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公开(公告)号：CN1286349C
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN03801287.1
申请日：2003-02-20
IPC: H05H1/24 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/2462 , H05H2245/123
Abstract: 一种等离子体处理装置与等离子体处理方法，能够保持稳定的等离子体放电、实现充分的等离子体处理、降低等离子体温度。该等离子体处理装置包括多个电极，在多个电极之间形成一放电空间，并且一电介质材料设置于至少一个电极的放电空间一侧。一等离子体产生气体提供到放电空间中，且一电压作用于施加在电极之间，以在基本等于大气气压的气压下、在放电空间中产生放电，并且从放电空间提供由放电产生的等离子体。在该等离子体处理装置中，在电极之间施加的电压的波形是无静止期间的交流电压波形。该交流电压波形的上升和下降时间的至少一项为100μs或更短。重复频率在0.5至1000kHz的范围中。在电极之间施加的电场强度在0.5至200kV/cm的范围中。
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公开(公告)号：CN1611098A
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN03801287.1
申请日：2003-02-20
IPC: H05H1/24 , H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C16/509
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/2462 , H05H2245/123
Abstract: 一种等离子体处理装置与等离子体处理方法，能够保持稳定的等离子体放电、实现充分的等离子体处理、降低等离子体温度。该等离子体处理装置包括多个电极，在多个电极之间形成一放电空间，并且一电介质材料设置于至少一个电极的放电空间一侧。一等离子体产生气体提供到放电空间中，且一电压作用于施加在电极之间，以在基本等于大气气压的气压下、在放电空间中产生放电，并且从放电空间提供由放电产生的等离子体。在该等离子体处理装置中，在电极之间施加的电压的波形是无静止期间的交流电压波形。该交流电压波形的上升和下降时间的至少一项为100μs或更短。重复频率在0.5至1000kHz的范围中。在电极之间施加的电场强度在0.5至200kV/cm的范围中。
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公开(公告)号：CN101632327A
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200880005558.1
申请日：2008-02-13
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24 , B08B7/00 , H01L21/304 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32366 , B08B7/0035 , H01J37/32009 , H05H1/2406 , H05H2001/2418 , H05H2001/483
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置(A)，其通过放电使等离子体生成用气体(G)激活，并将该被激活的等离子体生成用气体(G)喷射在待处理物(H)上进行处理。在由陶瓷烧结体构成的绝缘基板(1)上埋设导电层(2)而形成覆盖电极(3)。将多个覆盖电极(3、3…)相对置地配置，使覆盖电极(3、3)之间形成放电空间(4)。具有电源(5)，其用于对导电层(2)外加电压，使在放电空间(4)产生放电。因为不进行陶瓷材料的热喷涂，因此可以实现覆盖电极(3)的材料的低成本或制造工艺的简化。与陶瓷热喷涂的覆膜相比，陶瓷烧结体的空隙率小且致密，因此在放电时不容易发生绝缘破坏。
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公开(公告)号：CN1294480A
公开(公告)日：2001-05-09
申请号：CN00130036.9
申请日：2000-10-25
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2456
Abstract: 一种等离子体处理装置,利用点火电极方便地启动装置而不使用昂贵的阻抗匹配设备,能可靠地产生大气压力等离子体。该装置包括:具有孔的产生等离子体的室,等离子体从该孔吹出;气体供应单元,用于将产生等离子体的气体送入室中;一对电极;电源,用于在电极之间施加交流电场以维持室内的等离子体;用于提供脉冲电压的脉冲发生器;以及点火电极,用于对室内所送入的气体施加脉冲电压以产生等离子体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1334694A
公开(公告)日：2002-02-06
申请号：CN01118648.8
申请日：2001-06-06
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/26 , H01L21/3065 , C23C14/22
CPC classification number: H01J37/32357
Abstract: 提供一种等离子体处理设备和一种等离子体处理方法,使用等离子体以高速均匀地处理物体。它包括:一个具有侧向延长横截面的管状容器;一对电极,当AC电压或脉冲电压之一加到电极之间时,电力线大体上在管状容器的轴向;一个气体供应源,用来给管状容器提供流光产生气;一个电源,用来给电极之间提供电压以在管状容器里产生气体的多种流光;和一个等离子体均匀装置,用来使多种流光在管状容器侧向延长横截面的侧向均匀。
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公开(公告)号：CN1700953A
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN200480001115.7
申请日：2004-05-26
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: B01J19/08 , C23C4/00 , H05H1/24 , H01L21/304 , H05K3/26
Abstract: 本发明公开一种等离子体处理装置，该等离子体处理装置能够每次处理较大面积，并具有良好的处理均匀性。该装置包括具有通孔的一对电极板和具有通孔的绝缘板。该绝缘板被设置于电极板之间，从而使得电极板的通孔位置对应于绝缘板的通孔位置。从而，由电极板的通孔和绝缘板的通孔形成多个放电空间。通过供应等离子体生成气体到放电空间中，并且在电极板之间施加电压，同时，在放电空间同时生成等离子体。通过将由此生成的等离子体喷射到待处理物体上，有效进行大面积等离子体处理。
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公开(公告)号：CN1170460C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN00130036.9
申请日：2000-10-25
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2456
Abstract: 一种等离子体处理装置，利用点火电极方便地启动装置而不使用昂贵的阻抗匹配设备，能可靠地产生大气压力等离子体。该装置包括：具有孔的产生等离子体的室，等离子体从该孔吹出；气体供应单元，用于将产生等离子体的气体送入室中；一对电极；电源，用于在电极之间施加交流电场以维持室内的等离子体；用于提供脉冲电压的脉冲发生器；以及点火电极，用于对室内所送入的气体施加脉冲电压以产生等离子体。以及一种使用该等离子体处理装置的等离子体产生方法，该方法包括步骤：将产生等离子体的气体送入所述室，再利用所述点火电极向实质上等于大气压力的压力下的所述气体供给脉冲电压，以便在所述室中产生等离子体。
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公开(公告)号：CN1323751C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200480001115.7
申请日：2004-05-26
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: B01J19/08 , C23C4/00 , H05H1/24 , H01L21/304 , H05K3/26
Abstract: 本发明公开一种等离子体处理装置，该等离子体处理装置能够每次处理较大面积，并具有良好的处理均匀性。该装置包括具有通孔的一对电极板和具有通孔的绝缘板。该绝缘板被设置于电极板之间，从而使得电极板的通孔位置对应于绝缘板的通孔位置。从而，由电极板的通孔和绝缘板的通孔形成多个放电空间。通过供应等离子体生成气体到放电空间中，并且在电极板之间施加电压，同时，在放电空间同时生成等离子体。通过将由此生成的等离子体喷射到待处理物体上，有效进行大面积等离子体处理。
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公开(公告)号：CN1165208C
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：CN01118648.8
申请日：2001-06-06
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/26 , H01L21/3065 , C23C14/22
CPC classification number: H01J37/32357
Abstract: 提供一种等离子体处理设备和一种等离子体处理方法，使用等离子体以高速均匀地处理物体。它包括：一个具有侧向延长横截面的管状容器；一对电极，当AC电压或脉冲电压之一加到电极之间时，电力线大体上在管状容器的轴向；一个气体供应源，用来给管状容器提供流光产生气；一个电源，用来给电极之间提供电压以在管状容器里产生气体的多种流光；和一个等离子体均匀装置，用来使多种流光在管状容器侧向延长横截面的侧向均匀。
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