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    等离子体处理装置和使用该装置的等离子体产生方法
    1.
    发明授权
    等离子体处理装置和使用该装置的等离子体产生方法 失效

    公开(公告)号：CN1170460C

    公开(公告)日：2004-10-06

    申请号：CN00130036.9

    申请日：2000-10-25

    Applicant: 松下电工株式会社

    Inventor： 田口典幸 ,  泽田康志 ,  山崎圭一 ,  中园佳幸 ,  猪冈结希子 ,  喜多山和也

    IPC: H05H1/24

    CPC classification number: H05H1/2406 ,  H05H2001/2456

    Abstract: 一种等离子体处理装置，利用点火电极方便地启动装置而不使用昂贵的阻抗匹配设备，能可靠地产生大气压力等离子体。该装置包括：具有孔的产生等离子体的室，等离子体从该孔吹出；气体供应单元，用于将产生等离子体的气体送入室中；一对电极；电源，用于在电极之间施加交流电场以维持室内的等离子体；用于提供脉冲电压的脉冲发生器；以及点火电极，用于对室内所送入的气体施加脉冲电压以产生等离子体。以及一种使用该等离子体处理装置的等离子体产生方法，该方法包括步骤：将产生等离子体的气体送入所述室，再利用所述点火电极向实质上等于大气压力的压力下的所述气体供给脉冲电压，以便在所述室中产生等离子体。

    等离子体处理装置
    2.
    发明公开
    等离子体处理装置 无效 转让

    公开(公告)号：CN101632327A

    公开(公告)日：2010-01-20

    申请号：CN200880005558.1

    申请日：2008-02-13

    Applicant: 松下电工株式会社

    Inventor： 柴田哲司 ,  田口典幸 ,  中园佳幸

    IPC: H05H1/24 ,  B08B7/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3065

    CPC classification number: H01J37/32366 ,  B08B7/0035 ,  H01J37/32009 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2418 ,  H05H2001/483

    Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置(A)，其通过放电使等离子体生成用气体(G)激活，并将该被激活的等离子体生成用气体(G)喷射在待处理物(H)上进行处理。在由陶瓷烧结体构成的绝缘基板(1)上埋设导电层(2)而形成覆盖电极(3)。将多个覆盖电极(3、3…)相对置地配置，使覆盖电极(3、3)之间形成放电空间(4)。具有电源(5)，其用于对导电层(2)外加电压，使在放电空间(4)产生放电。因为不进行陶瓷材料的热喷涂，因此可以实现覆盖电极(3)的材料的低成本或制造工艺的简化。与陶瓷热喷涂的覆膜相比，陶瓷烧结体的空隙率小且致密，因此在放电时不容易发生绝缘破坏。

    等离子体处理装置
    5.
    发明公开
    等离子体处理装置 无效 转让

    公开(公告)号：CN101959361A

    公开(公告)日：2011-01-26

    申请号：CN201010229204.4

    申请日：2010-07-13

    Applicant: 松下电工株式会社

    Inventor： 中园佳幸 ,  弓削政郎

    IPC: H05H1/24 ,  H05H1/28

    Abstract: 一种等离子体处理装置(A)，穿设有与包覆电极(3)及散热器(6)连通的定位用孔(B)。将螺栓(71)插通在该定位用孔(B)中，借此来正确且容易地实现包覆电极(3)的定位。另外，将螺旋弹簧(73)配设在螺栓(71)的头部(71a)与散热器(6)之间。借此，可使头部(71a)与散热器(6)之间具有由螺旋弹簧(73)的弹性力引起的余隙，从而可有包覆电极(3)进行变形的余地。

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