公开(公告)号：CN1611098A

公开(公告)日：2005-04-27

申请号：CN03801287.1

申请日：2003-02-20

Applicant: 松下电工株式会社 ,  株式会社高电研究所

Inventor： 田口典幸 ,  泽田康志 ,  松永浩一

IPC: H05H1/24 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  C23C16/509

CPC classification number: H05H1/2406 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2001/2462 ,  H05H2245/123

Abstract: 一种等离子体处理装置与等离子体处理方法，能够保持稳定的等离子体放电、实现充分的等离子体处理、降低等离子体温度。该等离子体处理装置包括多个电极，在多个电极之间形成一放电空间，并且一电介质材料设置于至少一个电极的放电空间一侧。一等离子体产生气体提供到放电空间中，且一电压作用于施加在电极之间，以在基本等于大气气压的气压下、在放电空间中产生放电，并且从放电空间提供由放电产生的等离子体。在该等离子体处理装置中，在电极之间施加的电压的波形是无静止期间的交流电压波形。该交流电压波形的上升和下降时间的至少一项为100μs或更短。重复频率在0.5至1000kHz的范围中。在电极之间施加的电场强度在0.5至200kV/cm的范围中。

公开(公告)号：CN1286349C

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN03801287.1

申请日：2003-02-20

Applicant: 松下电工株式会社 ,  株式会社高电研究所

Inventor： 田口典幸 ,  泽田康志 ,  松永浩一

IPC: H05H1/24 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H05H1/2406 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2001/2462 ,  H05H2245/123

Abstract: 一种等离子体处理装置与等离子体处理方法，能够保持稳定的等离子体放电、实现充分的等离子体处理、降低等离子体温度。该等离子体处理装置包括多个电极，在多个电极之间形成一放电空间，并且一电介质材料设置于至少一个电极的放电空间一侧。一等离子体产生气体提供到放电空间中，且一电压作用于施加在电极之间，以在基本等于大气气压的气压下、在放电空间中产生放电，并且从放电空间提供由放电产生的等离子体。在该等离子体处理装置中，在电极之间施加的电压的波形是无静止期间的交流电压波形。该交流电压波形的上升和下降时间的至少一项为100μs或更短。重复频率在0.5至1000kHz的范围中。在电极之间施加的电场强度在0.5至200kV/cm的范围中。