract: 用液膜覆盖基板表面的状态下搬送基板的基板处理装置(1)，为了防止因搬送中的振动或液体的挥发等而导致的基板表面的露出，而具备：第1处理部(11A)，其向基板(S)供给液体并用液膜覆盖基板的表面；搬送机构(15)，其搬送担载液膜的基板；第2处理部(13A)，其接受通过搬送机构搬送的基板并执行预定的处理；拍摄部(157)，其拍摄形成于基板表面的液膜；以及控制部(90)，其基于通过拍摄部分别在从形成液膜起至通过搬送机构将基板搬入第2处理部的期间的互不相同的时刻拍摄的多个图像的差，来控制搬送机构的动作。
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公开(公告)号：CN110199377A
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201780084440.1
申请日：2017-12-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 一种基板处理装置，包括：涂布膜形成单元，具有涂布室，且在所述涂布室内部对基板的表面涂布表面张力比水小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，具有升华室，且在所述升华室内部使形成于所述基板的表面的涂布膜升华；减压单元，将所述升华室内部减压至比大气压低的压力；主搬运单元，将基板搬入所述涂布室；局部搬运单元，从所述涂布室向所述升华室搬运基板；以及涂布膜状态保持单元，用于在所述局部搬运单元从所述涂布室向所述升华室搬运所述基板的期间保持所述涂布膜的状态。
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公开(公告)号：CN111383976B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN201911356069.7
申请日：2019-12-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够实现处理单元的增设且容易进行搬运机械手的维护的技术。第1处理模块(3A)具有处理单元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盘部分(2)配置在第1处理模块的‑X侧，向第1交接部(PS1)供给基板(W)。搬运模块(3T)配置在第1处理模块的+X侧，具有从第1交接部沿+X方向搬出基板并向处理单元搬入的第1搬运机械手(CR1)。搬运模块具有维护室(302T)。在维护室内设有设置第1搬运机械手的基台部(41)的第1底板部(FL1)和在第1底板部的+Y侧配置的第2底板部(FL2)。相比于第2底板部而在+Y侧设有使维护室的内侧与外部连通的出入口部(303T)。
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公开(公告)号：CN111952229B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202010406628.7
申请日：2020-05-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 提供一种基板处理装置，在腔室间搬送经覆液的基板的基板处理装置中，能够切实地防止液体的飞散，并且实现腔室间的基板搬送。基板处理装置包括：底座部(1541)，与腔室邻接地配置；机械手(155)，保持基板(S)；机械臂(1542)，被安装在底座部(1541)，支撑机械手并使其相对于底座部而水平移动，由此来使机械手进退移动；以及罩部(156)，在内部空间收容机械手。罩部具有：罩本体(1561)，形成内部空间；以及延伸构件(1562)，具有沿水平方向贯通且其中一端成为开口(1562a)的中空结构，在使开口连通于内部空间且能够沿水平方向移动的状态下，卡合于罩本体。
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