掩模配接器以及元件制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118068658A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202410317332.6

    申请日:2020-02-03

    Abstract: 本发明提供一种掩模配接器、其安装工具、曝光装置以及元件制造方法,可提高曝光装置的曝光精度。本发明的掩模配接器的一形态是在对支撑于平台的掩模进行照明而将形成于所述掩模的图案曝光于基板上的曝光装置中使用且安装于所述掩模的掩模配接器,其包括:本体部,包括在形成有所述图案的区域外支撑所述掩模的支撑部、及支撑于所述平台的被支撑部;以及第一被检测部,在所述本体部上,能够利用所述曝光装置的检测部来检测,并且所述第一被检测部包含与所述掩模配接器相关的信息。

    曝光装置
    3.
    发明公开
    曝光装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN120019334A

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202380071747.3

    申请日:2023-10-12

    Abstract: 本发明的目的在于,在保持基板的基板保持具上配置基板时,对如改变基板的方向而配置,或者配置多片基板的情形那样,以各种形态配置的基板的位置进行检测。曝光装置具备:保持部(201),保持多个基板;多个第一传感器(210),检测所述多个基板各自相对于所述保持部(201)的位置;载台部(121),配置所述多个基板;以及多个第二传感器(150),检测所述多个基板各自相对于所述载台部(121)的位置,所述多个第二传感器(150)的数量少于所述多个第一传感器(210)的数量。

    照明单元、曝光装置、及曝光方法

    公开(公告)号:CN119585677A

    公开(公告)日:2025-03-07

    申请号:CN202280098378.2

    申请日:2022-08-18

    Abstract: 照明单元具备:第一光源阵列(20A),排列有多个第一光源元件,所述第一光源元件具有第一发光部,所述第一发光部出射具有第一波长特性的光;第一放大光学系统(30A),形成所述第一光源元件各者的所述第一发光部的放大像;第一光学系统(81A),由来自所述第一放大光学系统的光入射;第二光源阵列(20B),排列有多个第二光源元件,所述第二光源元件具有第二发光部,所述第二发光部出射具有与所述第一波长特性不同的第二波长特性的光;第二放大光学系统(30B),形成所述第二光源元件各者的所述第二发光部的放大像;第二光学系统(81B),由来自所述第二放大光学系统的光入射;及合成光学元件(DM2),将来自所述第一光学系统的光、与来自所述第二光学系统的光进行合成,所述合成光学元件配置于作为所述第一光学系统的后侧焦点位置或其附近、且作为所述第二光学系统的后侧焦点位置或其附近的位置。

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